【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本申请涉及离子源和电子源及使用它们的方法。特别是,本文所述的某些实施方案目的在于在组装离子源和/或电子源时使用的部件。
技术介绍
很多设备使用离子源或电子源来提供离子或粒子。在该源的使用期间,它可能被样本污染,或其它不需要的物种可能积聚在源部件上,潜在地导致差的性能或分析错误。
技术实现思路
在第一方面,提供了包括被配置成接纳源部件的壳室的源组件,壳室包括第一整体对准特征件。在某些实施例中,源组件还可包括被配置成提供射束的末端透镜,末端透镜包括第二整体对准特征件并被构造和布置成当第一整体对准特征件耦接到第二整体对准特征件时耦接到壳室,以使末端透镜与壳室中的源部件对准并将源部件保持在壳室中。 在另一方面,提供了包括壳室的源组件,壳室被配置成接纳源部件并包括第一组整体对准特征件。在某些实施方案中,源组件还可包括被构造和布置成提供射束的末端透镜,末端透镜包括第二组整体对准特征件并被构造和布置成当第一组整体对准特征件耦接到第二组整体对准特征件时耦接到壳室,以使末端透镜与壳室中的源部件对准并将源部件保持在壳室中。在另一方面,描述了包括壳室的质谱仪,壳室被配置成接纳源并包括第一整体对准特征件。在某些实施方案中,质谱仪可包括耦接到壳室并被构造和布置成提供射束的末端透镜,末端透镜包括第二整体对准特征件并被构造和布置成当第一整体对准特征件耦接到第二整体对准特征件时耦接到壳室,以使末端透镜与壳室中的源部件对准并将源部件保持在壳室中以提供源组件。在一些实施方案中,质谱仪还可包括耦接到末端透镜的质量分析仪。在另一方面,公开了包括壳室的质谱仪,壳室被配置成接纳源部件并包括第一组整 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2009.10.12 US 61/250,6191.一种源组件,包括: 壳室,其被配置成接纳源部件,所述壳室包括第一整体对准特征件;以及末端透镜,其被配置成提供射束,所述末端透镜包括第二整体对准特征件,所述末端透镜被构造和布置成当所述第一整体对准特征件耦接到所述第二整体对准特征件时耦接到所述壳室,以使所述末端透镜与所述壳室中的所述源部件对准并将所述源部件保持在所述壳室中。2.如权利要求1所述的源组件,其中所述第一整体对准特征件和第二整体对准特征件中的一个包括销,而另一个整体对准特征件包括槽。3.如权利要求1所述的源组件,其中所述第 一整体对准特征件和第二整体对准特征件中的一个包括销,而另一个整体对准特征件包括孔。4.如权利要求1所述的源组件,其中所述第一整体对准特征件和第二整体对准特征件中的一个包括钩,而另一个整体对准特征件包括销。5.如权利要求1所述的源组件,其中所述第一整体对准特征件和第二整体对准特征件中的一个包括销,而另一个整体对准特征件包括L形槽。6.如权利要求1所述的源组件,其中所述第一整体对准特征件和第二整体对准特征件中的至少一个是内部的。7.如权利要求1所述的源组件,其中所述第一整体对准特征件和第二整体对准特征件中的至少一个是外部的。8.如权利要求1所述的源组件,其中所述末端透镜被配置成提供包括离子的射束。9.如权利要求1所述的源组件,其中所述末端透镜被配置成提供包括电子的射束。10.如权利要求1所述的源组件,其中所述第一整体对准特征件被配置成仅在单一方向上耦接到所述第二整体对准特征件,以使所述末端透镜与所述源部件对准并将所述源部件保持在所述壳室中。11.如权利要求1所述的源组件,其中所述第一整体对准特征件包括以基本上相等的圆周间隔定位在所述壳室上的第一接合销钉、第二接合销钉和第三接合销钉,而所述第二整体对准特征件包括第一 L形槽、第二 L形槽和第三L形槽,每个L形槽被配置成接纳所述壳室的所述第一接合销钉、第二接合销钉和第三接合销钉中的相应的一个。12.如权利要求1所述的源组件,其中所述源组件被配置成从质谱仪移除,而不使用插入/移除工具。13.