滚珠平衡器制造技术

本发明专利技术公开了一种滚珠平衡器，该滚珠平衡器增加滚珠停留部分中的滚珠比率并限制由滚珠停留部分外的滚珠引起的不平衡的加剧。当旋转装置的转速小于第一转速时，滚珠停留部分允许从滚动面移动的滚珠停留在其中并允许其中的滚珠接触滚珠停留部分外的释放滚珠以防止释放滚珠离开滚动面。防离开部分设置为接触滚珠停留部分外的释放滚珠以防止释放滚珠离开滚动面。当转速大于第一转速时，滚珠停留部分允许其中的滚珠通过施加到其上的离心力而离开并到达滚动面。

【技术实现步骤摘要】
滚珠平衡器
本专利技术的实施方式涉及纠正旋转装置的重心和旋转中心之间的错位的滚珠平衡器。
技术介绍
传统地，滚珠平衡器已经作为用于纠正不平衡(旋转装置的重心和旋转中心之间的错位)的器件而被公知，该不平衡导致旋转系统的振动或噪音。典型的滚珠平衡器包括其中具有空白空间的环形沟槽构件以及可移动地容纳在该沟槽构件内的多个滚珠。滚珠平衡器与旋转装置同心地安装，并且绕旋转装置的旋转轴与旋转装置一起旋转。如果旋转装置的转速超过共振转速(即，导致旋转系统的主共振的转速)，则滚珠移动离开旋转装置的重量不平衡部分。这能够纠正不平衡。例如，这样的滚珠平衡器安装到洗衣机的旋转桶以纠正由洗衣机旋转桶内的衣物偏置而产生的不平衡。除洗衣机的旋转桶之外，滚珠平衡器还可以安装到旋转机构的旋转装置，诸如离心机或盘驱动器(disc drive)。然而，如果旋转装置的转速小于共振转速，则滚珠可以朝向旋转装置的重量不平衡部分移动，而不是移动离开重量不平衡部分。结果，加剧了不平衡。作为一种对策，日本专利公开第S54-120957号公开了一种平衡装置，在该平衡装置中多个凹槽(滚珠停留位置)形成在平衡装置的底部，凹槽的内部侧壁的倾斜角被确定为使得在脱水桶以比脱水桶的支撑系统的固有频率高的转速旋转时平衡重物(balance weights)(滚珠)离心地滚出凹槽。在上述公开第S54-120957号中公开的平衡装置中，如果脱水桶的转速大于固有频率，则平衡重物从凹槽离心地离开并移动到平衡装置的顶部。如果脱水桶的转速小于固有频率，则平衡重物停留在凹槽中，这可以限制不平衡的加剧。日本专利公开第S49-10563号公开了一种脱水/洗涤机构，在该脱水/洗涤机构中，安装到洗涤桶的重物导管内部提供有一坡道(slope)，当洗涤桶小于共振转速旋转时，重物(滚珠)停留在坡道与侧壁(该侧壁与该坡道相对)之间的间隙(滚珠停留位置)中，但是当洗涤桶达到共振转速时，重物(滚珠)沿该坡道离心地向上移动。此外，日本专利公开第S59-183846号公开了一种平衡器，在该平衡器中环形腔接收液体和布置在其底部(滚珠停留位置)的球(滚珠)，使得当旋转桶以比共振点高的速度旋转时，球从环形腔的底部沿环形腔的倾斜壁向上离心地移动。然而，在现有技术中，虽然在旋转装置的转速变得小于共振转速(导致旋转系统的主共振的每分钟转数)的情况下，滚珠通过重力开始向滚珠停留位置移动，但是存在一种可能:不在滚珠停留位置的一些滚珠接触在滚珠停留位置的其它滚珠并保持不动，而不移动到滚珠停留位置。在该情形下，因为重力被施加到不在滚珠停留位置的滚珠，所以可能难以将滚珠移动到滚珠停留位置。例如，虽然上述公开第S54-120957描述了滚珠经由脱水桶的振动而产生的移动，但是移动不在滚珠停留位置的滚珠是不可能的，因为施加到滚珠的重力大于由脱水桶的振动产生的力(即，用于沿沟槽构件的圆周方向移动滚珠的力量)。因而，沿圆周方向分布不在滚珠停留位置的滚珠是不可能的，因此，增加在滚珠停留位置的滚珠的比率是不可能的。这使得难以限制由于不在滚珠停留位置的滚珠而引起的不平衡的加剧。
技术实现思路
