一种量测图案化衬底的量测方法技术

本发明专利技术涉及一种量测图形化衬底图形的方法，主要用于测试在平滑衬底上进行规则图形化后图形尺寸的量测；方法中利用扫描电子显微镜（SEM）作为测试工具，但测试过程没有按照普通裂片的制样方式进行，而是将整片无损伤地进行测试；测试中将样品进行一定角度倾斜，量测倾斜后的成像尺寸，经过一定运算可以得到所测样品实际图形尺寸。本发明专利技术介绍的方法给出了SEM在高度测试中新的形式，开启了图形化衬底图形尺寸的无损伤测试模式，既节约了成本又简化了测试中制样的流程。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种图形的测量方法，尤其是一种利用SEM无损伤测试图形化衬底图形尺寸的方法。
技术介绍
目前资源匮乏，能源紧张问题已经成为全球经济发展的瓶颈，在供电日趋紧张的情况下，世界各国均不约而同地开始了新型照明光源的探索。LED作为一种得到广泛关注的新型光源，具有节能、环保、寿命长等优势，理论上可实现只消耗白炽灯10%的能耗，比荧光灯节能50%。 LED用于日常生产生活必须提高其发光效率，而目前常用的技术方案就是使用图案化蓝宝石衬底，即PSS技术。PSS就是利用光刻、刻蚀等技术在单抛的蓝宝石衬底表面加工出有规律的图案，选择合适的PSS衬底，可以减少LED外延中的位错密度，改善晶体质量提高LED内量子效率；同时PSS的特殊结构也可以散射光线增加光萃取效率，因此增加LED亮度。基于此，对PSS的选择也随即成为了 LED产业链中重要一环，目前用于检测PSS的主要测试方式主要包括扫SEM和原子力显微镜(AFM):然而常规测试中SEM是破坏性测试，无形中将会增加原料成本;AFM测试则会导致探针的损耗严重，并且一旦探针更换不及时就会得到看似理想的结果，实则为虚假信息，这样便会给生产带来严重后果。
技术实现思路
本专利技术要解决的技术问题是:提出一种通过测试旋转SEM承载台一定角度的图形尺寸来计算实际尺寸的量测图案化衬底的方法。本专利技术所采用的技术方案为:，包括以下步骤:I)将样品整片放置在扫描电子显微镜SEM承载台上；2)旋转SEM承载台一定的角度m ；3)分别记录旋转后样片图形的高度h，水平夹角α，通过公式得到图形实际高度H与h，a，m之间的关系，计算得出实际高度H。所述的实际高度H与h，a，m之间的关系是:权利要求1.，其特征在于包括以下步骤: 1)将样品整片放置在扫描电子显微镜SEM承载台上； 2)旋转SEM承载台一定的角度m； 3)分别记录旋转后样片图形的高度h，水平夹角α，通过公式得到图形实际高度H与h，a，m之间的关系，计算得出实际高度H。2.如权利要求1所述的，其特征在于:所述的实际高度H与h，a，m之间的关系是:3.如权利要求1所述的，其特征在于:所述的待测样品为具有圆锥形图案的图形化衬底，其正视图为等腰三角形；所述的实际高度H与h，a，m之间的关系是:4.如权利要求1所述的，其特征在于:所述的测试中的SEM的探头保持不变，图形与水平夹角α为恒定值。全文摘要本专利技术涉及一种量测图形化衬底图形的方法，主要用于测试在平滑衬底上进行规则图形化后图形尺寸的量测；方法中利用扫描电子显微镜(SEM)作为测试工具，但测试过程没有按照普通裂片的制样方式进行，而是将整片无损伤地进行测试；测试中将样品进行一定角度倾斜，量测倾斜后的成像尺寸，经过一定运算可以得到所测样品实际图形尺寸。本专利技术介绍的方法给出了SEM在高度测试中新的形式，开启了图形化衬底图形尺寸的无损伤测试模式，既节约了成本又简化了测试中制样的流程。文档编号G01B15/00GK103196400SQ201310119340公开日2013年7月10日 申请日期2013年4月8日 优先权日2013年4月8日专利技术者盛建明, 江成龙, 涂亮亮, 石剑舫 申请人:常州同泰光电有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种量测图案化衬底的量测方法，其特征在于包括以下步骤：1）将样品整片放置在扫描电子显微镜SEM承载台上；2）旋转SEM承载台一定的角度m；3）分别记录旋转后样片图形的高度h，水平夹角α，通过公式得到图形实际高度H与h，α，m之间的关系，计算得出实际高度H。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：盛建明，江成龙，涂亮亮，石剑舫，
申请(专利权)人：常州同泰光电有限公司，
类型：发明
国别省市：