使用改进的离子注入的静电阱质谱仪制造技术

公开了一种分析静电阱（14）中的质谱分析的方法。静电阱（14）限定静电场体积，并且包括具有静止的非倾斜电势的阱电极。该方法包括将连续的离子束注入到静电场体积中。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：A·韦列奇科夫，
申请(专利权)人：莱克公司，
类型：
国别省市：