一种红外窄带带通滤光片制造技术

本实用新型专利技术公开了一种红外窄带带通滤光片，涉及滤光片技术领域。本实用新型专利技术包括透明玻璃基板及透明玻璃基板上的53层膜，该53层膜由高折射率的二氧化钛TiO2膜层和低折射率的二氧化硅SiO2膜层多次交替堆叠组成。本实用新型专利技术在800－900nm的红外光波段，其红外光透过率达到98%，而在400-760nm的可见光波段以及950-1100nm的红外光波段，其整体透过率小于0.5%，能有效截除次峰，并且，本实用新型专利技术无须用到镉、铅等物质，环保而符合ROHS要求；本实用新型专利技术能广泛应用于生物医药、红外成像，红外探测，红外传感，红外测温，以及3D游戏红外成像等领域。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种滤光片，特别涉及一种红外窄带带通滤光片。
技术介绍
目前，生物医药、红外成像，红外探测，红外传感，红外测温等领域需要使用到800-900nm红外光导通的红外窄带带通滤光片。在现有技术中，此种红外窄带带通滤光片主要存在两个缺陷，其一、在400-760nm的可见光波段以及950_1100nm的红外光波段容易出现次峰通带，从而产生光干扰问题；其二、现有红外窄带带通滤光片经常使用有色玻璃材料制成，在其显色过程中，须用到镉、铅等物质，而这些物质在ROHS标准中是明确限制用量的物质，因而不符合环保的要求。
技术实现思路
本技术要解决的技术问题是针对上述现有技术的不足，提供一种环保，能有效截除次峰，且在800-900nm具有较高红外光透过率的红外窄带带通滤光片。为解决上述技术问题，本技术的技术方案是:一种红外窄带带通滤光片，包括透明玻璃基板及透明玻璃基板上的53层膜，该53层膜由高折射率的二氧化钛TiO2膜层和低折射率的二氧化硅SiO2膜层多次交替堆叠组成，该53层膜从内至外依次为:第I层，TiO2膜层，厚度为100.5-101nm ;第2层，SiO2膜层，厚度为264.5_265nm ;第3层，TiO2膜层，厚度为91-91.4nm ;第4层，SiO2膜层，厚度为218-218.4nm ;第5层，TiO2膜层，厚度为107-107.4nm;第6层，SiO2膜层，厚度为168.5_169nm;第7层，TiO2膜层，厚度为109-109.4nm ;第8层，SiO2膜层，厚度为252-252.4nm ;第9层，TiO2膜层，厚度为99-99.49nm ;第10层，SiO2膜层，厚度为174-174.45nm ;第11层，TiO2膜层，厚度为89.6-90nm ;第12层，SiO2膜层，厚度为134-134.4nm ;第13层，TiO2膜层，厚度为163.5-163.8nm;第14层，SiO2膜层，厚度为183.5_184nm ;第15层，TiO2膜层，厚度为134-134.3nm;第16层，SiO2膜层，厚度为165-165.49nm ;第17层，TiO2膜层，厚度为97.5-98nm;第18层，SiO2膜层，厚度为116-116.49nm ;第19层，TiO2膜层，厚度为72-72.3nm ;第 20 层，SiO2 膜层，厚度为 92-92.4nm ;第 21 层，TiO2 膜层，厚度为 69.5_70nm ；第22层，SiO2膜层，厚度为118-118.49nm;第23层，TiO2膜层，厚度为82-82.49nm ;第24层，SiO2膜层，厚度为132-132.49nm ;第25层，TiO2膜层，厚度为79.5_80nm ;第26层，SiO2膜层，厚度为115.5-116nm ;第27层，TiO2膜层，厚度为78-78.3nm ;第28层，SiO2膜层，厚度为104.5-105nm ;第29层，TiO2膜层，厚度为63.5_64nm ;第30层，SiO2膜层，厚度为107.5-108nm ;第31层，TiO2膜层，厚度为68-68.4nm ;第32层，SiO2膜层，厚度为95.6-96nm ;第 33 层，TiO2 膜层，厚度为 44.6_45nm ;第 34 层，SiO2 膜层，厚度为 74.5_75nm ；第35层，TiO2膜层，厚度为64-64.4nm ;第36层，SiO2膜层，厚度为106-106.3nm ;第37层，TiO2膜层，厚度为56.6-57nm ;第38层，SiO2膜层，厚度为82.5_83nm ;第39层，TiO2膜层，厚度为53-53.5nm ;第40层，SiO2膜层，厚度为89-89.4nm ;第41层，TiO2膜层，厚度为40-40.4nm ;第 42 层，SiO2 膜层，厚度为 52.6_53nm ;第 43 层，TiO2 膜层，厚度为 52-52.49nm ；第44层，SiO2膜层，厚度为83.5-84nm ;第45层，TiO2膜层，厚度为43-43.4nm ;第46层，SiO2膜层，厚度为74.5-75nm ;第47层，TiO2膜层，厚度为50-50.3nm ;第48层，SiO2膜层，厚度为80-80.49nm ;第 49 层，TiO2 膜层，厚度为 49.5_50nm ;第 50 层，SiO2 膜层，厚度为 92-92.4nm ；第51层，TiO2膜层，厚度为109-109.4nm ;第52层，SiO2膜层，厚度为90.6-9Inm ;第53层，TiO2膜层，厚度为29.6-30nm。本技术红外窄带带通滤光片的制造工艺包括:将透明玻璃基板置于精密真空镀膜机中，然后设定好膜层厚度参数，最后通过真空镀膜(例如蒸镀)方式形成所述的53层膜。镀膜之后的红外窄带带通滤光片在800 - 900nm的红外光波段，其红外光透过率达到98%，而在400-760nm的可见光波段以及950-1 IOOnm的红外光波段，其整体透过率小于0.5%。本技术的有益效果是:本技术的膜层为53层，在800 - 900nm的红外光波段，其红外光透过率达到98%，而在400-760nm的可见光波段以及950-1 IOOnm的红外光波段，其整体透过率小于0.5%，能有效截除次峰，并且，本技术无须用到镉、铅等物质，环保而符合ROHS要求；本技术能广泛应用于生物医药、红外成像，红外探测，红外传感，红外测温，以及3D游戏红外成像等领域。附图说明图1为本技术红外窄带带通滤光片的整体结构示意图。图2为本技术红外窄带带通滤光片的另一整体结构示意图。图3为本技术红外窄带带通滤光片进行光线透射测试透射率特性图。图中:100.红外窄带带通滤光片；1.透明玻璃基板；2.53层膜；21.TiO2膜层；22.SiO2月旲层；3.磨fe层。具体实施方式以下结合附图对本技术的结构原理和工作原理作进一步详细说明。如图1所示，在该具体实施方式中，该红外窄带带通滤光片，包括透明玻璃基板及透明玻璃基板上的53层膜，该53层膜由高折射率的二氧化钛TiO2膜层和低折射率的二氧化硅SiO2膜层多次交替堆叠组成，该53层膜从内至外依次为:第I层，TiO2膜层，厚度为100.5-101nm ;第2层，SiO2膜层，厚度为264.5_265nm ;第3层，TiO2膜层，厚度为91-91.4nm ;第4层，SiO2膜层，厚度为218-218.4nm ;第5层，TiO2膜层，厚度为107-107.4nm ;第6层，SiO2膜层，厚度为168.5_169nm ;第7层，TiO2膜层，厚度为109-109.4nm ;第8层，SiO2膜层，厚度为252-252.4nm ;第9层，TiO2膜层，厚度为99-99.49nm ;第10层，SiO2膜层，厚度为174-174.45nm ;第11层，TiO2膜层，厚度为89.6-90nm ;第12层，SiO2膜层，厚度为134-134.4nm ;第13层，TiO2膜层，厚度为163.5-163.8nm ;第 14 层，SiO2 膜层，厚度为 183.5_184nm ;第 15 层，TiO2 