电容式书写装置制造方法及图纸

本发明专利技术是有关于一种电容式书写装置，其包括：电容笔，包括导电笔身与导电笔头，导电笔身与导电笔头接触性耦合，并且导电笔头包括接触部与非接触部；以及位置侦测装置，包括：触摸屏，具有多条被提供驱动信号的被驱动导电条与多条提供电容性耦合变化量的被侦测导电条；及控制器。本发明专利技术借由相应于接近或接触信号与相邻信号的总和来与门槛限值以较，可判断出原本门槛限值无法判断的小面积的接近或接触。电容笔可以是由导电纤维胶合而成。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术有关于一种电容式触摸屏，特别是一种能侦测到细笔头电容笔的电容式触摸屏。
技术介绍
现有习知的的互电容式感测器(mutual capacitive sensor),包括绝缘表层、第一导电层、介电层及第二导电层，其中第一导电层与第二导电层分别具有多条第一导电条与第二导电条，这些导电条可以是由多个导电片与串联导电片的连接线构成。在进行互电容式侦测时,第一导电层与第二导电层之一被驱动，并且第一导电层与第二导电层的另一被侦测。例如，驱动信号逐一被提供给每一条第一导电条，并且相应于每一条被提供驱动信号的第一导电条，侦测所有的第二导电条的信号来代表被提供驱动信号的第一导电条与所有第二导电条间交会处的电容性耦合信号。借此，可取得代表所有第一导电条与第二导电条间交会处的电容性耦合信号，成为电容值影像。据此，可以取得在未被触碰时的电容值影像作为基准，借由比对基准与后续侦测到的电容值影像间的差异，来判断出是否被外部导电物件接近或覆盖，并且更进一步地判断出被接近或覆盖的位置。然而，基准与后续侦测到的电容值影像间的差异明不明显与外部导电物件接近或覆盖触摸屏的面积相关，因此需要足够大的面积才能被辨识出来。这样的限制使得被动式电容笔的笔头必需很粗大，直径约在4mm以上，造成书写时不容易看见笔尖，不易精确地书写在预期的位置上。由此可见，上述现有技术显然存在有不便与缺陷，而极待加以进一步改进。为了解决上述存在的问题，相关厂商莫不费尽心思来谋求解决之道，但长久以来一直未见适用的设计被发展完成，而一般产品及方法又没有适切的结构及方法能够解决上述问题，此显然是相关业者急欲解决的问题。因此如何能创设一种新的技术，实属当前重要研发课题之一，亦成为当前业界极需改进的目标。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种电容式书写装置，借由相应于接近或接触信号与相邻信号的总和来与门槛限值比较，可判断出原本门槛限值无法判断的小面积的接近或接触。本专利技术的目的及解决其技术问题是采用以下技术方案来实现的。依据本专利技术提出的一种电容式书写装置，包括:电容笔，包括导电笔身与导电笔头，导电笔身与导电笔头接触性耦合，并且导电笔头包括接触部与非接触部，其中接触部较非接触部软，并且导电笔头是由导电纤维胶合，部分或全部的导电纤维由非接触部延伸至接触部；以及位置侦测装置，包括:触摸屏，具有多条被提供驱动信号的被驱动导电条与多条提供电容性耦合变化量的被侦测导电条，在每次驱动信号被提供时，被同时提供驱动信号的一条或多条被驱动导电条与每一条被侦测导电条的交会处产生电容性耦合；及控制器，当电容笔被外部导电物件在触摸屏上握持时，控制器依据所述的交会处产生的电容性耦合的变化量判断出电容笔在触摸屏上的位置。本专利技术的目的及解决其技术问题还可采用以下技术措施进一步实现。较佳的，前述的电容式书写装置，其中该控制器包括:由触模屏取得电容性耦合变化量影像的装置，其中电容性耦合变化量影像的每一个值分别为所述交会处之一的电容性耦合变化量；由电容性耦合变化量影像侦测每一个值大于第一门槛限值的交会处的装置；以及当侦测到至少一个值大于第一门槛限值的交会处时，判断出每一个电容笔的接近或接触的单一交会处的装置，其中每一个电容笔的接近或接触的单一交会处相邻的所有交会处都小于第一门滥限值。较佳的，前述的电容式书写装置，其中该控制器包括:由触模屏取得电容性耦合变化量影像的装置，其中电容性耦合变化量影像的每一个值分别为所述交会处之一的电容性耦合变化量；由电容性耦合变化量影像侦测每一个被侦测交会处的装置，其中被侦测交会处的值小于第一门槛限值与大于第二门槛限值；以及侦测每一个第一区域的装置，每一个第一区域包含所述被侦测交会处之一与相邻于被侦测交会处的相邻交会处，并且第一区域的值的总和大于第一门槛限值；当侦测到至少一个第一区域时，判断出触控笔接近或接触的第一区域的装置，其中与电容笔接近或接触的第一区域相邻的所有交会处的值小于第三门槛限值。