透明层形成聚合物制造技术

根据本发明专利技术的实施方案提供形成可用于制造各种类型的光电子显示器的层/膜的聚合物。这些实施方案还提供此类聚合物的用于形成此类层/膜的组合物，其中所形成的层/膜在可见光光谱内具有高透光度。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
下文公开的实施方案总体上涉及形成可用于制造各种类型的显示器的层/膜的聚合物，更特别是形成此类在可见光光谱内具有高透光度的层/膜的降冰片烯型聚合物和其组合物。
技术介绍
在液晶显示器、有机发光二极管显示器及其它光电子器件的制造中，仍需要形成许多不同的透明有机和无机层。例如，IXD通常涵盖滤色器层、偏振层、平整层、防刮擦层等。因为这些显示器的制造方法持续进展，用于这些层的材料通常也必须进展或改变以满足由上述进展引起的更苛刻要求。因此，仍需要可以满足这些进展的要求的透明层。
技术实现思路
详细描述将参照下文中提供的实施例和权利要求描述根据本公开内容的示例性的实施方案。本文描述的这些示例性实施方案的各种改进、改编或变型由于这些实施方案被公开的缘故而对本领域技术人 员是显而易见的。应当理解，依赖于本专利技术教导的、和这些教导经由它们已经推进技术进行的所有这些改进、改编或变型认为在本专利技术范围和精神内。本文所使用的冠词〃 一个(a) 〃、〃 一种(an) 〃和〃该(所述)〃包括复数指示，除非另外特意且明确地限于一个(一种)的指示。因为本文和所附权利要求中针对成分、反应条件等的量所使用的所有数字、数值和/或表述经历获得这些数值中遇到的各种测量不确定性，所以除非另有说明，所有这些应理解为在一切情况下由术语“大约”修饰。本文所使用的聚合物的分子量值，例如重均分子量(Mw)和数均分子量(Mn)是通过凝胶渗透色谱使用聚苯乙烯标准样品测定的。当在本文使用时且除非另有说明，当提供聚合物玻璃化转变温度(Tg)值时，它们是通过差示扫描量热法根据美国试验和材料协会(ASTM)方法编号D3418测定的。当在本文使用时且除非另有说明，当提供聚合物分解温度(Td)时，它们将理解为是通过热重分析以10°c /分钟的加热速率在氮气下测定的、当特定重量百分率)的聚合物已经测定为已经分解(通过蒸发损失)时的温度。术语Tdl、Td5、Td5(l和Td95指示聚合物的Iwt %、5wt %、50wt %和95wt%已经分解时的温度。当本文公开数值范围时，此种范围是连续的，包括该范围的最小值和最大值以及在此种最小值和最大值之间的每个值。更进一步，当范围是指整数时，包括在此种范围的最小值和最大值之间的每个整数。另外，当提供多个范围以描述特征或特性时，这些范围可以组合。就是说，除非另有说明，本文公开的所有范围应当理解为涵盖包含在其中的任何以及所有子范围。例如，给定的范围"I到10"应该认为包括介于最小值I和最大值10间的任何以及所有子范围。范围1-10的示例性的子范围包括，但不限于，1-6.1,3.5-7.8和5.5-10。本文所使用的短语“透明聚合物”、“透明层”或“透明膜”将理解为是指对400nm-750nm(可见光范围)的辐射基本上透明的聚合物、层或膜。就是说，此种透明聚合物或透明层将允许在上述范围中的可见光的至少95%透射穿过。虽然本文提及在整个可见光光谱内的透射，但是％透光度的实际测量在400nm下进行，因为在可见光光谱下限的光的透射一般比更高波长的光的透射更成问题。本文所使用的“烃基”是指仅含碳和氢的烃基，非限制性实例是烷基、环烷基、链烯基、环烯基、炔基、芳基、芳烷基和烷芳基。本文所使用的术语“烷基”和“环烷基”分别是指具有C1-C25的合适的碳链长度的无环或环状饱和烃基。适合的烷基的非限制性实例包括，但不限于，-CH3、_(CH2)3CH3、_(CH2)4CH3、- (CH2) 5CH3、- (CH2) 9CH3、- (CH2) 23CH3、环戊基、甲基环戊基、环己基和甲基环己基。 