一种长波通滤光片制造技术

本实用新型专利技术公开了一种长波通滤光片，涉及滤光片技术领域。本实用新型专利技术包括透明玻璃基板及透明玻璃基板上的46层膜，该46层膜由高折射率的二氧化钛TiO2膜层和低折射率的二氧化硅SiO2膜层多次交替堆叠组成。本实用新型专利技术在800－1100nm的红外光波段，其红外光透过率在96%以上，而在720nm以下的波段，其整体透过率小于0.5%，能有效截除次峰，不易产生光干扰问题；本实用新型专利技术能广泛应用于红外夜视仪，自然灾害、资源普查等遥感系统红外相机，以及多光谱成像仪，且能满足高精密红外仪器设备的要求。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种滤光片，特别涉及一种长波通滤光片。
技术介绍
目前，长波通滤光片，特别是800-1100nm长波通红外滤光片在红外夜视仪，自然灾害、资源普查等遥感系统红外相机，以及多光谱成像仪中有着广泛而重要的应用，主要用于对夜晚环境、气象、地质成像和光谱分析观测。在我国自然灾害遥感卫星技术规划中，也对长波通红外光学薄膜器件提出了研发需求。在现有技术中，长波通滤光片往往在透射波段内平均透射率难以达到90%，而截止波段透射率则高于1%，易出现次峰通带，易产生光干扰问题，因而难以满足高精密红外仪器设备对长波通滤光片要求以及市场发展的需要。
技术实现思路
本技术要解决的技术问题是针对上述现有技术的不足，提供一种800_1100nm透射波段的平均透射率高，截止波段的透射率低，能有效截除次峰，不易产生光干扰问题的长波通滤光片。为解决上述技术问题，本技术的技术方案是:一种长波通滤光片，包括透明玻璃基板及透明玻璃基板上的46层膜，该46层膜由高折射率的二氧化钛TiO2膜层和低折射率的二氧化硅SiO2膜层多次交替堆叠组成，该46层膜从内至外依次为:第I层，TiO2膜层，厚度为40.5-41nm;第2层，SiO2膜层，厚度为57-57.49nm ;第3层，TiO2膜层，厚度为107-107.4nm;第4层，SiO2膜层，厚度为80-80.4nm;第5层，TiO2膜层，厚度为48-48.4nm ;第6层，SiO2膜层，厚度为137-137.4nm ;第7层，TiO2膜层，厚度为69-69.4nm ;第 8 层，SiO2 膜层，厚度为 89.5_90nm ;第 9 层，TiO2 膜层，厚度为 60-60.4nm ；第10层，SiO2膜层，厚度为144-144.4nm ;第11层，TiO2膜层，厚度为55-55.4nm ;第12层，SiO2膜层，厚度为101-101.4nm ;第13层，TiO2膜层，厚度为81.5_82nm ;第14层，SiO2膜层，厚度为89.8-90.3nm ;第15层，TiO2膜层，厚度为67-67.4nm ;第16层，SiO2膜层，厚度为129-129.4nm ;第17层，TiO2膜层，厚度为59-59.4nm ;第18层，SiO2膜层，厚度为87.5-88nm ;第 19 层，TiO2 膜层，厚度为 85-85.49nm ;第 20 层，SiO2 膜层，厚度为 85.6_86nm ；第21层，TiO2膜层，厚度为48.5-49nm ;第22层，SiO2膜层，厚度为71.5_72nm ;第23层，TiO2膜层，厚度为44.5-45nm ;第24层，SiO2膜层，厚度为81-81.4nm ;第25层，TiO2膜层，厚度为46.5-47nm ;第26层，SiO2膜层，厚度为144.5_145nm ;第27层，TiO2膜层，厚度为47.5-48nm ;第 28 层，SiO2 膜层，厚度为 92.5_93nm ;第 29 层，TiO2 膜层，厚度为 55-55.4nm ；第30层，SiO2膜层，厚度为77-77.49nm ;第31层，TiO2膜层，厚度为33.5_34nm ;第32层，SiO2膜层，厚度为86-86.4nm ;第33层，TiO2膜层，厚度为55-55.4nm ;第34层，SiO2膜层，厚度为87.5-88nm ;第35层，TiO2膜层，厚度为49-49.4nm ;第36层，SiO2膜层，厚度为84-84.4nm ;第 37 层，TiO2 膜层，厚度为 41-41.4nm ;第 38 层，SiO2 膜层，厚度为 66-66.4nm ；第39层，TiO2膜层，厚度为55.5-56nm ;第40层，SiO2膜层，厚度为90.5-9Inm ;第41层，TiO2膜层，厚度为29.5-30nm ;第42层，SiO2膜层，厚度为67-67.5nm ;第43层，TiO2膜层，厚度为34-34.4nm ;第 44 层，SiO2 膜层，厚度为 64-64.5nm ;第 45 层，TiO2 膜层，厚度为 67.5_68nm ；第46层，SiO2膜层，厚度为176-176.49nm。本技术长波通滤光片的制造工艺包括:将透明玻璃基板置于精密真空镀膜机中，然后设定好膜层厚度参数，最后通过真空镀膜(例如蒸镀)方式形成所述的46层膜。镀膜之后的长波通滤光片在800 -1lOOnm的红外光波段，其红外光透过率在96%以上，而在720nm以下的波段，其整体透过率小于0.5%。本技术的有益效果是:本技术的膜层为46层，在800 -1lOOnm的红外光波段，其红外光透过率在96%以上，而在720nm以下的波段，其整体透过率小于0.5%，能有效截除次峰，不易产生光干扰问题；本技术能广泛应用于红外夜视仪，自然灾害、资源普查等遥感系统红外相机，以及多光谱成像仪，且能满足高精密红外仪器设备的要求。附图说明图1为本技术长波通滤光片的整体结构示意图。