均匀电镀试验槽制造技术

技术编号:9097312 阅读:146 留言:0更新日期:2013-08-29 06:14
本实用新型专利技术涉及一种电镀槽,具体是一种均匀电镀试验槽。包括槽体、阳极和阴极,其特征在于:所述阳极和阴极采用平板结构,所述阳极和阴极相互平行设置。由于本试验槽中的阳极和阴极采用平板结构,并且以相互平行的方式设置,因此在阳极和阴极之间的形成一个均匀的电场,电离子在电场中也呈均匀分布,从而电镀所得的镀层标准样品上的电镀层也非常均匀,能够达到对镀层标准样品镀层要求。(*该技术在2023年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种均匀电镀试验槽,包括槽体、阳极和阴极,其特征在于:所述阳极和阴极采用平板结构,所述阳极和阴极相互平行设置。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:张加民
申请(专利权)人:温州市工业科学研究院
类型:实用新型
国别省市:

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