本发明专利技术涉及一种提高掩模板开口位置精度的方法，通过CCD扫描掩模板，读取位于掩模板边缘处并处于对角方向的两个定位孔的相对坐标（x、y），通过坐标（x、y）确定掩模板中心点o，并将其坐标设定为（0、0），自动生成x、y坐标轴，通过CCD扫描掩模板图形区域开口，读取各开口中心点相对于掩模板中心点的坐标（xn、yn），将坐标（xn、yn）与蒸镀图形象素对比，若坐标值偏差超出±5μm，在基台的固定装置上施加水平方面上的拉力，使开口的位置偏差控制在±5μm；本发明专利技术涉及一种提高掩模板开口位置精度的方法及其装置，能以更高的精度、在更短的时间内调整掩模板，使其图形开口的位置精度偏差控制在±5μm。
Method and device for improving accuracy of mask opening position
The invention relates to a method for improving the accuracy of the location of the mask openings, through CCD scan mask, relative coordinates read two positioning holes in the mask edges and in the diagonal direction of the (x, y), (x, y) by coordinate to determine the mask center point O, and the coordinate set for (0, 0), the automatic generation of X, Y axis, CCD scanning through the mask opening area, read the opening center point coordinates with respect to the mask center point (xn, yn), the coordinates (xn, yn) and evaporation graphic pixels comparison, if coordinates deviation exceeds 5 m, on the base of the fixing device is applied on the level of the tension, the opening position deviation control 5 m in +; the invention relates to a method and device for improving the accuracy of the location of the mask opening, can adjust to cover higher accuracy, in a shorter period of time. Template, so that the graphical opening of the position accuracy deviation control at + 5 m.
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种掩模板的组装方法，具体涉及组装过程中提高掩模板开口位置精度的方法。
技术介绍
有机发光显示器，由于其宽视角、高对比度以及高相应速度的优点，已被给予高度关注。电致发光装置分为无机电致发光装置和有机电致发光装置。有机发光装置的亮度和响应速度比无机电致发光装置高，并能显示彩色图像。在蒸镀过程中，随着时间的延长，温度也在不断上升，高温可达到60°C，由于掩模板很薄所以应用时若不经过处理，掩模板会相对其掩模框架产生位置偏差，并下垂，影响有机材料蒸镀质量。更重要的是，由于掩模板热膨胀的产生，掩模板图形区域的开口位置精度受到影响，产生位置偏差，无法在蒸镀基板上以更正确的形状形成所蒸镀的象素，从而降低了成膜质量。为了避免上述精度偏差，在蒸镀用掩模板的制造过程中，必须保证其开口位置的高精密度。而传统组装工艺，如对比文献200410005882.7，通过旋转张力施加机构的螺纹件，来防止位置偏差，这并不 能用于高精密度蒸镀用掩模板的组装，无法高精度地调整图形开口的位置精度。
技术实现思路
本专利技术提供一种提高掩模板开口位置精度的方法及其装置，以更高的精度、在更短的时间内调整掩模板，使其图形开口的位置精度偏差控制在±5μπι的方法和装置。针对以上问题，本专利技术提出以下方案: 一种提高掩模板开口位置精度的方法，为一种微调方法，其特征在于，具体步骤包括:将掩模板固定在具有固定作用的基台上；通过CO) (Charge-coupled Device,电荷f禹合元件)扫描掩模板，读取位于掩模板边缘处并处于对角方向的两个定位孔的相对坐标(X、y);通过坐标(x、y)确定掩模板中心点O，并将其坐标设定为(0、0)，自动生成x、y坐标轴；通过C⑶扫描掩模板图形区域开口，读取各开口中心点相对于掩模板中心点的坐标(xn、yn);将坐标(xn、yn)与蒸镀图形像素对比，若坐标值偏差超出±5μπι，在基台的固定装置上施加水平方面上的拉力，使开口的位置偏差控制在±5μπι。将所述掩模板固定在基台的固定装置上。优选的，与所述固定装置一体形成的拉动装置，通过拉动动力源带动弹性元件施加拉力，带动拉动装置沿着轨道产生微米级的位移。优选的，拉力的方向为X轴方向、y轴方向、与X轴夹角为45°方向或与X轴夹角为135°方向的任意组合。优选的，固定装置为挂齿，拉动装置为拉板，拉动动力源为电机。