图2为本技术长波通滤光片的另一整体结构示意图。图3为本技术长波通滤光片进行光线透射测试的透射率特性图。具体实施方式以下结合附图对本技术的结构原理和工作原理作进一步详细说明。如图1所示，在该具体实施方式中，该长波通滤光片100，包括透明玻璃基板I及透明玻璃基板上的46层膜2，该46层膜2由高折射率的二氧化钛TiO2膜层21和低折射率的二氧化硅SiO2膜层22多次交替堆叠组成，该46层膜2从内至外依次为 第I层，TiO2膜层，厚度为40.5-41nm;第2层，SiO2膜层，厚度为57-57.49nm ;第3层，TiO2膜层，厚度为107-107.4nm;第4层，SiO2膜层，厚度为80-80.4nm;第5层，TiO2膜层，厚度为48-48.4nm ;第6层，SiO2膜层，厚度为137-137.4nm ;第7层，TiO2膜层，厚度为69-69.4nm ;第 8 层，SiO2 膜层，厚度为 89.5_90nm ;第 9 层，TiO2 膜层，厚度为 60-60.4nm ；第10层，SiO2膜层，厚度为144-144.4nm ;第11层，TiO2膜层，厚度为55-55.4nm ;第12层，SiO2膜层，厚度为101-101.4nm ;第13层，TiO2膜层，厚度为81.5_82nm ;第14层，SiO2膜层，厚度为89.8-90.3nm ;第15层，TiO2膜层，厚度为67-67.4nm ;第16层，SiO2膜层，厚度为129-129.4nm ;第17层，TiO2膜层，厚度为59-59.4nm ;第18层，SiO2膜层，厚度为87.5-88nm ;第 19 层，TiO2 膜层，厚度为 85-85.49nm ;第 20 层，SiO2 膜层，厚度为 85.6_86nm ；第21层，TiO2膜层，厚度为48.5-49nm ;第22层，SiO2膜层，厚度为71.5_72nm ;第23层，TiO2膜层，厚度为44.5-45nm ;第24层，SiO2膜层，厚度为81-81.4nm ;第25层，TiO2膜层，厚度为46.5-47nm ;第26层，SiO2膜层，厚度为144.5_145nm ;第27层，TiO2膜层，厚度为47.5-48nm ;第 28 层，SiO2本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种长波通滤光片，其特征在于：包括透明玻璃基板及透明玻璃基板上的46层膜，该46层膜由高折射率的二氧化钛TiO2膜层和低折射率的二氧化硅SiO2膜层多次交替堆叠组成，该46层膜从内至外依次为：第1层，TiO2膜层，厚度为40.5?41nm；第2层，SiO2膜层，厚度为57?57.49nm；第3层，TiO2膜层，厚度为107?107.4nm；第4层，SiO2膜层，厚度为80?80.4nm；第5层，TiO2膜层，厚度为48?48.4nm；第6层，SiO2膜层，厚度为137?137.4nm；第7层，TiO2膜层，厚度为69?69.4nm；第8层，SiO2膜层，厚度为89.5?90nm；第9层，TiO2膜层，厚度为60?60.4nm；第10层，SiO2膜层，厚度为144?144.4nm；第11层，TiO2膜层，厚度为55?55.4nm；第12层，SiO2膜层，厚度为101?101.4nm；第13层，TiO2膜层，厚度为81.5?82nm；第14层，SiO2膜层，厚度为89.8?90.3nm；第15层，TiO2膜层，厚度为67?67.4nm；第16层，SiO2膜层，厚度为129?129.4nm；第17层，TiO2膜层，厚度为59?59.4nm；第18层，SiO2膜层，厚度为87.5?88nm；第19层，TiO2膜层，厚度为85?85.49nm；第20层，SiO2膜层，厚度为85.6?86nm；第21层，TiO2膜层，厚度为48.5?49nm；第22层，SiO2膜层，厚度为71.5?72nm；第23层，TiO2膜层，厚度为44.5?45nm；第24层，SiO2膜层，厚度为81?81.4nm；第25层，TiO2膜层，厚度为46.5?47nm；第26层，SiO2膜层，厚度为144.5?145nm；第27层，TiO2膜层，厚度为47.5?48nm；第28层，SiO2膜层，厚度为92.5?93nm；第29层，TiO2膜层，厚度为55?55.4nm；第30层，SiO2膜层，厚度为77?77.49nm；第31层，TiO2膜层，厚度为33.5?34nm；第32层，SiO2膜层，厚度为86?86.4nm；第33层，TiO2膜层，厚度为55?55.4nm；第34层，SiO2膜层，厚度为87.5?88nm；第35层，TiO2膜层，厚度为49?49.4nm；第36层，SiO2膜层，厚度为84?84.4nm；第37层，TiO2膜层，厚度为41?41.4nm；第38层，SiO2膜层，厚度为66?66.4nm；第39层，TiO2膜层，厚度为55.5?56nm；第40层，SiO2膜层，厚度为90.5?91nm；第41层，TiO2膜层，厚度为29.5?30nm；第42层，SiO2膜层，厚度为67?67.5nm；第43层，TiO2膜层，厚度为34?34.4nm；第44层，SiO2膜层，厚度为64?64.5nm；第45层，TiO2膜层，厚度为67.5?68nm；第46层，SiO2膜层，厚度为176?176.49nm。...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：奂微微，黄兴桥，
申请(专利权)人：东莞五方光电科技有限公司，
类型：实用新型
国别省市：