膜层，厚度为134-134.3nm;第16层，SiO2膜层，厚度为16本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种红外窄带带通滤光片，其特征在于：包括透明玻璃基板及透明玻璃基板上的53层膜，该53层膜由高折射率的二氧化钛TiO2膜层和低折射率的二氧化硅SiO2膜层多次交替堆叠组成，该53层膜从内至外依次为：第1层，TiO2膜层，厚度为100.5?101nm；第2层，SiO2膜层，厚度为264.5?265nm；第3层，TiO2膜层，厚度为91?91.4nm；第4层，SiO2膜层，厚度为218?218.4nm；第5层，TiO2膜层，厚度为107?107.4nm；第6层，SiO2膜层，厚度为168.5?169nm；第7层，TiO2膜层，厚度为109?109.4nm；第8层，SiO2膜层，厚度为252?252.4nm；第9层，TiO2膜层，厚度为99?99.49nm；第10层，SiO2膜层，厚度为174?174.45nm；第11层，TiO2膜层，厚度为89.6?90nm；第12层，SiO2膜层，厚度为134?134.4nm；第13层，TiO2膜层，厚度为163.5?163.8nm；第14层，SiO2膜层，厚度为183.5?184nm；第15层，TiO2膜层，厚度为134?134.3nm；第16层，SiO2膜层，厚度为165?165.49nm；第17层，TiO2膜层，厚度为97.5?98nm；第18层，SiO2膜层，厚度为116?116.49nm；第19层，TiO2膜层，厚度为72?72.3nm；第20层，SiO2膜层，厚度为92?92.4nm；第21层，TiO2膜层，厚度为69.5?70nm；第22层，SiO2膜层，厚度为118?118.49nm；第23层，TiO2膜层，厚度为82?82.49nm；第24层，SiO2膜层，厚度为132?132.49nm；第25层，TiO2膜层，厚度为79.5?80nm；第26层，SiO2膜层，厚度为115.5?116nm；第27层，TiO2膜层，厚度为78?78.3nm；第28层，SiO2膜层，厚度为104.5?105nm；第29层，TiO2膜层，厚度为63.5?64nm；第30层，SiO2膜层，厚度为107.5?108nm；第31层，TiO2膜层，厚度为68?68.4nm；第32层，SiO2膜层，厚度为95.6?96nm；第33层，TiO2膜层，厚度为44.6?45nm；第34层，SiO2膜层，厚度为74.5?75nm；第35层，TiO2膜层，厚度为64?64.4nm；第36层，SiO2膜层，厚度为106?106.3nm；第37层，TiO2膜层，厚度为56.6?57nm；第38层，SiO2膜层，厚度为82.5?83nm；第39层，TiO2膜层，厚度为53?53.5nm；第40层，SiO2膜层，厚度为89?89.4nm；第41层，TiO2膜层，厚度为40?40.4nm；第42层，SiO2膜层，厚度为52.6?53nm；第43层，TiO2膜层，厚度为52?52.49nm；第44层，SiO2膜层，厚度为83.5?84nm；第45层，TiO2膜层，厚度为43?43.4nm；第46层，SiO2膜层，厚度为74.5?75nm；第47层，TiO2膜层，厚度为50?50.3nm；第48层，SiO2膜层，厚度为80?80.49nm；第49层，TiO2膜层，厚度为49.5?50nm；第50层，SiO2膜层，厚度为92?92.4nm；第51层，TiO2膜层，厚度为109?109.4nm；第52层，SiO2膜层，厚度为90.6?91nm；第53层，TiO2膜层，厚度为29.6?30nm。...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：奂微微，黄兴桥，
申请(专利权)人：东莞五方光电科技有限公司，
类型：实用新型
国别省市：