本专利技术的一方面提供一种滚珠平衡器，该滚珠平衡器可以增加在滚珠停留位置处存在的滚珠的比率并限制由不在滚珠停留位置的滚珠弓I起的不平衡的加剧。本专利技术的其它方面将在以下的描述中部分地阐述，且部分将通过该描述明显或者可以通过对本专利技术的实践而习知。根据本专利技术的一个方面，一种安装到绕旋转轴可旋转的旋转装置的滚珠平衡器包括:环形沟槽构件，其中具有空白空间；以及多个滚珠，可移动地容纳在沟槽构件的空白空间中，其中沟槽构件的空白空间由绕旋转轴的圆管形式的内圆周壁和外圆周壁、以及使内圆周壁和外圆周壁的上端和下端彼此连接的环形底壁和顶壁限定，其中底壁的内表面由连接到内圆周壁的内圆周边缘部分以及使内圆周边缘部分和外圆周壁彼此连接的滚动面配置，其中底壁的内表面的内圆周边缘部分提供有沿沟槽构件的圆周方向相互间隔开预定距离的多个滚珠停留部分以及分别布置在多个滚珠停留部分之间的多个防离开部分，其中滚动面从底壁的内表面的内圆周边缘部分到外圆周壁向上倾斜，以在旋转装置的转速大于第二转速时允许滚珠通过施加到滚珠的离心力而移动到外圆周壁，其中第二转速小于导致主共振的第一转速，其中当旋转装置的转速小于第一转速时，每个滚珠停留部分配置为允许从滚动面移动到滚珠停留部分的滚珠之一停留在滚珠停留部分并允许在滚珠停留部分中的停留滚珠接触滚珠停留部分外部的滚珠中的一个释放滚珠，以防止释放滚珠离开滚动面，并且在旋转装置的转速大于第一转速时，每个滚珠停留部分还配置为允许滚珠停留部分中的停留滚珠通过施加到停留滚珠的离心力而离开并到达滚动面，以及其中多个防离开部分中的每个配置为在旋转装置的转速小于第一转速时接触滚珠停留部分外部的释放滚珠，从而防止释放滚珠离开滚动面。当旋转装置的转速小于第一转速时，滚珠停留部分外的释放滚珠可以位于滚动面上。因此，随着旋转装置的转速在小于第一转速的范围内变化，释放滚珠可以通过施加到释放滚珠的离心力和重力而在滚动面上移动。因此，沿沟槽构件的圆周方向分布被释放的滚珠可以是可能的。因此，滚珠停留部分外的滚珠(释放滚珠)可以容易地移动到其中没有滚珠停留的滚珠停留部分，这可以增加滚珠停留部分中的滚珠的停留比率。结果，可以减少由于释放滚珠而引起的不平衡的加剧。多个滚珠停留部分可以分别通过多个凹槽配置。多个凹槽的每个的径向外侧表面可以从凹槽的底部到滚动面的内圆周边缘以比滚动面陡峭的角度向上倾斜，以在旋转装置的转速大于第一转速时通过施加到滚珠的离心力而允许凹槽中的滚珠在凹槽的径向外侧表面上移动并离开且到达滚动面，以及多个凹槽的每个的深度可以被确定为确保凹槽外部的释放滚珠既接触滚动面又接触凹槽中的停留滚珠。利用该结构，当旋转装置的转速小于第一转速时，从滚动面移动到凹槽中的滚珠可以停留在凹槽中。当旋转装置的转速大于第一转速时，停留在凹槽中的滚珠可以通过施加到停留滚珠的离心力而离开并到达滚动面。此外，当旋转装置的转速小于第一转速时，停留滚珠可以接触释放滚珠以防止释放滚珠离开滚动面。多个凹槽的每个的深度可以被确定为确保凹槽中的停留滚珠的上端从凹槽突出以及在凹槽外部的释放滚珠在高于凹槽的上端的位置处接触停留滚珠。利用该结构，释放滚珠可以既接触滚动面又接触停留滚珠。多个防离开部分可以分别通过多个突起配置。多个突起的每个可以配置为允许释放滚珠既接触滚动面又接触突起的径向外侧表面。利用该结构，当旋转装置的转速小于第一转速时，释放滚珠可以接触突起的径向外侧表面以防止释放滚珠离开滚动面。从滚动面的内圆周边缘到多个突起的每个的径向外侧表面的径向距离可以小于滚珠的半径。利用该结构，释放滚珠可以既接触滚动面又接触突起的径向外侧表面。多个突起的每个可以配置为允许释放滚珠接触突起的径向外侧表面的除了其边缘之外的一部分。利用该结构，可以减小释放滚珠的滚动阻力。因此，释放滚珠可以容易地沿沟槽构件的圆周方向分布，导致增加的滚珠停留比率。多个突起的每个的径向外侧表面关于旋转轴的宽度可以大于滚珠的半径。利用该结构，释放滚珠可以接触突起的径向外侧表面的除了其边缘之外的一部分。