一种大直径灌注桩水下砼浇筑装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种大直径灌注桩水下砼浇筑装置，包括主料斗（1），主料斗（1）底部设有砼导管（2），砼导管（2）的底部管口位于灌注桩孔（3）的孔底；在灌注桩孔的孔口一侧设有副料斗（4）。本实用新型专利技术通过在主料斗一旁设置一个副料斗，当主料斗中的混凝土无法满足大直径孔灌注桩水下浇筑所需混凝土量时，由副料斗进行补充，确保首次浇筑时，导管的混凝土埋深大于1.5m的要求。防止灌注桩孔中的泥水从导管底口进入导管，提高施工质量，降低施工成本和缩短施工工期。本实用新型专利技术具有制作及安装简单、投入成本低、方便使用等优点。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种大直径灌注桩水下砼浇筑装置，包括主料斗（1），主料斗（1）底部设有砼导管（2），砼导管（2）的底部管口位于灌注桩孔（3）的孔底；其特征在于：在灌注桩孔的孔口一侧设有副料斗（4）。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：陈寿忠，谢翔，任远敏，钟震，胡超，
申请(专利权)人：中建四局第一建筑工程有限公司，
类型：实用新型
国别省市：