液晶介质制造技术

本发明专利技术涉及一种液晶介质，特征在于其包含一种或多种式IA化合物，和一种或多种式IB化合物，其中RA、RB、XA、XB和Y1-13具有权利要求1中所述含义，和涉及其用于电光学目的，特别是用于快门眼镜，用于3D应用，用于TN、PS-TN、STN、TN-TFT、OCB、IPS、PS-IPS、FFS、PS-FFS和PS-VA-IPS显示器中的用途。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：H·海尔施曼，S·施恩，
申请(专利权)人：默克专利股份有限公司，
类型：
国别省市：