一种曝光机制造技术

本实用新型专利技术提供一种曝光机，包括：掩模板和遮挡组件；所述掩模板与所述遮挡组件相对方向设置有保护薄膜；所述遮挡组件包括遮光条；所述遮光条与所述保护薄膜相对的表面的形状与所述掩模板的保护薄膜呈下垂状态时的形状相适应。本实用新型专利技术的曝光机可解决遮挡组件与掩模板的保护薄膜发生干涉的问题。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

Exposure machine

The utility model provides an exposure machine, including: mask and mask the mask assembly; and the protective film is provided with shielding component relative direction; the assembly includes a light shielding protective film; the shading surface opposite the protective film and the shape of the mask is sagging state is corresponding to the shape of. The exposure machine of the utility model can solve the interference problem of the protective film of the shielding component and the mask template.

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及液晶显示
，尤其涉及一种曝光机。
技术介绍
由于高世代线TFT (Thin Film Transistor,薄膜场效应晶体管)面板在制作时所用的曝光机的掩模板(Mask)的面积较大，在长时间将掩模板装载到曝光机上以及将掩模板从曝光机卸载下来的过程中，掩模板下部的一层保护薄膜(Pellicle Film)会有轻微下垂状况出现，这样，位于掩模板的保护薄膜下方的掩模板遮挡板(Masking Blade)在进行某些特殊曝光模式时，如部分曝光模式(Partial Mode,即某些Shot进行不完全曝光,利用掩模板遮挡板遮挡住一部分掩模图案)，掩模板遮挡板会与保护薄膜发生干涉，掩模板遮挡板与保护薄膜之间发生干涉的原因主要是:一方面，掩模板下部的保护薄膜有下垂状况，且扫描曝光过程中保护薄膜会有抖动；另一方面，如图1所不，就曝光机而言，其曝光方式为扫描式曝光，而且扫描方向为Y方向，即掩模板40的长边方向，由于目前曝光机Y方向的掩模板遮挡板驱动时是在左右两个固定滑轨10上移动,靠前后左右四个滚轮20滑动,但滚轮上部空间较大,约有IOmm左右的间隙，这样，如果固定滑轨10上有异物，那么滚轮20经过时势必有震动发生，这样很有可能会使掩模板遮光板的上部的遮光条50与保护薄膜60发生干涉，并且，当曝光机执行Y方向的不完全曝光时，在掩模板遮光板驱动结束后，由于其运动加速度较大，用于遮挡曝光图案的那部分遮光板会以如图2所示的O点位置为“支点”，发生上下震动，若保护薄膜60下垂过多的话有很大可能会与掩模板遮光板上部的遮光条50发生干涉，导致保护薄膜刮伤发生，影响产品微观。针对这种偶发保护薄膜刮伤的隐患，一方面若考虑在掩模板的材质上作变更，可将保护薄膜换成张力较大的硬质材料，但掩模板在长期装载到曝光机上、从曝光机卸载下来以及搬运过程中震动较大，张力较大的材料较容易产生硬伤，因此，掩模板材质上的变更已没有多少空间；另一方面，就曝光机而言，由于其曝光方式为扫描式曝光，且扫描方向为Y方向，只有Y方向的掩模板遮光板有刮伤保护薄膜的隐患，通常大幅度地降低掩模板遮光板的高度可彻底消除这个隐患，但据设备技术参数说明，如果掩模板遮光板高度下降5mm的话，掩模板的模糊区(Defocus Zone)会在Y方向有约1650 μ m的增长，那么如何在解决保护薄膜不被刮伤的同时，又能保证掩模板遮光板的模糊区不受太大影响，就成为了解决问题的关键所在。
技术实现思路
