在纯铝表面形成纳米级多孔膜层的方法技术

本发明专利技术公开了一种在纯铝表面形成纳米级多孔膜层的方法，具有以下步骤：①对纯铝表面进行预处理；②将步骤①预处理后的纯铝作为阳极且与作为阴极的铂电极一起放入电化学抛光溶液中，并使阴阳极间距为50mm～70mm，然后在环境温度下，在80mA/cm2～160mA/cm2的电流密度下进行电化学抛光10s～90s，从而在纯铝表面形成纳米级多孔膜层；所述的电化学抛光溶液由1,2-丙二醇与高氯酸按照9∶1～2∶1的体积比组成；③对步骤②电化学抛光后的纯铝进行清洗和烘干。本发明专利技术通过电化学抛光在纯铝表面形成纳米级多孔膜层，大大缩短了多孔阳极氧化铝膜的生产周期，而且所得到的纳米级多孔膜层还具有范围大、高度有序等优点。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种在纯铝表面形成纳米级多孔膜层的方法，其特征在于具有以下步骤：①对纯铝表面进行预处理；②将步骤①预处理后的纯铝作为阳极且与作为阴极的铂电极一起放入电化学抛光溶液中，并使阴阳极间距为50mm～70mm，然后在环境温度下，在80mA/cm2～160mA/cm2的电流密度下进行电化学抛光10s～90s，从而在纯铝表面形成纳米级多孔膜层；所述的电化学抛光溶液由1,2?丙二醇与高氯酸按照9∶1～2∶1的体积比组成；③对步骤②电化学抛光后的纯铝进行清洗和烘干。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：马迪，李树白，陈祥燕，
申请(专利权)人：江苏理工学院，
类型：发明
国别省市：