本文所使用的术语“链烯基”和“环烯基”分别是指具有至少一个碳-碳双键和C2-C25的合适的碳链长度的无环或环状饱和烃基。非限制性实例尤其包括乙烯基和衍生自丙烯、丁烯、环戊烯、环己烯和异丙基异戊二烯基的基团。本文所使用的术语“芳基”是指包括，但不限于诸如苯基、联苯基、苄基和二甲苯基的基团的芳族烃基。术语“烷芳基”或“芳烷基”在本文中可互换地使用并是指取代有至少一个烷基、环烷基、链烯基或环烯基的芳族烃基，例如，衍生自甲苯、丁基苯、环己基苯和1，2_ 二氢-1，I’ -联苯的基团。本文所使用的“卤代烃基”是指其中的至少一个氢已经用卤素替换的任何此前所述的烃基，“全卤代烃基”相应地是指其中所有氢已经用卤素替换的此类烃基，例如五氟苯。本文所使用的术语〃杂烃基〃是指其中的至少一个碳原子用N、0、S、Si或P替换的任何此前描述的烃基。非限制性实例包括杂环的芳族基团例如吡咯基、呋喃基和pyridenyl以及非芳族基团例如环氧类、醇、醚、硫醚和甲硅烷基醚。此外，应当理解，术语“烃基”是通用术语，包括更具体的术语齒代烃基、全齒代烃基和杂烃基。此外，应当理解，任何这样的结构部分可以进一步被取代，且当合适时，在碳原子的数目、直链、支链或环状方面选取合适的。适合的取代基的非限制性实例尤其包括羟基、环氧基、苄基、羧酸和羧酸酯基团、酰胺和酰亚胺。更进一步，应当理解，术语“亚烃基”是指通过从任何上述烃基除去氢原子而形成的二价基团。术语“降冰片烯型”在本文中用来是指根据下面所示的结构I的单体，或由至少一种这样的降冰片烯型单体形成的并因此具有至少一个根据结构2 (也显示如下)的重复单元的聚合物材料:权利要求1.层形成聚合物，其包含各自由式A表示的第一类型的降冰片烯型重复单元和第二类型的降冰片烯型重复单元，这些类型的重复单元衍生自由式Al表示的降冰片烯型单体:2.权利要求1的层形成聚合物，其中对于所述第一类型的重复单元，和#之一是由式B、C或D之一表不的可交联烃基侧基:3.权利要求2的层形成聚合物，其中所述可交联侧基由式B或式C表示:4.权利要求1的层形成聚合物，其中对于所述第二类型的重复单元，和#之一是由式E、F、G或H之一表示的烃基侧基，和Ra、Rb、Rc和Rd中的其它是氢:5.权利要求4的层形成聚合物，其中所述烃基侧基由式E表示，其中R'R1和R2中的每一个是氟:6.权利要求4的层形成聚合物，其中所述烃基侧基由式H表示，其中η是1、2或3，R1和R2各自是-CF3且每个R*是氢:7.权利要求1的层形成聚合物，其中所述可交联侧基由式I表示和所述具有高透光度的侧基由式2表不:8.权利要求1的层形成聚合物，其中所述可交联侧基由式I表示和所述具有高透光度的侧基由式3表不:9.权利要求1的层形成聚合物，其中所述可交联侧基由式I表示和所述具有高透光度的侧基由式4表示:10.权利要求1的层形成聚合物，其中所述可交联侧基由式I表示和所述具有高透光度的侧基由式5表不:11.权利要求7、8、9或10中任一项的层形成聚合物，其中所述可交联侧基由式6或式7表示:12.权利要求1的层形成聚合物，包含具有可交联侧基的第一类型的重复单元，所述可交联侧基选自由式1、6或7表示的基团:13.权利要求1-12中任一项的层形成组合物，还包含浇铸溶剂。14.权利要求13的层形成组合物，其中所述浇铸溶剂选自N-甲基吡咯烷酮(NMP)、Y-丁内酯(GBL)、N，N-二甲基乙酰胺(DMA)、二甲基亚砜(DMSO)、二甘醇二甲醚、二甘醇二丁醚、丙二醇单甲醚(PGME)、丙二醇单甲醚乙酸酯(PGMEA)、乳酸甲酯、乳酸乙酯、乳酸丁酯、甲基本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：大西治，L·F·罗兹，田头宣雄，
申请(专利权)人：普罗米鲁斯有限责任公司，住友电木株式会社，
类型：
国别省市：