本技术要解决的技术问题是提供一种曝光机，能够解决在生产TFT面板时，掩模板遮光板与保护薄膜发生干涉的问题。为解决上述技术问题，本技术的实施例提供技术方案如下:一种曝光机，包括:掩模板和遮挡组件；所述掩模板与所述遮挡组件相对方向设置有保护薄膜；所述遮挡组件包括遮光条；所述遮光条与所述保护薄膜相对的表面的形状与所述掩模板的保护薄膜呈下垂状态时的形状相适应。优选的，所述遮光条与所述保护薄膜相对的表面的形状为与所述掩模板的保护薄膜呈下垂状态时的形状相适应的圆弧形。优选的，所述遮光条圆弧形表面的最高点与最低点之间的相对高度差小于等于1.5mm。优选的，所述曝光机还包括用于驱动所述遮挡组件移动的驱动组件，所述驱动组件包括:平行于掩模板的长边设置，并分别设于所述遮挡组件的两个相对侧的两个导轨，所述导轨包括上下相对设置的上轨道面和下轨道面；分别固连于所述遮挡组件的两个相对侧的用于带动所述遮挡组件移动的两个固定滑块，所述固定滑块设置于所述导轨的上轨道面和下轨道面之间；以及，能够在所述固定滑块与所述导轨之间滚动，以使得所述固定滑块在所述导轨内滑动的多个滚珠，多个滚珠分别排列设置于所述固定滑块与所述上轨道面之间及所述固定滑块与所述下轨道面之间。优选的，所述驱动组件还包括:用于将每一所述滚珠限定于一对应的定点位置，以使得每一所述滚珠在其所对应的定点位置处滚动的限位结构，所述限位结构设置于所述固定滑块与所述上轨道面之间以及所述固定滑块与所述下轨道面之间。优选的，所述驱动组件还包括:脉冲马达；以及，用于利用所述脉冲马达的动力带动所述固定滑块位移的传动单元。优选的，所述遮光组件位于所述掩模板的保护薄膜的下方，所述曝光机还包括设置于所述掩模板的保护薄膜下方，用于检测所述保护薄膜的位置的检测装置。优选的，所述检测装置包括:光发射单元，设置于所述保护薄膜下方的一侧，能够发射从所述保护薄膜表面下方经过的光；以及，光感应单元，与所述光发射单元相对设置于所述保护薄膜下方的另一侧，用于根据接收到的由所述光发射单元发射的光信号而输出相应的检测信号的。优选的，所述遮光组件还包括:跨设于两个所述导轨之间的固定台，所述固定台与所述驱动组件连接；以及，用于将所述遮光条支撑于所述固定台上方的垂直支撑板，所述垂直支撑板顶端与所述遮光条连接，所述垂直支撑板底端固定于所述固定台上。优选的，所述曝光机还包括高度调整结构，所述高度调整结构与所述遮光条连接，用于调节所述遮光条与所述掩模板保护薄膜的距离。优选的，所述高度调整结构包括:用于分别支撑于所述遮光条的两相对端，并分别能够进行高度调节的两支撑杆，两支撑杆分别设置于所述固定台的两相对侧。优选的，所述遮光条上连接有固定螺丝；所述垂直支撑板上设有与所述固定螺丝位置对应的用于供所述固定螺丝穿过，以将遮光条与垂直支撑板固定一起的固定孔，且所述固定孔在上下方向上与所述固定螺丝之间留有调整间隙；或者，所述垂直支撑板上连接有固定螺丝；所述遮光板上设有与所述固定螺丝位置对应的用于供所述固定螺丝穿过，以将遮光条与垂直支撑板固定一起的固定孔，且所述固定孔在上下方向上与所述固定螺丝之间留有调整间隙。本技术的实施例具有以下有益效果:本技术针对高世代线制造TFT面板容易出现掩模板遮挡板与掩模板的保护薄膜发生干涉的问题，提供一种曝光机，能够有效降低掩模板遮挡板与掩模板的保护薄膜发生干涉的几率，阻止掩模板保护薄膜刮伤现象发生，同时，能保证掩模板遮挡板处的模糊区不受太大影响。附图说明图1表示现有的曝光机的结构示意图；图2表示掩模板遮挡板与保护薄膜发生干涉的示意图；图3表示本技术所提供的曝光机的正面结构示意图；图4表示本技术所提供的曝光机的侧面结构示意图；图5表示导轨内部结构示意图；图6表示遮光条与垂直支撑板之间的配合关系图。具体实施方式为使本技术的实施例要解决的技术问题、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图及具体实施例进行详细描述。本技术的实施例针对现有技术中曝光机，尤其是大型自动曝光机由于掩模板遮挡板在驱动过程中震动较大，加上掩模板底部保护薄膜在长期扫描过程中因空气流动频繁等因素会有不同程度的下垂，从而导致掩模板遮挡板与掩模板的保护薄膜之间发生干涉的问题，提供了一种曝光机，能够解决在生产TFT面板时，掩模板遮挡板与掩模板的保护薄膜发生干涉的问题，尤其在高世代线生产大尺寸TFT面板时。现有技术中一般从更换掩模板材质及降低掩模板遮挡板的高度这方面去解决掩模板遮挡板与掩模板的保护薄膜发生干涉的问题，却无法保证在解决掩模板的保护薄膜不被刮伤的同时，又能保证掩模板遮挡板的模糊区不受太大影响。本技术针对TFT面板时容易出现掩模板遮挡板与掩模板的保护薄膜发生干涉的问题，提供一种曝光机，本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种曝光机，包括：?掩模板和遮挡组件；?所述掩模板与所述遮挡组件相对方向设置有保护薄膜；?所述遮挡组件包括遮光条；?其特征在于，所述遮光条与所述保护薄膜相对的表面的形状与所述掩模板的保护薄膜呈下垂状态时的形状相适应。