一种提高掩模板开口位置精度的装置，其特征在于，包括:基台、拉动装置、弹性元件、固定装置和拉动动力源；其中，固定装置和拉动装置一体形成在基台上，将掩模板固定在固定装置上，拉动动力源提供拉动动力，通过弹性元件的力的传导，带动拉动装置沿着轨道产生微米级的位移。优选的，固定装置为挂齿，拉动装置为拉板，拉动动力源为电机。优选的，所述拉板个数至少为8个，分别位于掩模板四边及四角；或者是，所述拉板在掩模板一边的个数为3个。 本专利技术所提出的提高掩模板开口位置精度的方法及装置，能以更高的精度、在更短的时间内调整掩模板，使其图形开口的位置精度偏差控制在±5 μ m。附图说明下面结合附图对本专利技术的具体实施方式作进一步详细的说明。图1为掩模板开口位置坐标读取示意图。其中:1为掩模板；2、3为定位孔；4为图形区域开口。图2为固定装置 所承受的拉力示意图。其中:Fl为X轴方向拉力；F2为Y轴方向拉力；F3为45°夹角拉力；F4为135°夹角拉力。图3为使用拉动装置拉动掩模板的示意图。其中:1为掩模板；5为挂齿；6为弹性元件；7为电机；8为轨道；9为拉板。图4为拉动装置的放大图。其中:5为挂齿；6为弹性元件；7为电机；9为拉板。具体实施方式实施例如图1所示，将掩模板I固定在具有固定作用的基台上，通过CCD扫描掩模板，读取位于掩模板边缘处并处于对角方向的两个定位孔2和3的相对坐标(x、y)，通过坐标(X、y)确定掩模板中心点O，并将其坐标设定为(0、0)，自动生成x、y坐标轴，通过CXD扫描掩模板图形区域开口 4，读取各开口中心点相对于掩模板中心点的坐标(xn、yn)，将坐标(xn、yn)与蒸镀图形象素对比，若坐标值偏差超出±5 μ m，在基台的固定装置上施加水平方面上的拉力，使开口的位置偏差控制在± 5 μ m。如图2，水平面方向的力包括X轴方向拉力F1、Y轴方向拉力F2、45°夹角拉力F3、135°夹角拉力F4，将上述方向上的力组合实现对开口 4位置坐标的调整，有效提高开口位置精度。如图3和图4所示，提高掩模板I开口位置精度的装置，包括:基台、拉动装置、弹性元件、固定装置和拉动动力源；其中，固定装置和拉动装置一体形成在基台上，将掩模板固定在固定装置上，拉动动力源提供拉动动力，通过弹性元件的力的传导，带动拉动装置沿着轨道产生微米级的位移；固定装置为挂齿5，拉动装置为拉板9，拉动动力源为电机7。以上实施例目的在于说明本专利技术，而非限制本专利技术的保护范围，所有在不违背本专利技术精神原则的条件下做 出的简单变换均落入本专利技术的保护范围内。权利要求1.一种提高掩模板开口位置精度的方法，其特征在于，具体步骤包括:将掩模板固定在具有固定作用的基台上；通过C⑶扫描掩模板，读取位于掩模板边缘处并处于对角方向的两个定位孔的相对坐标(X、y);通过坐标(X、y)确定掩模板中心点O，并将其坐标设定为(0,0),自动生成X、y坐标轴；通过C⑶扫描掩模板图形区域开口，读取各开口中心点相对于掩模板中心点的坐标(xn、yn);将坐标(χη、yn)与蒸镀图形像素对比，若坐标值偏差超出± 5 μ m，在基台的固定装置上施加水平方面上的拉力，使开口的位置偏差控制在± 5 μ m。2.根据权利要求1所述的提高掩模板开口位置精度的方法，其特征在于，将所述掩模板固定在基台的固定装置上。3.根据权利要求2所述的提高掩模板开口位置精度的方法，其特征在于，与所述固定装置一体形成的拉动装置，通过拉动动力源带动弹性元件施加拉力，带动拉动装置沿着轨道产生微米级的位移。4.根据权利要求3所述的提高掩模板开口位置精度的方法，其特征在于，拉力的方向为X轴方向、y轴方向、与X轴夹角为45°方向或与X轴夹角为135°方向的任意组合。5.根据权利要求4所述的提高掩模板开口位置精度的方法，其特征在于，固定装置为挂齿，拉动装置为拉板，拉动动力源为电机。6.一种提高掩模板开口位置精度的装置，其特征在于，包括:基台、拉动装置、`弹性元件、固定装置和拉动动力源；其中，固定装置和拉动装置一体形成在基台上，将掩模板固定在固定装置上，拉动动力源提供拉动动力，通过弹性元件的力的传导，带动拉动装置沿着轨道产生微米级的位移。7.根据权利要求6所述的提高掩模板开口位置精度的装置，其特征在于，固定装置为挂齿，拉动装置为拉板，拉动动力源为电机。8.根据权利要求6所述的提高掩模板开口位置精度的装置，其特征在于，所述拉板个数至少为8个，分别位于掩模板四边及四角。9.根据权利要求6所述的提高掩模板开口位置精度的装置，其特征在于，所述拉板在掩模板一边的个数为3个。全文摘要本专利技术涉及一种提高掩模板开口位置精度的方法，通过CCD扫描掩模板，读取位于掩模板边缘处并处于对角方向的两个定位孔的相对坐标(x、y)，通过坐标(x、y)确定掩模板中心点o，并将其坐标设定为(0、0)，自动生成x、y坐标轴，通本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种提高掩模板开口位置精度的方法，其特征在于，具体步骤包括：将掩模板固定在具有固定作用的基台上；通过CCD扫描掩模板，读取位于掩模板边缘处并处于对角方向的两个定位孔的相对坐标（x、y）；通过坐标（x、y）确定掩模板中心点o，并将其坐标设定为（0、0），自动生成x、y坐标轴；通过CCD扫描掩模板图形区域开口，读取各开口中心点相对于掩模板中心点的坐标（xn、yn）；将坐标（xn、yn）与蒸镀图形像素对比，若坐标值偏差超出±5μm，在基台的固定装置上施加水平方面上的拉力，使开口的位置偏差控制在±5μm。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：魏志凌，高小平，郑庆靓，孙倩，
申请(专利权)人：昆山允升吉光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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