本发明专利技术提供一种用于形成同时具备无色透明性和较高的水蒸气阻挡性两者的水蒸气阻挡膜的蒸镀材及其成膜方法以及通过该方法成膜的水蒸气阻挡膜。本发明专利技术的水蒸气阻挡膜形成用蒸镀材由纯度为98％以上且小于100％的第1氧化物和纯度为98％以上且小于100％的第2氧化物构成，其特征在于，上述第1氧化物为WO3，上述第2氧化物为ZnO或SiO中的至少一方，将上述第1氧化物和第2氧化物的含有摩尔量分别设为X摩尔、Y摩尔时，组成比为0.05≤X摩尔/（X摩尔＋Y摩尔）≤0.95。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种在例如液晶显示器、有机EL显示器或太阳能电池等电子设备或食品、药品等的包装材料等中用于形成同时具备无色透明性和较高的水蒸气阻挡性两者的水蒸气阻挡膜的蒸镀材及其成膜方法以及通过该方法成膜的水蒸气阻挡膜。
技术介绍
液晶显示器、有机EL显示器或太阳能电池等设备通常经不起湿气，使其特性因吸湿而迅速地劣化，所以必须配备具有高防湿性、即防止氧气或水蒸气等透过或进入的具有气体阻挡性的组件。例如，在太阳能电池的例子中，在太阳能电池模块的受光面的相反一侧的背面设置有背板。该背板的代表性例子为，由利用蒸镀材等成膜在基材上的具有高防湿性的水蒸气阻挡膜和保护它们的部件等构成的背板。并且，除上述太阳能电池等设备以外，在食品和药品等的包装材料等中也要求较高的水蒸气阻挡性，一般广为人知的是水蒸气阻挡膜的包装材料等，该水蒸气阻挡膜通过具备在塑料的表面蒸镀氧化硅、氧化铝或铝金属箔等来成膜。并且，水蒸气阻挡膜除水蒸气阻挡性以外还要求透明性。这是因为，例如在食品和药品的包装材料等中，除水蒸气阻挡性以外还具备透明性，由此不开封也能够透视容纳物进行确认。并且，若具备透明性，则例如使用于有机EL显示器的发光面和太阳能电池的受光面侧时，也不会引起显示器显示的视觉性弊病，并且，不妨碍太阳光的受光，亦能够提供耐湿性。因此，希望在这些电子设 备的领域中也具备透明性。作为涉及这种具备水蒸气阻挡性和透明性的水蒸气阻挡膜的技术，公开有使用SiO蒸镀材并且通过电子束蒸镀法(Electron Beam Evaporation Method,以下称为EB法)在基材薄膜上形成SiOx膜的气体阻挡性薄膜(例如，参考专利文献I)。在该专利文献I中示出的气体阻挡性薄膜中，作为水蒸气阻挡膜，具备通过EB法形成的SiOx膜，由此能够得到可见光透过率85%以上的透明性和水蒸气透过率5g/m2.天以下的非常高的气体阻挡性。并且，作为气体阻挡层，公开有具备由氧化铝组成的水蒸气阻挡膜的气体阻挡性层叠薄膜(例如，参考专利文献2)。该专利文献2中示出的气体阻挡性层叠薄膜中，在透明基材上层叠由氧化铝组成的气体阻挡层，并且以预定厚度层叠预定的包覆层，由此具备透明性，且能够得到即使实施作为包装材料的通常加工而气体阻挡性也不会劣化的较高的气体阻挡性。专利文献1:日本专利公开2008-266760号公报(权利要求1 3)专利文献2:日本专利公开2010-052222号公报(权利要求1、段)然而，除了上述透明性及水蒸气阻挡性之外，不仅希望水蒸气阻挡膜透明，而且无色透明。当为上述以往的专利文献I等中示出的气体阻挡性薄膜时，具备充分的水蒸气阻挡性，并且，关于透明性也实现了 85%以上的可见光透过率，具有充分的透明度，但可看到作为水蒸气阻挡膜具备的SiOx膜成为浅黄色透明的倾向，不易成为无色透明膜。尤其是，当为食品用包装材料时，忌讳黄色，但例如从对使用于显示器的显示面侧时的显色或色调的影响等方面考虑时，在电子设备等领域中也优选色调较少的透明膜。并且，从批量生产性或成本方面考虑，希望能够以更低的能量成膜，且成膜速度较快。另一方面，在上述以往的专利文献2中示出的层叠薄膜中，虽然具备较高的水蒸气阻挡性，但由于氧化铝为低蒸气压材料，所以成膜装置有限，并且，成膜蒸镀膜时需要高能量，因此在批量生产性或成本方面留有课题。这样，在制造高质量的水蒸气阻挡膜时，对于成膜时的输出降低或成膜速度的高速化，不仅依赖装置方面的改良，还要求材料方面的改良等。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种用于形成同时具备无色透明性和较高的水蒸气阻挡性两者的水蒸气阻挡膜的蒸镀材及其成膜方法以及通过该方法成膜的水蒸气阻挡膜。本专利技术的另一目的在于提供一种能够以低能量且高速成膜同时具备无色透明性和较高的水蒸气阻挡性两者的水蒸气阻挡膜的水蒸气阻挡膜形成用蒸镀材及其成膜方法。