本发明专利技术提供一种光阻涂布装置及其涂布方法，其中光阻涂布装置包括：喷嘴，所述喷嘴包括相对设置的第一喷嘴分体、第二喷嘴分体以及将所述第一喷嘴分体和第二喷嘴分体安装固定的顶板，所述第一喷嘴分体和第二喷嘴分体之间形成狭缝，在所述第一喷嘴分体的操作面的中部设有第一光阻注入管，所述第一光阻注入管贯穿所述第一喷嘴分体，与所述狭缝连通，在所述第一喷嘴分体的操作面上还设有两个第二光阻注入管，分别位于所述第一光阻注入管的两侧，所述第二光阻注入管贯穿所述第一喷嘴分体，与所述狭缝连通。通过增设第二光阻注入管，增加了狭缝两侧的光阻注入量，使得吐出的光阻量保持大体一致，从而确保光阻涂布到基板上的均匀度，提高涂布品质。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及液晶显示器制造领域，尤其涉及。
技术介绍
在液晶显示器IXD的制造过程中，需要使用光阻涂布装置在玻璃基板上涂上一定厚度的光阻(photo resist).请参照图1和图2所示，现有的光阻涂布装置包括喷嘴I’，该喷嘴I’包括相对设置的第一喷嘴分体11’、第二喷嘴分体12’以及将第一喷嘴分体11’和第二喷嘴分体12’安装固定的顶板13’，第一喷嘴分体11’和第二喷嘴分体12’之间形成狭缝10’，狭缝10’的底部为光阻吐出口 100’(如图2所示的阴影部分即为光阻)，第一喷嘴分体11’和第二喷嘴分体12’的底部分别形成椎体。在第一喷嘴分体11’的操作面111’的中部设有光阻注入管112’，在光阻注入管112’的上方还设有排泡管113’，此外，在操作面111’的两侧也分别设有排泡管113’，排泡管113’用于将光阻注入时可能产生的气泡排出。光阻注入管112’和排泡管113’均贯穿第一喷嘴分体11’，与狭缝10’连通。在光阻注入管112’与狭缝10’相接处，设有空腔110’，设在第一喷嘴分体11’中部的排泡管113’也与该空腔110’连通。再请参照图3所示，为光阻涂布时狭缝10’区域光阻流动状况示意图。光阻流动方向如图中箭头所示。当进行涂布时，来自光阻注入泵(Pump)的光阻通过光阻注入管112’注入，在涂布开始阶段，光阻注入泵处于加速状态，光阻流速受泵力作用也处于加速状态，在光阻注入管112’附近压力较大，光阻向两侧流动，光阻充满整个光阻注入区，光阻注入区呈锥形分布。光阻渗透区位于狭缝10’底部，光阻通过光阻吐出口 100’吐出，涂布到基板上。上述光阻涂布装置 及方式的缺陷在于，由于在中部注入光阻，在光阻注入管112’附近压力较大，经过光阻渗透区吐出(例如从图1、图3所示C处周围吐出)的光阻量相对较大，而两侧由于压差关系，压力较小，经过光阻渗透区吐出(例如从图1、图3所示A、B处周围吐出)的光阻量相对较小，造成的后果就是，使涂布到基板上的光阻均匀度较差，降低了涂布品质。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题在于，提供一种提高光阻涂布均匀度和品质的光阻涂布装置及其涂布方法。为了解决上述技术问题，本专利技术提供一种光阻涂布装置，包括:喷嘴，所述喷嘴包括相对设置的第一喷嘴分体、第二喷嘴分体以及将所述第一喷嘴分体和第二喷嘴分体安装固定的顶板，所述第一喷嘴分体和第二喷嘴分体之间形成狭缝，在所述第一喷嘴分体的操作面的中部设有第一光阻注入管，所述第一光阻注入管贯穿所述第一喷嘴分体，与所述狭缝连通，在所述第一喷嘴分体的操作面上还设有两个第二光阻注入管，分别位于所述第一光阻注入管的两侧，所述第二光阻注入管贯穿所述第一喷嘴分体，与所述狭缝连通。其中，所述第二光阻注入管的口径小于所述第一光阻注入管。其中，所述第二光阻注入管上设有控制阀，用于控制所述第二光阻注入管内光阻的流量。其中，所述第一光阻注入管和第二光阻注入管均连接到光阻注入泵上。其中，所述第一光阻注入管和第二光阻注入管的上方均分别设有用于排出气泡的排泡管。其中，在所述第一光阻注入管与所述狭缝连通处，设有第一空腔，设在所述第一光阻注入管上方的排泡管贯穿所述第一喷嘴分体，与所述第一空腔连通。其中，在所述第二光阻注入管与所述狭缝连通处，设有第二空腔，设在所述第二光阻注入管上方的排泡管贯穿所述第一喷嘴分体，与所述第二空腔连通。