苯并咔唑化合物的肟酯衍生物及其在可光聚合组合物中作为光敏引发剂的用途制造技术

式(I)化合物，其中R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7和R8例如相互独立地为氢、C1-C20烷基、(II)、COR16或NO2，只要R1和R2、R2和R3、R3和R4、R5和R6、R6和R7或R7和R8中至少一对为(III)；R9、R10、R11和R12例如相互独立地为氢、任选经取代的C1-C20烷基；或R9、R10、R11和R12相互独立地为未经取代或经取代的苯基；X为CO或直接键；R13例如为任选经取代的C1-C20烷基、C2-C12链烯基、C4-C8环烯基、C2-C12炔基、C3-C10环烷基、均任选经取代的苯基或萘基；R14例如为氢、C3-C8环烷基、C2-C5链烯基、C1-C20烷氧基、C1-C20烷基、苯基或萘基；R15例如为C6-C20芳基或C5-C20杂芳基；R16例如为未经取代或经一个或多个C1-C20烷氧基或C1-C20烷基取代的C6-C20芳基；尤其合适在滤色器应用中作为光敏引发剂。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】苯并咔唑化合物的肟酯衍生物及其在可光聚合组合物中作为光敏引发剂的用途专利技术描述本专利技术涉及基于特殊咔唑衍生物的新肟酯化合物及其在可光聚合组合物中作为光敏引发剂的用途。具有咔唑结构部分的肟酯化合物在本领域中已知为光敏引发剂。例如EP2015443、W02008/138724和 EP2141206 公开了相应化合物。JP2006-36750-A (对应于 W02005/080337)的极宽一般范围也涵盖具有咔唑结构部分和尤其是稠合环的化合物。然而，各实施例仅显示至包括肟基团的咔唑结构部分的环形成。在W02008/138732中也描述了含有咔唑基团的不同光敏引发剂化合物。同样，其中宽一般范围涵盖在咔唑基团处的取代基形成环，但未公开相应实例。在光聚合技术中仍需要具有高反应性、易于制备且易于处理的光敏引发剂。例如在滤色器抗蚀剂应用中，对于高色彩质量性能需要经高度着色的抗蚀剂。随着颜料含量的增加，色彩抗蚀剂的固化变得更加困难。因此，需要具有高敏感性的光敏引发剂。另外，这些新光敏引发剂也必须满足对于性能如易处理性、高溶解性、热稳定性和储存稳定性的高工业要求。现已发现所选化合物尤其合适作为光敏引发剂。因此，本专利技术主题为式I化合物:

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2010.10.05 EP 10186535.0;2011.04.20 EP 11163190.9;1.式I化合物::2.根据权利要求1的式I化合物,其中 R1 R2 R3 R4 R5 R6 R7 R8相互独立地为氢、C1-C20烷基、3.根据权利要求1的式I化合物,其中 R1^ R2> R3> R4> R5> R6> R7和R8相互独立地为氢， 或R1和R2、R3和R4或R5和R6相互独立地一起为4.一种可光聚合组合物，包含 (a)至少一种乙烯属不饱和可光聚合化合物，和 (b)至少一种如权利要求1所定义的式I化合物作为光敏引发剂。5.根据权利要求4的可光聚合组合物，其中该组分(a)为通过饱和或不饱和多元酸酐与环氧树脂和不饱和单羧酸的反应产物反应获得的树脂。6.根据权利要求4的可光聚合组合物，其除该光敏引发剂(b)外，额外包含至少一种其他光敏引发剂(C)和/或其他添加剂(d)。7.根据权利要求6的可光聚合组合物，其包含颜料或颜料混合物作为其他添加剂(d)。8.根据权利要求7的可光聚合组合物，其包含分散剂或分散剂混合物作为其他添加剂⑷。9.根据权利要求4-8中任一项的可光聚合组合物，其基于该组合物包含0.05-25重量％光敏引发剂(b)或光敏引发剂(b)和(C)。10.根据权利要求4-9中任一项的可光聚合组合物，其包含光敏剂，尤其为选自二苯甲酮、二苯甲酮衍生物、噻吨酮、噻吨酮衍生物、蒽醌、蒽醌衍生物、香豆素和香豆素衍生物的化合物作为其他添加剂(d):。11.根据权利要求4-10中任一项的可光聚合组合物，其额外包含粘合剂聚合物(e)，尤其为甲基丙烯酸酯与甲基丙烯酸的共聚物。12.—种通过在碱或碱混合物的存在下使相应的肟...

【专利技术属性】
技术研发人员：西前祐一，仓久敏，国本和彦，山上隆平，田中庆太，
申请(专利权)人：巴斯夫欧洲公司，
类型：
国别省市：