【技术特征摘要】
1.一种曝光机，包括: 掩模板和遮挡组件； 所述掩模板与所述遮挡组件相对方向设置有保护薄膜； 所述遮挡组件包括遮光条； 其特征在于，所述遮光条与所述保护薄膜相对的表面的形状与所述掩模板的保护薄膜呈下垂状态时的形状相适应。2.根据权利要求1所述的曝光机，其特征在于，所述遮光条与所述保护薄膜相对的表面的形状为与所述掩模板的保护薄膜呈下垂状态时的形状相适应的圆弧形。3.根据权利要求2所述的曝光机，其特征在于，所述遮光条圆弧形表面的最高点与最低点之间的相对高度差小于等于1.5mm。4.根据权利要求3所述的曝光机，其特征在于，所述曝光机还包括用于驱动所述遮挡组件移动的驱动组件，所述驱动组件包括: 平行于掩模板的长边设置，并分别设于所述遮挡组件的两个相对侧的两个导轨，所述导轨包括上下相对设置的上轨道面和下轨道面； 分别固连于所述 遮挡组件的两个相对侧的用于带动所述遮挡组件移动的两个固定滑块，所述固定滑 块设置于所述导轨的上轨道面和下轨道面之间； 以及，能够在所述固定滑块与所述导轨之间滚动，以使得所述固定滑块在所述导轨内滑动的多个滚珠，多个滚珠分别排列设置于所述固定滑块与所述上轨道面之间及所述固定滑块与所述下轨道面之间。5.根据权利要求4所述的曝光机，其特征在于，所述驱动组件还包括: 用于将每一所述滚珠限定于一对应的定点位置，以使得每一所述滚珠在其所对应的定点位置处滚动的限位结构，所述限位结构设置于所述固定滑块与所述上轨道面之间以及所述固定滑块与所述下轨道面之间。6.根据权利要求5所述的曝光机，其特征在于，所述驱动组件还包括:脉冲马达；以及，用于利用所述脉冲马达的动力带动所述固定滑块位移的传动单元。7.根据权利要求6所述的曝光机，其特征在于，所述遮光...

【专利技术属性】
技术研发人员：黄文同，李亚文，汪雄，
申请(专利权)人：合肥京东方光电科技有限公司，京东方科技集团股份有限公司，
类型：实用新型
国别省市：