薄膜晶体管制造技术

技术编号:9061574 阅读:248 留言:0更新日期:2013-08-22 00:46
本发明专利技术是有关于一种薄膜晶体管,其包括栅极、半导体层、绝缘层、源极、漏极以及电流抑制层。绝缘层配置于栅极与半导体层之间。源极连接至半导体层。漏极连接至半导体层,其中源极与漏极彼此分离配置。电流抑制层具有第一部分与第二部分,其中第一部分配置于半导体层与至少部分源极之间,且第二部分配置于半导体层与至少部分漏极之间。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种薄膜晶体管,其特征在于其包括:栅极;半导体层;绝缘层,配置于该栅极与该半导体层之间;源极,连接至该半导体层;漏极,连接至该半导体层,其中该源极与该漏极彼此分离配置;以及电流抑制层,具有第一部分与第二部分,其中该第一部分配置于该半导体层与至少部分该源极之间,且该第二部分配置于该半导体层与至少部分该漏极之间。

【技术特征摘要】
...

【专利技术属性】
技术研发人员:王裕霖叶佳俊蔡学宏辛哲宏
申请(专利权)人:元太科技工业股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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