一种光刻胶回收装置和涂布机制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种光刻胶回收装置和涂布机，所述光刻胶回收装置包括：第一容器，用于与光刻胶的出胶口形成密闭空间，以接收光刻胶；漏气检测单元，用于检测所述第一容器的密闭性。所述涂布机具有所述的光刻胶回收装置。本实用新型专利技术的光刻胶回收装置的第一容器与光刻胶的出胶口形成密闭空间，使得光刻胶可以在不被污染的情况下进行回收，防止了光刻胶的凝结，可以应用到涂布机上进行光刻胶的回收。而且，该装置还利用漏气检测单元来检测第一容器的密闭性，以保证第一容器的密闭性。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及光刻胶回收领域，特别是涉及一种光刻胶回收装置和涂布机。
技术介绍
狭缝式涂布机是大尺寸TFT-LCD生产中的关键设备，为保证涂布效果，在每次涂布前都会从涂布头吐出一定量的光刻胶使涂布头初始化，而这些吐出的光刻胶都是作为废液处理的，会造成很大的材料浪费和废液处理成本。而且,在涂布设备的PM(Priliminary Maintenance,预维护)和清洗管路时也都会从狭缝式涂布头吐出大量的光刻胶。这些吐出的光刻胶没有用于生产而是作为废液排掉，这不仅会浪费大量昂贵的光刻胶还会带来处理废液的高成本。当光刻胶废液在设备中不断的积累凝结时，影响到设备的工作效率，需要人力进行清洁，从而降低了设备的稼动率。
技术实现思路
本技术的目的是提供一种回收光刻胶的装置，以达到降低成本和保护环境。为了解决上述技术问题，本技术提供了一种光刻胶回收装置，包括:第一容器,用于与光刻胶的出胶口形成密闭空间，以接收光刻胶；漏气检测单元，用于检测所述第一容器的密闭性。上述回收 装置中，所述第一容器包括槽体和一用于与所述出胶口密闭连接的接□。上述回收装置中，所述接口为弹性接口。上述回收装置中，所述漏气检测单元包括气源、气管和压力计，所述气源通过气管与第一容器相通，所述气管上设有压力计。上述回收装置中，所述气管上还设有用于控制所述气管导通和截止的控制阀。上述回收装置中，所述装置还包括一密闭的第二容器，所述第二容器通过管路与第一容器相连接，用于接收第一容器中流出的光刻胶。上述回收装置中，所述第二容器具有一与外界相通的排气口。上述回收装置中，所述排气口中设有单向阀。本技术还提供了一种涂布机，包括所述的光刻胶回收装置。上述涂布机中，所述涂布机还包括一涂布头，所述涂布头上设置有出胶口。本技术的技术方案的有益效果是:本技术的光刻胶回收装置的第一容器与光刻胶的出胶口形成密闭空间，使得光刻胶可以在不被污染的情况下进行回收，防止了光刻胶的凝结，可以应用到涂布机上进行光刻胶的回收。而且，该装置还利用漏气检测单元来检测第一容器的密闭性，以保证第一容器的密闭性。附图说明图1为本技术第一种实施例的光刻胶回收装置的结构示意图；图2为本技术第二种实施例的光刻胶回收装置的结构示意图；图3为本技术第三种实施例的光刻胶回收装置的结构示意图。具体实施方式为使本技术要解决的技术问题、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图及具体实施例进行详细描述。如图1所示，为本技术第一种实施例的光刻胶回收装置的结构示意图，该光刻胶回收装置包括:第一容器2，用于与光刻胶的出胶口形成密闭空间，以接收光刻胶；漏气检测单元3，用于检测所述第一容器的密闭性。本技术的光刻胶回收装置的第一容器与光刻胶的出胶口形成密闭空间，使得光刻胶可以在不被污染的情况下进行回收，防止了光刻胶的凝结。而且，该装置还利用漏气检测单元来检测第一容器的密闭性，以保证第一容器的密闭性。再次参阅图1，本技术的光刻胶回收装置可以用于回收任何从出胶口流出的光刻胶，该实施例的光刻胶回收装置应用到涂布机I上，接收光刻胶的第一容器2为回收槽，回收槽与涂布机I的涂布头11接触连接，并与涂布头11形成密闭空间，以接收涂布头11流下的光刻胶。由于涂布头流出的光刻胶是在密闭环境下进行回收，避免了受空气污染。而且，还利用漏气检测单元来对回收槽的密闭性进行检测，保证了第一容器的密闭性。