一种双面水溶晶片剪纸制造技术

本实用新型专利技术公开了一种双面水溶晶片剪纸，剪纸材料为水溶晶片材料，包括基膜，基膜为PET，在基膜表面膜压有图像层，图像层上设有全息图像，本实用新型专利技术采用双面水溶晶片制成的剪纸，在基膜的正反表面均膜压有全息图像，剪纸可双面粘贴，不受正反面的限制，PET镭射膜的表面光滑而有光泽，耐摩擦性好、磨损小、韧性高、不易破损，具有较高的防粘连性，不用涂胶即可反复多次粘贴和揭除，墙面不会留下黏贴痕迹，同时，剪纸上的镭射晶点则增强了剪纸的美观程度，达到较好的工艺效果。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及到一种装饰工艺品，尤其涉及到一种可反复粘贴且不会留下黏贴痕迹的双面水溶晶片剪纸。
技术介绍
市面上的剪纸一般采用普通纸张裁剪制成，使用时需要在剪纸背面用胶水或糨糊涂沫并粘贴在背景墙上，粘贴过程麻烦且无法从墙面上揭除，不能反复使用，而且采用普通纸张的剪纸也无法呈现出多彩或立体的色彩，装饰效果比较平淡。
技术实现思路
本技术主要解决普通剪纸需涂胶粘贴、不能反复使用且色彩单调、效果平淡的技术问题；提供了一种不用涂胶、可双面反复粘贴且不会留下黏贴痕迹、剪纸表面色彩炫丽的双面水溶晶片剪纸。为了解决上述存在的技术问题，本技术主要是采用下述技术方案:本技术的一种双面水溶晶片剪纸，剪纸材料为水溶晶片材料，包括基膜，所述基膜表面膜压有图像层，利用复合、烫印、转移等方式在基膜表面形成各种图像，使剪纸达到色彩炫丽多样的效果。作为优选，所述基膜为PET，PET热塑性聚酯薄膜的表面光滑而有光泽，耐摩擦性好、磨损小、韧性高、不易破损，具有较强的防粘连性，可反复粘贴和揭除。作为优选，所述基膜的正 反表面均膜压有图像层，剪纸可双面粘贴，不受正反面的限制，扩大了剪纸的使用范围。作为优选，所述图像层上设有全息图像，采用计算机点阵光刻技术和3D真彩色全息技术，将具有彩虹动态三维立体效果的全息图像转移至图像层上，使材料表面形成具有激光镭射效果的PET镭射膜，使剪纸具有高光泽、高抗静电和较好的防粘连性，剪纸上的镭射晶点提高了剪纸的工艺效果。本技术的有益效果是:采用双面水溶晶片制成的剪纸，在基膜的正反面均膜压有全息图像，剪纸可双面粘贴，不受正反面的限制，PET镭射膜的表面光滑而有光泽，耐摩擦性好、磨损小、韧性高、不易破损，具有较高的防粘连性，不用涂胶即可反复多次粘贴和揭除，墙面不会留下黏贴痕迹，同时，剪纸上的镭射晶点则增强了剪纸的美观度，达到较好的工艺效果。附图说明图1是本技术的一种外形示意图。图2是图1的结构剖视图。图中:1.基膜，2.图像层。具体实施方式下面通过实施例，并结合附图，对本技术的技术方案作进一步具体的说明。实施例:本实施例的一种双面水溶晶片剪纸，剪纸材料为水溶晶片材料，如图1和图2所示，包括基膜1，基膜为PET薄膜，在基膜的正反表面均膜压有图像层2，图像层上印有全息图像，在使用时，在剪纸的任何一面沾少许水，直接贴合在墙面上即可，剪纸上的镭射晶点在光线照射下闪烁着五彩缤纷的迷幻图像，提高了剪纸的美观程度，同时，当需要揭下剪纸时，因PET具有较好的防粘连特性，使剪纸可以很方便的揭除而不会被撕破，墙面上保持干净，不会留有产品黏贴的痕迹，提高了剪纸的使用寿命和范围。以上说明并非对本技术作了限制，本技术也不仅限于上述说明的举例，本
的普通技术人员在本技术的实质范围内所做出的变化、改型、增添或替换，都应视为本技术的保护范围 。权利要求1.一种双面水溶晶片剪纸，其特征在于:所述剪纸材料为水溶晶片材料，包括基膜(1)，所述基膜表面膜压有图像层(2)。2.根据权利要求1所述的一种双面水溶晶片剪纸，其特征在于:所述基膜(I)为PET。3.根据权利要求1所述的一种双面水溶晶片剪纸，其特征在于:所述基膜(I)的正反表面均膜压有图像层(2)。4.根据权利要求1或2或3所述的一种双面水溶晶片剪纸，其特征在于:所述图像层(2)上设有全息图像。·专利摘要本技术公开了一种双面水溶晶片剪纸，剪纸材料为水溶晶片材料，包括基膜，基膜为PET，在基膜表面膜压有图像层，图像层上设有全息图像，本技术采用双面水溶晶片制成的剪纸，在基膜的正反表面均膜压有全息图像，剪纸可双面粘贴，不受正反面的限制，PET镭射膜的表面光滑而有光泽，耐摩擦性好、磨损小、韧性高、不易破损，具有较高的防粘连性，不用涂胶即可反复多次粘贴和揭除，墙面不会留下黏贴痕迹，同时，剪纸上的镭射晶点则增强了剪纸的美观程度，达到较好的工艺效果。文档编号B44C5/04GK203110781SQ20132004443公开日2013年8月7日 申请日期2013年1月18日 优先权日2013年1月18日专利技术者吴登彩 申请人:吴登彩本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种双面水溶晶片剪纸，其特征在于：所述剪纸材料为水溶晶片材料，包括基膜(1)，所述基膜表面膜压有图像层(2)。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：吴登彩，
申请(专利权)人：吴登彩，
类型：实用新型
国别省市：