本发明专利技术涉及一种无颗粒扩散片的制造方法及由此制造的无颗粒扩散片，所述制造方法包括：在基膜的一面上利用颗粒制造包括浮雕图案的主模具的第一步骤；将离子型表面活性剂添加至光固化树脂溶液中而形成纳米尺寸的气泡的第二步骤；利用所述光固化树脂溶液在紫外线照射下制造包括与所述浮雕图案相对应的、具有纳米尺寸的突出部的凹雕图案的转印模具的第三步骤；及利用所述光固化树脂溶液在紫外线照射下制造包括与所述凹雕图案相对应的、具有纳米尺寸的凹陷部的浮雕图案的无颗粒扩散片的第四步骤。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种抗静电性能优异且具有高雾度的扩散片的制造方法，更具体地，涉及一种无颗粒扩散片的制造方法及由此制造的无颗粒扩散片，所述方法能够大量制造呈现相同的光学特性且抗静电性能优异的高雾度扩散片。
技术介绍
液晶显示装置作为一种利用液晶显示图像的平板显示装置，与其他显示装置相t匕，更薄、更轻，且具有更低的驱动电压及更低的功耗的优点，因此，广泛应用于整个产业。由于液晶显示装置中用于显示图像的显示面板为自身不能发光的非发光元件，因此需要能够给所述显示面板提供光的额外的背光组件。所述背光组件包括:产生光的光源；从所述光源接收入射的光并将其向上方出射的导光板；以及将通过所述导光板出射的光扩散至整个所述面板的扩散片。所述扩散片起到将从所述导光板出射并朝向正面的光进行分散从而提高背光组件的亮度均匀性的作用。通常，扩散片通过在透明材质的基材上固定含有二氧化硅、碳酸钙、氧化钛及玻璃珠等光扩散材料的光扩散层的方式制造(韩国授权专利第1996-0015775号)。但是，在量产过程中，随着时间的推移，所述光扩散层的颗粒会凝聚或其粘度会变化，导致制造呈现相同的光学特性的扩散片方面面临技术限制。为解决这些问题，目前正积极尝试着扩散片的制造方法。例如，韩国公开专利第2009-0014623号中公开了以提高扩散性能为目的而在光扩散层内通过热分解形成I 20μπι大小的气泡的方法。但是，这种方法对于实现高雾度具有局限性。另外，韩国公开专利第2007-0003974号中公开了利用转移(transfer)方法在光扩散片表面以数微米深度形成多角锥状的凹凸表面以抑制莫尔干涉条纹。但是，利用该方法无法大量制造具有相同光学特性的扩散片，也无法实现高雾度。另外，韩国公开专利第2010-0131923号中公开了利用形状转移工艺制造形成有凸状结构的扩散片的方法，而韩国授权专利第0882992号中公开了通过使光扩散剂包含在树脂内而形成的扩散片。但是，通过这些方法制造的扩散片呈现较低的雾度值。另外，韩国授权专利第1000440号中公开了包括在基膜的一面包括多个第一凸部和多个第一凹部的扩散层的扩散片。所述扩散片的特征在于，所述扩散层包括多个扩散颗粒，所述凸部及凹部由包含在扩散层的多个扩散颗粒形成。但是，这种多个脱离现象呈现降低扩散片的扩散率并且贴装后会降低背光单元的光效率的可靠性的问题。
技术实现思路
为解决现有的问题，本专利技术的目的在于提供一种无颗粒扩散片的制造方法及由此制造的无颗粒扩散片，所述方法能够大量制造呈现相同的光学特性且脱模性及抗静电性能优异的高雾度扩散片。为实现上述目的，本专利技术提供一种无颗粒扩散片的制造方法，包括:第一步骤，在基膜的一面上利用颗粒制造包括浮雕(embossed)图案的主模具；第二步骤，将离子型表面活性剂添加至光固化树脂溶液中，以形成纳米尺寸的气泡；第三步骤，利用所述光固化树脂溶液，在紫外线照射下制造包括具有纳米尺寸的突出部的凹雕(intaglio)图案的转印模具(transfer mold),其中，所述凹雕图案与所述浮雕图案相对应；以及第四步骤，利用所述光固化树脂溶液，在紫外线照射下制造包括具有纳米尺寸的凹陷部的浮雕图案的无颗粒扩散片，其中，所述浮雕图案与所述凹雕图案相对应。根据本专利技术，通过在与颗粒形状相对应的凹雕图案的一次半球形状上，利用离子型表面活性剂在表面实现作为纳米尺寸的二次形状的突出形状，而且，利用所形成的凹雕图案实现具有纳米尺寸的凹陷形状的半球形状的浮雕图案，能够制造不仅能够实现高雾度的扩散图案，还能降低表面电阻以赋予抗静电性及脱模性的无颗粒扩散片。另外，根据本专利技术，由于不使用扩散剂，能够大量制造具有相同光学特性的无颗粒扩散片。附图说明图la、图1b及图1c为按工序示出本专利技术的无颗粒扩散片制造方法的示意图2a及图2b为根据本专利技术实施例1的包括凹雕图案的无颗粒扩散片的扫描电子显微镜(SEM)照片；图3a及图3b为根据本专利技术实施例1的包括浮雕图案的无颗粒扩散片的SEM照片；以及图4为根据本专利技术比较例的包括浮雕图案的无颗粒扩散片的SEM照片。<附图标记的说明>10:基板20:热固性树脂30:颗粒40:光固化树脂50:包括纳米尺寸的突出部的半球60:包括纳米尺寸的凹陷部的半球具体实施方式以下，参照附图对本专利技术进行更详细的说明。