如图2所示，为本技术第二种实施例的光刻胶回收装置的结构示意图，该实施例的回收装置与第一种实施例基本相同，其区别是还包括一密闭的第二容器4，所述第二容器4通过管路与第一容器2相 连接，用于接收第一容器中流出的光刻胶。该管路上还设有阀门，用于截止和打开管路。优选地，参考图3，所述第二容器包括桶体41和排气口 42，所述排气口 42与外界相通。所述第二容器用于暂存回收的光刻胶，第二容器有排气口以利于光刻胶的顺利流入。更优地，所述排气口 42中设有单向阀，该单向阀使得第二容器中的气体可以排出，但是外界气体不能进入第二容器中，避免了第二容器中光刻胶的污染，从而防止了第二容器中光刻胶的凝结。如图3所示，为本技术第三种实施例的光刻胶回收装置的结构示意图，该实施例的回收装置与第二种实施例基本相同，其区别是第一容器2包括槽体21和接口 22，所述接口 22由弹性材料构成，例如是橡胶、泡沫等，用于与所述出胶口密闭连接。由于接口 22为弹性材料构成，当进行回收光刻胶时，通过弯曲接口使得接口与出胶口密闭连接。当不进行回收时，将接口密封，使得槽体形成闭合空间。本技术的漏气检测单元3可以是任何能够检测所述第一容器的密闭性的部件，优选地，该漏气检测单元包括气源(图中未示出)、气管32和压力计31，所述气源可以是任何能够提供气体的部件，例如压缩机等。该气源通过气管32与第一容器2相通，所述气管32上设有压力计31，所述气管上还设有用于控制所述气管导通和截止的控制阀33。该实施例的漏气检测单元通过气源向第一容器中通入一定量的气体，关闭控制阀33，此时观察压力计的读数来确定第一容器的密闭性。如果压力计的读数下降较大，说明第一容器存在漏气，此时应该进行第一容器的气密性检查，这样回收的光刻胶才能够避免空气污染。当该回收装置应用到涂布机上时，漏气检测单元可以采用涂布机的压缩空气机来实现，通过向第一容器中通入压缩空气，来检测第一容器的密闭性。本技术还提供了一种涂布机，包括上述实施例中所述的光刻胶回收装置。其中，所述涂布机还包括一涂布头，所述涂布头上设置有出胶口。所述涂布机包括:涂布机本体，包括一涂布头11，该涂布机本体通过涂布头流出光刻胶，以在玻璃基板上涂布一层光刻胶；第一容器2，用于与所述涂布头形成密闭空间，以接收光刻胶；漏气检测单元3，用于检测所述第一容器的密闭性。由于涂布机在每次涂布前的初始化，设备的PM和清洗管路时都会从涂布头吐出大量的光刻胶。这些吐出的光刻胶没有用于生产而是作为废液排掉，这不仅会浪费大量昂贵的光刻胶还会带来处理废液的高成本。同时光刻胶废液在设备中不断的积累凝结，需要人力进行清洁还会降低设备的稼动率。为此，本技术的涂布机在涂布头的出胶口设有与涂布头形成密闭空间的第一容器，使得光刻胶可以在不被污染的情况下进行回收，防止了光刻胶的凝结。而且，该涂布机还利用漏气检测单元来检测第一容器的密闭性，以保证第一容器的密闭性。本技术涂布机的第一容器包括槽体和接口，所述接口为弹性接口，用于与所述出胶口密闭连接。该涂布机的漏气检测单元用于检测所述第一容器的密闭性，包括气源、气管和压力计，所述气源通过气管与第一容器相通，所述气管上设有压力计。本技术的涂布机还包括一密闭的第二容器，所述第二容器通过管路与第一容器相连接，用于接收第一容器中流出的光刻胶。该第二容器上还具有一与外界相通的排气口，所述排气口中设有单向阀，使得第二容器中的气体可以排出，但是外界气体不能进入第二容器中，从而避免了第二 容器中光刻胶受到污染。上述技术方案具有如下技术效果:本技术的涂布机在涂布头的出胶口设有与涂布头形成密闭空间的第一容器，使得光刻胶可以在不被污染的情况下进行回收，以及防止了光刻胶的凝结。而且，该涂布机还利用漏气检测单元来检测第一容本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光刻胶回收装置，其特征在于，包括：第一容器，用于与光刻胶的出胶口形成密闭空间，以接收光刻胶；漏气检测单元，用于检测所述第一容器的密闭性。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：李伟，刘富军，魏崇喜，朱杰，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，北京京东方显示技术有限公司，
类型：实用新型
国别省市：