较佳的，前述的电容式书写装置，其中控制器更包括:当没有侦测到任何第一区域时，侦测每一个第二区域的装置，每一个第二区域包含所述被侦测交会处在内的四个相邻的交会处，并且第二区域的值的总和大于第一门槛限值；以及当侦测到至少一个第二区域时，判断出触控笔接近或接触的第二区域的装置，其中与电容笔接近或接触的第二区域相邻的所有交会处的值小于第三门槛限值。较佳的，前述的电容式书写装置，其中该第一门槛限值〉第二门槛限值〉第三门槛限值。较佳的，前述的电容式书写装置，其中该第二门槛限值为第一门槛限值的1/2，并且第三门槛限值为第一门槛限值的1/4。较佳的，前述的电容式书写装置，其中该电容笔与触摸屏接触的最大宽度小于两平行排列且相邻的导电条的中央间的距离，两平行排列且相邻的导电条为所述的被驱动导电条或被侦测导电条。较佳的，前述的电容式书写装置，其中每一个判断出的电容笔接近或接触的第一区域或第二区域分别为电容笔接近或接触的第一区域或第二区域，其中电容笔与触摸屏接触的最大宽度小于或等于3mm。借由上述技术方案，本专利技术至少具有下列优点及有益效果:1、能侦测出比传统电容笔的笔头更小的小面积接近与接触；2、能侦测出小面积的外部导电物件的悬空接近；以及3、接近传统的书写习惯，容易精确地书写在预期的位置上。上述说明仅是本专利技术技术方案的概述，为了能够更清楚了解本专利技术的技术手段，而可依照说明书的内容予以实施，并且为了让本专利技术的上述和其他目的、特征和优点能够更明显易懂，以下特举较佳实施例，并配合附图，详细说明如下。附图说明图1A与IB为互电容式感测器的示意图。图1C至IE为依据本专利技术的第一实施例提出的小笔头电容笔接近或接触触摸屏的示意图。图1F至IG为依据本专利技术的第一实施例提出的判断小笔头电容笔接近或接触的示意图。图2A为依据本专利技术的第一实施例提出的侦测小面积接近或接触的流程示意图。图2B至2G为依据本专利技术的第一实施例说明第一区域与第二区域的示意图。图3A与图3B，是依据本专利技术的第二实施例提出的一种电容笔的示意图。主要元件符号说明100:位置侦测装置110:显示器120,34:触摸屏120A:第一感测层120B:第二感测层130:驱动/侦测单元140:导电条160:控制器140A、Txl、Tx2:第一导电条 140B、Rx2:第二导电条161:处理器162:存储器 170:主机171:中央处理单元173:储存单元P:电容笔V1、V2、V3、V23、V32:电容性耦合变化量PWM:脉冲宽度调变信号Tl:第一门槛限值T2:第二门槛限值30:电容笔31:导电笔身32:导电笔头33:接触部35:形变的接触部具体实施例方式本专利技术将详细描述一些实施例如下。然而，除了所揭露的实施例外，本专利技术亦可以广泛地运用在其他的实施例施行。本专利技术的范围并不受该些实施例的限定，乃以其后的申请专利范围为准。而为提供更清楚的描述及使熟悉该项技艺者能理解本专利技术的
技术实现思路
，图示内各部分并没有依照其相对的尺寸而绘图，某些尺寸与其他相关尺度的比例会被突显而显得夸张，且不相关的细节部分亦未完全绘出，以求图示的简洁。请参照图1A，本专利技术提出一种位置侦测装置100，包括触摸屏120，与驱动/侦测单元130。触摸屏120具有感测层。在本专利技术的实施例中，可包括第一感测层120A本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种电容式书写装置，其特征在于其包括：电容笔，包括导电笔身与导电笔头，导电笔身与导电笔头接触性耦合，并且导电笔头包括接触部与非接触部，其中接触部较非接触部软，并且导电笔头是由导电纤维胶合，部分或全部的导电纤维由非接触部延伸至接触部；以及位置侦测装置，包括：触摸屏，具有多条被提供驱动信号的被驱动导电条与多条提供电容性耦合变化量的被侦测导电条，在每次驱动信号被提供时，被同时提供驱动信号的一条或多条被驱动导电条与每一条被侦测导电条的交会处产生电容性耦合；以及控制器，当电容笔被外部导电物件在触摸屏上握持时，控制器依据所述的交会处产生的电容性耦合的变化量判断出电容笔在触摸屏上的位置。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：张钦富，叶尚泰，邱士豪，
申请(专利权)人：禾瑞亚科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：