【技术实现步骤摘要】
【技术保护点】
一种在HEM晶体生长中重复使用钼坩埚的方法,其特征在于:它包含以下步骤:(1)、利用喷砂机对钼坩埚进行喷砂处理,去除钼坩埚表面的涂层;(2)、处理后,将钼坩埚清洗烘干;(3)、对钼坩埚进行熔射,使用喷枪设备以金属钨粉、钨丝、含量35%钨的钨钼合金丝或碳粉为喷涂材料对钼坩埚进行喷涂,直至钼坩埚表面形成一层厚度为0.1?1mm的涂层;(4)、熔射后进行打磨,使钼坩埚表面粗糙度达到3.2;(5)、晶体生长完成后,利用热涨冷缩原理,加热后取出晶体,重复以上步骤。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员:季泳,张龚磊,
申请(专利权)人:贵阳嘉瑜光电科技咨询中心,
类型:发明
国别省市:
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