旋转装置可在高速旋转模式和变速旋转模式之间转换，其中在高速旋转本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种滚珠平衡器，安装到绕旋转轴可旋转的旋转装置，所述滚珠平衡器包括：环形沟槽构件，其中具有空白空间；以及多个滚珠，可移动地容纳在所述沟槽构件的所述空白空间中，其中所述沟槽构件的所述空白空间由绕所述旋转轴的圆管形式的内圆周壁和外圆周壁、以及使所述内圆周壁和所述外圆周壁的上端和下端彼此连接的环形底壁和顶壁限定，其中所述底壁的内表面由连接到所述内圆周壁的内圆周边缘部分以及使所述内圆周边缘部分和所述外圆周壁彼此连接的滚动面配置，其中所述底壁的所述内表面的所述内圆周边缘部分提供有多个滚珠停留部分和分别布置在所述多个滚珠停留部分之间的多个防离开部分，该多个滚珠停留部分沿所述沟槽构件的圆周方向相互间隔开预定距离，其中所述滚动面从所述底壁的所述内表面的所述内圆周边缘部分到所述外圆周壁向上倾斜，以在旋转装置的转速大于第二转速时允许所述滚珠通过施加到所述滚珠的离心力而移动到所述外圆周壁，其中第二转速小于导致主共振的第一转速，其中当所述旋转装置的转速小于所述第一转速时，每个所述滚珠停留部分配置为允许从所述滚动面移动到所述滚珠停留部分的所述滚珠之一停留在所述滚珠停留部分中并允许在所述滚珠停留部分中的所述停留滚珠接触所述滚珠停留部分外部的滚珠中的一个释放滚珠，以防止所述释放滚珠离开所述滚动面，并且在所述旋转装置的转速大于所述第一转速时，每个所述滚珠停留部分还配置为允许所述滚珠停留部分中的所述停留滚珠通过施加到所述停留滚珠的离心力而离开并到达所述滚动面，以及其中所述多个防离开部分中的每个配置为在所述旋转装置的转速小于所述第一转速时，接触所述滚珠停留部分外部的所述释放滚珠，以防止所述释放滚珠离开所述滚动面。...

【技术特征摘要】
2011.12.16 JP 2011-276178;2012.12.04 KR 10-2012-01.一种滚珠平衡器，安装到绕旋转轴可旋转的旋转装置，所述滚珠平衡器包括: 环形沟槽构件，其中具有空白空间；以及 多个滚珠，可移动地容纳在所述沟槽构件的所述空白空间中， 其中所述沟槽构件的所述空白空间由绕所述旋转轴的圆管形式的内圆周壁和外圆周壁、以及使所述内圆周壁和所述外圆周壁的上端和下端彼此连接的环形底壁和顶壁限定，其中所述底壁的内表面由连接到所述内圆周壁的内圆周边缘部分以及使所述内圆周边缘部分和所述外圆周壁彼此连接的滚动面配置， 其中所述底壁的所述内表面的所述内圆周边缘部分提供有多个滚珠停留部分和分别布置在所述多个滚珠停留部分之间的多个防离开部分，该多个滚珠停留部分沿所述沟槽构件的圆周方向相互间隔开预定距离， 其中所述滚动面从所述底壁的所述内表面的所述内圆周边缘部分到所述外圆周壁向上倾斜，以在旋转装置的转速大于第二转速时允许所述滚珠通过施加到所述滚珠的离心力而移动到所述外圆周壁，其中第二转速小于导致主共振的第一转速， 其中当所述旋转装置的转速小于所述第一转速时，每个所述滚珠停留部分配置为允许从所述滚动面移动到所述滚珠停留部分的所述滚珠之一停留在所述滚珠停留部分中并允许在所述滚珠停留部分中的所述停留滚珠接触所述滚珠停留部分外部的滚珠中的一个释放滚珠，以防止所述释放滚珠离开所述滚动面，并且在所述旋转装置的转速大于所述第一转速时，每个所述滚珠停留部分还配置为允许所述滚珠停留部分中的所述停留滚珠通过施加到所述停留滚珠的离心力而离开并到达所述滚动面，以及 其中所述多个防离开部分中的每个配置为在所述旋转装置的转速小于所述第一转速时，接触所述滚珠停留部分外部...

【专利技术属性】
技术研发人员：嶌田吉成，大八木淳史，
申请(专利权)人：三星电子株式会社，
类型：发明
国别省市：