本专利技术的第I观点为一种由纯度为98%以上且小于100%的第I氧化物和纯度为98%以上且小于100%的第2氧化物构成的水蒸气阻挡膜形成用蒸镀材，其中，上述第I氧化物为WO3,上述第2氧化物为ZnO或SiO中的至少一方，将上述第I氧化物和第2氧化物的含有摩尔量分别设为X摩尔、Y摩尔时，组成比为0.05 < X摩尔/ (X摩尔+ Y摩尔)(0.95。本专利技术的第2观点为根据第I观点的专利技术，其中，蒸镀材进一步由经过造粒处理的平均粒径I IOmm的颗粒体构成。本专利技术的第3观点为根据第I观点的专利技术，其中，蒸镀材进一步由经过冲压成型的直径5 30mm、厚度I 20mm的粒料构成。 本专利技术的第4观点为一种水蒸气阻挡膜的成膜方法，该成膜方法利用第I至第3观点的蒸镀材，通过电阻加热法、电子束蒸镀法或反应性等离子体蒸镀法进行成膜。本专利技术的第5观点为一种水蒸气阻挡膜，该水蒸气阻挡膜利用第I至第3观点的蒸镀材并通过真空成膜法形成，且b*值的绝对值小于3，并且水蒸气透过率为0.lg/m2.天以上且小于1.0g/m2.天。本专利技术的第I观点的蒸镀材为一种由纯度为98%以上且小于100%的第I氧化物和纯度为98%以上且小于100 %的第2氧化物构成的水蒸气阻挡膜形成用蒸镀材，其中，上述第I氧化物为WO3，上述第2氧化物为ZnO或SiO中的至少一方。并且，将上述第I氧化物和第2氧化物的含有摩尔量分别设为X摩尔、Y摩尔时，组成比为0.05 < X摩尔/ (X摩尔+ Y摩尔)(0.95。由此，能够形成同时具备无色透明性和较高的水蒸气阻挡性两者的水蒸气阻挡膜。并且，由于蒸镀材所含的第I氧化物和第2氧化物均为高蒸气压材料，因此能够以低能量且高速成膜上述高质量的水蒸气阻挡膜。本专利技术的第4观点为一种水蒸气阻挡膜的成膜方法，该成膜方法利用本专利技术的蒸镀材，通过电阻加热法、电子束蒸镀法或反应性等离子体蒸镀法进行成膜。本专利技术的成膜方法中，由于利用上述本专利技术的蒸镀材进行水蒸气阻挡膜的成膜，因此能够以低能量且高速成膜同时具备无色透明性和较高的水蒸气阻挡性两者的水蒸气阻挡膜。因此，不限定成膜方法，通过上述的任意方法也能够成膜高质量的水蒸气阻挡膜。本专利技术的第5观点为一种水蒸气阻挡膜，该水蒸气阻挡膜利用本专利技术的蒸镀材且通过真空成膜法形成，且b*值的绝对值小于3，并且水蒸气透过率为0.lg/m2.天以上且小于1.0g/m2.天。本专利技术的水蒸气阻挡膜由于是利用上述本专利技术的蒸镀材成膜且同时具备无色透明性和较高的水蒸气阻挡性两者的高质量的水蒸气阻挡膜，因此在例如有机EL显示器等的发光面侧(影像等的显示面侧)也能够优选使用。具体实施例方式接着，对用于实施本专利技术的方式进行说明。本专利技术的水蒸气阻挡膜形成用蒸镀材为一种由纯度为98%以上且小于100%的第I氧化物和纯度为98%以上且小于100%的第2氧化物构成的水蒸气阻挡膜形成用蒸镀材,其中，上述第I氧化物为WO3，上述第2氧化物为ZnO或SiO中的至少一方。并且，将上述第I氧化物和第2氧化物的含有摩尔量分别设为X摩尔、Y摩尔时，组成比为0.05 < X摩尔/ (X摩尔+Y摩尔X 0.95。将第I氧化物设为WO3,并且，将第2氧化物设为ZnO或SiO中的至少一方的理由在于，第一，是为了能够形成水蒸气阻挡性较高且色调较少的透明即无色透明的膜。可以看到如下倾向=WO3易形成浅本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种水蒸气阻挡膜形成用蒸镀材，由纯度为98％以上且小于100％的第1氧化物和纯度为98％以上且小于100％的第2氧化物构成，其中，所述第1氧化物为WO3，所述第2氧化物为ZnO或SiO中的至少一方，将所述第1氧化物和所述第2氧化物的含有摩尔量分别设为X摩尔、Y摩尔时，组成比为0.05≤X摩尔/（X摩尔＋Y摩尔）≤0.95。
【技术特征摘要】
2011.12.22 JP 2011-2815631.一种水蒸气阻挡膜形成用蒸镀材，由纯度为98%以上且小于100%的第I氧化物和纯度为98%以上且小于100%的第2氧化物构成,其中， 所述第I氧化物为WO3，所述第2氧化物为ZnO或SiO中的至少一方， 将所述第I氧化物和所述第2氧化物的含有摩尔量分别设为X摩尔、Y摩尔时，组成比为0.05 < X摩尔/ (X摩尔+ Y摩尔)≤0.95。2.如权利要求1所述的水蒸气阻挡膜形成用蒸镀材，其中...
【专利技术属性】
技术研发人员：吉田勇气，樱井英章，
申请(专利权)人：三菱综合材料株式会社，
类型：发明
国别省市：
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