本专利技术还提供一种光阻涂布装置的涂布方法，所述光阻涂布装置包括喷嘴，所述喷嘴包括相对设置的第一喷嘴分体、第二喷嘴分体以及将所述第一喷嘴分体和第二喷嘴分体安装固定的顶板，所述第一喷嘴分体和第二喷嘴分体之间形成狭缝，在所述第一喷嘴分体的操作面的中部设有第一光阻注入管，所述第一光阻注入管贯穿所述第一喷嘴分体，与所述狭缝连通；在所述第一喷嘴分体的操作面上还设有两个第二光阻注入管，分别位于所述第一光阻注入管的两侧，所述第二光阻注入管贯穿所述第一喷嘴分体，与所述狭缝连通；所述第一光阻注入管和第二光阻注入管均连接到光阻注入泵上；所述第二光阻注入管上设有控制阀，用于控制所述第二光阻注入管内光阻的流量；所述涂布方法包括: 在光阻注入泵的加速阶段，同时通过所述第一光阻注入管和第二光阻注入管注入光阻； 在光阻注入泵的稳定阶段·，逐渐闭合所述第二光阻注入管上的控制阀直至所述控制阀完全关闭； 在光阻注入泵的减速阶段，关闭所述控制阀。其中，在光阻注入泵的加速阶段，控制所述第二光阻注入管内光阻的流量，使通过所述第二光阻注入管注入的光阻量小于通过所述第一光阻注入管注入的光阻量。本专利技术所提供的光阻涂布装置及其涂布方法，通过增设第二光阻注入管，增加了狭缝两侧的光阻注入量，弥补因中部与两侧的压力差带来的相应注入光阻量的较大差距，使得从光阻渗透区经由光阻吐出口吐出的光阻量，不管是在中间位置，还是两侧位置均能保持大体一致，从而确保光阻涂布到基板上的均匀度，提高涂布品质。附图说明为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1是现有光阻涂布装置的立体结构示意图。图2是现有光阻涂布装置在中部位置的侧面剖视示意图。图3是现有光阻涂布装置在光阻涂布时狭缝10’区域的光阻流动状况示意图。图4是本专利技术实施例一光阻涂布装置的立体结构示意图。图5是本专利技术实施例一光阻涂布装置在中部位置的侧面剖视示意图。图6是本专利技术实施例一光阻涂布装置在两侧位置的侧面剖视示意图。图7是本专利技术实施例一光阻涂布装置在光阻涂布时狭缝10区域的光阻流动状况示意图。图8是本专利技术实施例一光阻涂布装置与现有光阻涂布装置在涂布加速阶段吐出光阻量分布的对比示意图。图9是本专利技术实施例一光阻涂布装置的控制阀开度时序示意图。图10是本专利技术实施例二光阻涂布装置的涂布方法的流程示意图。具体实施例方式下面参考附图对本专利技术的优选实施例进行描述。请参照图4所示，本专利技术实施例一提供一种光阻涂布装置，包括喷嘴1，该喷嘴I包括相对设置的第一喷嘴分体11、第二喷嘴分体12以及将第一喷嘴分体11和第二喷嘴分体12安装固定的顶板13，第一喷嘴分体11和第二喷嘴分体12之间形成狭缝10，狭缝10的底部为光阻吐出口 100，第一喷嘴分体11和第二喷嘴分体12的底部分别形成椎体。在第一喷嘴分体11的操作面111的中部设有第一光阻注入管112，在第一喷嘴分体11的操作面111上，还设有两个第二光阻注入管114，分别位于第一光阻注入管112的两侧。在第一光阻注入管112和第二光阻注入管114的上方分别设有排泡管113，用于将光阻注入时可能产生的气泡排出。第一光阻注入管112和第二光阻注入管114均连接到光阻注入泵(未图示)上。 请再参照图5及图6所示，第一光阻注入管112和设置在其上方排泡管113均贯穿第一喷嘴分体11，与狭缝10连通。在第一光阻注入管112与狭缝10连通处，设有第一空腔110，设在第一光阻注入管112上方的排泡管113也与该第一空腔110连通。第二光阻注入管114和设置在其上方的排泡管113均贯穿第一喷嘴分体11，与狭缝10连通。在第二光阻注本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种光阻涂布装置，包括：喷嘴，所述喷嘴包括相对设置的第一喷嘴分体、第二喷嘴分体以及将所述第一喷嘴分体和第二喷嘴分体安装固定的顶板，所述第一喷嘴分体和第二喷嘴分体之间形成狭缝，在所述第一喷嘴分体的操作面的中部设有第一光阻注入管，所述第一光阻注入管贯穿所述第一喷嘴分体，与所述狭缝连通，其特征在于，在所述第一喷嘴分体的操作面上还设有两个第二光阻注入管，分别位于所述第一光阻注入管的两侧，所述第二光阻注入管贯穿所述第一喷嘴分体，与所述狭缝连通。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：徐彬，柯智胜，
申请(专利权)人：深圳市华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：
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