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光波浴足装置制造方法及图纸

技术编号:8940148 阅读:175 留言:0更新日期:2013-07-18 08:27
本实用新型专利技术公开了一种光波浴足装置,浴盆的底部具有面状红外发热体,发热体的下面设有保温层,发热体的上方设置足架,足架安装在浴盆侧壁上。本实用新型专利技术采用远红外辐射,理疗效果好,安全可靠。(*该技术在2022年保护过期,可自由使用*)

Light wave bathing foot device

The utility model discloses a light wave bathing foot device, wherein, the bottom of the bathtub is provided with a surface type infrared heating body, the lower part of the heat generating body is provided with a thermal insulation layer, and a foot rack is arranged above the heat generating body. The utility model has the advantages of far infrared radiation, good physical therapy effect, safety and reliability.

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种保健器材,尤其是涉及一种光波浴足装置
技术介绍
科学家们发现世上任何物体都能发射红外线,只是发射波长不一样。生命科学研究证实,人体本身是一个远红外辐射源,可以吸收及发射远红外光,它所发射5.6um-15um远红外线占总能量的整个人体50%以上。当远红外线照射人体时,其频率与身体中的细胞分子、原子间的水分子运动频率相一致时,引起共振效应,其能量最高且能被生物体所吸收,使皮下组织深层部位的温度升高,产生的热效应使水分子活化,处于高能状态,加速人体需要的生物酶的合成,同时活化蛋白质等生物分子,从而增强机体免疫力和生物细胞的组织再生能力,加速供给养分和酵素,促进身体健康。远红外线对于血液循环和微循环障碍引起的多种疾病均具有改善和防治作用。目前,没有采用远红外辐射的足部保健装置。
技术实现思路
本技术的目的是:提供一种采用远红外辐射、理疗效果好、安全可靠的光波浴足装置。本技术的技术方案是:包括浴盆,浴盆的底部具有100-200°C面状红外发热体,发热体的下面设有保温层,发热体的上方设置足架,足架安装在浴盆侧壁上。所述足架为左、右足架,每个足架上装有按摩滚动轮。所述发热体为红外加热膜。本技术的有益效果是:由于浴盆的底部具有面状红外发热体,发热体的上方设置足架,人体的脚放在足架上,面状红外发热体发出的远红外线向上均匀照射到人体的脚底,起到保健理疗作用。同时,由于足架上装有按摩滚动轮,两只脚可以来回搓动,舒适性好。普通的水浴足盆人体的耐受温度为40_50°C,本技术面状红外发热体发出的远红外线温度可达100-200°C,使人体的脚底耐受,安全可靠,进一步增强了理疗效果。由于发热体的下面设有保温层,使红外发热体产生的热量不易散失。附图说明图1为本技术的结构示意图。具体实施方式从图1所示本技术的结构示意图可以看出,本技术包括浴盆4、面状红外发热体2、保温层3和足架5等部分。浴盆4的底部具有面状红外发热体2,面状红外发热体2采用100-200°C红外加热膜,红外加热膜沿浴盆4的底部水平设置,红外加热膜的接线头6从浴盆4的侧面上穿孔引出。红外加热膜的下面装有一层厚度3-5 cm的硅酸盐保温层3,红外加热膜和浴盆底面之间的保温层3紧密接触,使红外加热膜产生的热量不易散失。发热体2的上方10-15 cm处设置足架5,足架5水平安装在浴盆4侧壁上,足架5与浴盆4顶部具有5-20 cm的距离,足架5为左、右足架,每个足架上装有三个按摩滚动轮I。红外加热膜通电后,短时间内使红外加热膜加热,远红外线温度可达100-200°c,红外加热膜发出的远红外线向上均匀照射到人体的脚底,按摩滚动轮可使两只脚可以来回搓动,加热均匀,保健理疗效果好,舒适性好。权利要求1.一种光波浴足装置,包括浴盆(4),其特征是:所述浴盆(4)的底部具有100-200°c面状红外发热体(2 ),发热体(2 )的下面设有保温层(3 ),发热体(2 )的上方设置足架(5 ),足架(5)安装在浴盆(4)侧壁上。2.根据权利要求1所述的光波浴足装置,其特征是:所述足架(5)为左、右足架,每个足架上装有按摩滚动轮(I)。3.根据权利要求1所述的光波浴足装置,其特征是:所述发热体(2)为红外加热膜。专利摘要本技术公开了一种光波浴足装置,浴盆的底部具有面状红外发热体,发热体的下面设有保温层,发热体的上方设置足架,足架安装在浴盆侧壁上。本技术采用远红外辐射,理疗效果好,安全可靠。文档编号A61H39/04GK203060598SQ201220703968公开日2013年7月17日 申请日期2012年12月19日 优先权日2012年12月19日专利技术者刘庆雪, 刘忠耀 申请人:刘庆雪, 刘忠耀本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光波浴足装置,包括浴盆(4),其特征是:所述浴盆(4)的底部具有100?200℃面状红外发热体(2),发热体(2)的下面设有保温层(3),发热体(2)的上方设置足架(5),足架(5)安装在浴盆(4)侧壁上。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:刘庆雪刘忠耀
申请(专利权)人:刘庆雪刘忠耀
类型:实用新型
国别省市:

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