本专利技术涉及一种无颗粒扩散片的制造方法，包括:在基膜的一面上利用颗粒制造包括浮雕图案的主模具的第一步骤；将离子型表面活性剂添加至光固化树脂溶液中而形成纳米尺寸的气泡的第二步骤；利用所述树脂溶液在紫外线照射下制造包括与所述浮雕图案相对应的、具有纳米尺寸的突出部的凹雕图案的转印模具的第三步骤；及利用所述树脂溶液在紫外线照射下制造包括与所述凹雕图案相对应的、具有纳米尺寸的凹陷部的浮雕图案的无颗粒扩散片的第四步骤。本专利技术中的无颗粒扩散片是指不包含颗粒(bead)的扩散片。本专利技术的第一步骤为，在基膜的一面上利用颗粒制造包括浮雕图案的主模具的步骤。所述基膜为透明的基材薄膜，优选地包括选自由聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚碳酸酯(PC)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚丙烯(PP)、聚乙烯(PE)及聚苯乙烯(PS)构成的组中的一种以上，但是，此外，只要透明而不阻碍光的透过且具有与目的用途相对应的弹性及耐久性等特性，不管是哪一种都可以使用。所述基膜的厚度优选为20 400 μ m,更优选为38 380 μ m。在所述第一步骤中，为了在基膜的一面上利用颗粒制造包括浮雕图案的主模具，将颗粒混合至树脂后涂布在基膜的一面上。作为所述树脂，可以无特殊限制地使用热固性树脂、光固化树脂等。所述颗粒可以为聚氨酯树脂、氯乙烯、丙烯酸树脂、玻璃等，颗粒的粒度优选为I 100 μ m,更优选为3 30 μ m。所述颗粒以根据粒度分散度计算的变动系数[=(标准偏差/平均)X 100]为基准可分为单分散颗粒(变动系数未满15% )和多分散颗粒(变动系数15 45% )。本专利技术中可单独使用单分散颗粒，也可混合使用多分散颗粒。从经济性层面和涂布面的外观层面考虑，更优选混合使用多分散颗粒。若混合使用多分散颗粒，制造主模具时伴随颗粒大小的曲率差异会导致涂布表面变得更为粗糙，对光的折射更有效，因此，与单分散颗粒的单独使用相比，光扩散效果更大。涂布在所述基膜的树脂的厚度优选为2 50 μ m，更优选为2 20 μ m。所述浮雕图案的特征在于,具有从所述主模具表面突出至10 900nm的高度的突出部且具有I 100 μ m大小的直径的半球形图案。本专利技术的一个具体例中，将混合厚度为I 100 μ m的多分散颗粒的热固性树脂以2 50 μ m的厚度涂布在透明的基膜的一面上并对其进行加热固化，从而在基膜的一面上形成浮雕图案。本专利技术的另一个具体例中，将使用厚度为I 100 μ m的单分散颗粒的热固性树脂以2 50 μ m的厚度涂布在透明的基膜的一面上并对其进行加热固化，从而在基膜的一面上形成浮雕图案。所述第二步骤为将离子型表面活性剂添加至光固化树脂溶液中而形成纳米尺寸的气泡的步骤。离子型表面活性剂使得纳米尺寸的气泡在光固化树脂溶液中稳定地形成，且通过对树脂模具赋予脱模性和抗静电性，使得易于采用本专利技术的扩散片。通常，在树脂制造过程中产生的数微米本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种无颗粒扩散片的制造方法，包括：第一步骤，在基膜的一面上利用颗粒制造包括浮雕图案的主模具；第二步骤，将离子型表面活性剂添加至光固化树脂溶液以形成纳米尺寸的气泡；第三步骤，利用所述光固化树脂溶液，在紫外线照射下，制造包括具有纳米尺寸的突出部的凹雕图案的转印模具，其中，所述凹雕图案与所述浮雕图案相对应；以及第四步骤，利用所述光固化树脂溶液，在紫外线照射下，制造包括具有纳米尺寸的凹陷部的浮雕图案的无颗粒扩散片，其中，所述浮雕图案与所述凹雕图案相对应。
【技术特征摘要】
2012.04.05 KR 10-2012-00357281.一种无颗粒扩散片的制造方法，包括: 第一步骤，在基膜的一面上利用颗粒制造包括浮雕图案的主模具； 第二步骤，将离子型表面活性剂添加至光固化树脂溶液以形成纳米尺寸的气泡； 第三步骤，利用所述光固化树脂溶液，在紫外线照射下，制造包括具有纳米尺寸的突出部的凹雕图案的转印模具，其中，所述凹雕图案与所述浮雕图案相对应；以及 第四步骤，利用所述光固化树脂溶液，在紫外线照射下，制造包括具有纳米尺寸的凹陷部的浮雕图案的无颗粒扩散片，其中，所述浮雕图案与所述凹雕图案相对应。2.根据权利要求1所述的无颗粒扩散片的制造方法，其特征在于:所述浮雕图案为具有从所述主模具表面凹陷至10 900nm深度的凹陷部的、直径为I IOOym的半球形图案。3.根据权利要求1所述的无颗粒扩散片的制造方法，其特征在于:所述凹雕图案为具有从所述转印模具表面突出至10 900nm高度的突出部的、直径为I 100 μ m的半球形图案。4.根据权利要求1所述的无颗粒扩散片的制造方法，其特征在于:所述基膜包括选自由聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚丙烯、聚乙烯及聚苯乙烯构成的组中的一种以上。5.根据权利要求1所述的无颗粒扩散片的制造方法，...
【专利技术属性】
技术研发人员：崔允基，李在洵，韩昌烈，徐东揆，赵宰亨，
申请(专利权)人：高一智股份公司，
类型：发明
国别省市：
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