表吲哚二酮衍生物及其用途制造技术

本发明专利技术涉及一种表吲哚二酮衍生物及其用途。所述的表吲哚二酮衍生物为式Ⅰ所示化合物。本发明专利技术提供的表吲哚二酮衍生物可作为检测氟离子和汞离子的荧光探针的应用。式Ⅰ中，R1～R8分别独立选自：氢、卤素、C1～C3烷基或C1～C3烷氧基中一种，或R1～R8中任意两个相邻的R的组合为五元或六元的含氮、氧或/和硫杂原子的杂环基，或R1～R8中任意两个相邻的R的组合为由“羰基”取代的五元或六元的含氮、氧或/和硫杂原子的杂环基；R9和R10分别独立选自：氢或C1～C12直链或支链的烃基，且R9和R10中至少有一个是C1～C12直链或支链的烃基；其中，所述杂环基的杂原子数为1～3。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种表吲哚二酮衍生物及其用途。
技术介绍
氟离子(主要来源于铀元素的开发提取及其它相关工业过程)和汞离子(主要来源于火力发电、金矿开采及假牙制造(汞齐)等领域)是目前已知的两种污染大气及水源的污染源。因此，对氟离子和汞离子的监(检)测越来越受到科研人员的关注。表H引哚二酮(epindolidione)或其衍生物是一种高性能颜料。迄今,其主要用于塑料、油性涂料和水性涂料等的着色(即表吲哚二酮或其衍生物主要用作颜料)。
技术实现思路
本专利技术的专利技术人设计并合成一种结构新颖的表吲哚二酮衍生物，并发现本专利技术所提供的表吲哚二酮衍生物还可用于检测氟离子和/或汞离子(即作为检测氟离子和汞离子的荧光探针的应用)，拓展了表吲哚二酮衍生物的应用领域。本专利技术的一个目的在于，提供一种表吲哚二酮衍生物，所述表吲哚二酮衍生物为式I所示化合物:权利要求1.一种表吲哚二酮衍生物，所述表吲哚二酮衍生物为式I所示化合物:2.如权利要求1所述的表吲哚二酮衍生物，其特征在于，其中RjPRici分别独立选自:HX1 C12直链或支链的烷基或C2 C12直链或支链的链烯或链炔基中一种，且R9和Rltl中至少有一个是C1 C12直链或支链的烷基或C2 C12直链或支链的链烯或链炔基。3.如权利要求2所述的表吲哚二酮衍生物，其特征在于，其中RjPRici分别独立选自:H、C6 C12直链或支 链的烷基或C2 C6直链或支链的链烯或链炔基中一种，且R9和Rltl中至少有一个是C6 C12直链或支链的烷基或C2 C6直链或支链的链烯或链炔基。4.如权利要求2所述的表吲哚二酮衍生物，其特征在于，其中RjPRici分别独立选自:H、正十二烷基或烯丙基中一种，且R9和Rltl中至少有一个是正十二烷基或烯丙基。5.如权利要求4所述的表吲哚二酮衍生物，其特征在于，所述的表吲哚二酮衍生物为式I a或式I b所示化合物:6.如权利要求1 5中任意一项所述的表吲哚二酮衍生物作为检测氟离子和/或汞离子的荧光探针的应用。全文摘要本专利技术涉及一种表吲哚二酮衍生物及其用途。所述的表吲哚二酮衍生物为式Ⅰ所示化合物。本专利技术提供的表吲哚二酮衍生物可作为检测氟离子和汞离子的荧光探针的应用。式Ⅰ中，R1～R8分别独立选自氢、卤素、C1～C3烷基或C1～C3烷氧基中一种，或R1～R8中任意两个相邻的R的组合为五元或六元的含氮、氧或/和硫杂原子的杂环基，或R1～R8中任意两个相邻的R的组合为由“羰基”取代的五元或六元的含氮、氧或/和硫杂原子的杂环基；R9和R10分别独立选自氢或C1～C12直链或支链的烃基，且R9和R10中至少有一个是C1～C12直链或支链的烃基；其中，所述杂环基的杂原子数为1～3。文档编号C07D471/04GK103159762SQ201310095849公开日2013年6月19日 申请日期2013年3月25日 优先权日2013年3月25日专利技术者王利民, 蔡小飞, 王峰, 王桂峰, 田禾, 陈立荣, 黄卓 申请人:华东理工大学, 百合花集团股份有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种表吲哚二酮衍生物，所述表吲哚二酮衍生物为式Ⅰ所示化合物：式Ⅰ中，R1～R8分别独立选自：氢、卤素、C1～C3烷基或C1～C3烷氧基中一种，或R1～R8中任意两个相邻的R的组合为五元或六元的含氮、氧或/和硫杂原子的杂环基，或R1～R8中任意两个相邻的R的组合为由“羰基”取代的五元或六元的含氮、氧或/和硫杂原子的杂环基；R9和R10分别独立选自：氢或C1～C12直链或支链的烃基，且R9和R10中至少有一个是C1～C12直链或支链的烃基；其中，所述杂环基的杂原子数为1～3。FDA00002958591100011.jpg

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：王利民，蔡小飞，王峰，王桂峰，田禾，陈立荣，黄卓，
申请(专利权)人：华东理工大学，百合花集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：