如权利要求1所述的源组件,其中所述源组件还包括在所述壳室中的丝极。14.如权利要求13所述的源组件,其中所述源组件包括在所述壳室中的另外的透镜。15.如权利要求14所述的源组件,还包括在离子容积和所述末端透镜之间的三个透镜。16.如权利要求15所述的源组件,其中所述源组件包括: 耦接到推斥板绝缘体的源块; 耦接到所述推斥板绝缘体的推斥板; 耦接到所述推斥板的离子容积绝缘体; 耦接到所述推斥板的阱绝缘体; 耦接到所述阱绝缘体的捕集器;包括所述丝极和第一透镜的离子容积,其中所述离子容积耦接到所述捕集器; 耦接到所述离子容积的第二透镜和第三透镜;以及 所述末端透镜耦接到所述第二透镜和第三透镜。17.如权利要求16所述的源组件,还包括在所述第三透镜和所述末端透镜之间的偏置装置18.如权利要求1所述的源组件,还包括将所述末端透镜配置为用来起透镜的作用并将所述源部件保持在所述壳室中的单一透镜。19.如权利要求1所述的源组件,还包括用于将所述源组件固定在设备中的装置。20.如权利要求19所述的源组件,其中用于固定所述源组件的所述装置被配置成能够移除所述源组件而不使用插入/移除工具。21.一种源组件,包括: 壳室,其被配置成接纳源部件并包括第一组整体对准特征件; 末端透镜,其被构造并布置成提供射束,所述末端透镜包括第二组整体对准特征件,所述末端透镜被构造和布置成当所述第一组整体对准特征件耦接到所述第二组整体对准特征件时耦接到所述壳室,以使所述末端透镜与所述壳室中的所述源部件对准并将所述源部件保持在所述壳室中。22.如权利要求21所述的源组件,其中所述第一组整体对准特征件和第二组整体对准特征件中的一组包括销,而另一组整体对准特征件包括槽。23.如权利要求21所述的源组件,其中所述第一组整体对准特征件和第二组整体对准特征件中的一组包括销,而另一组整体对准特征件包括孔。24.如权利要求21所述的源组件,其中所述第一组整体对准特征件和第二组整体对准特征件中的一组包括钩,而另一组整体对准特征件包括销。25.如权利要求21所述的源组件,其中所述第一组整体对准特征件和第二整体对准特征件中的一组包括销,而另一组整体对准特征件包括L形槽。26.如权利要求21所述的源组件,其中所述第一组整体对准特征件包括不同的对准特征件。27.如权利要求21所述的源组件,其中所述第二组整体对准特征件包括不同的对准特征件。28.如权利要求21所述的源组件,其中所述末端透镜用来提供离子。29.如权利要求21所述的源组件,其中所述末端透镜用来提供电子。30.如权利要求21所述的源组件,其中所述第一组整体对准特征件被配置成仅在单一方向上耦接到所述第二组整体对准特征件,以使所述末端透镜与所述源部件对准并将所述源部件保持在所述壳室中。31.如权利要求21所述的源组件,其中所述第一组整体对准特征件包括以基本上相等的圆周间隔定位在所述壳室上的第一接合销钉、第二接合销钉和第三接合销钉,而所述第二组整体对准特征件包括第一 L形槽、第二 L形槽和第三L形槽,每个L形槽被配置成接纳所述壳室的所述第一接合销钉、第二接合销钉和第三接合销钉中的相应的一个。32.如权利要求21所述的源组件,其中所述源组件被配置成从质谱仪移除,而不使用插入/移除工具。33.如权利要求21所述的源组件,其中所述源组件还包括在所述壳室中的丝极。34.如权利要求33所述的源组件,其中所述源组件包括在所述丝极和所述末端透镜之间的另外的透镜。35.如权利要求34所述的源组件,还包括在所述丝极和所述末端透镜之间的三个透镜。36.如权利要求35所述的源组件,其中所述源组件包括: 耦接到推斥板绝缘体的源块; 耦接到所述推斥板绝缘体的推斥板; 耦接到所述推斥板的离子容积绝缘体; 耦接到所述推斥板的阱绝缘体; 耦接到所述阱绝缘体的捕集器; 包括所述丝极和第一透镜的离子容积,其中所述离子容积耦接到所述捕集器; 耦接到所述离子容积的第二透镜和第三透镜;以及 所述末端透镜耦接到所述第二透镜和第三透镜。37.如权利要求36所述的源组件,还包括在所述第三透镜和所述末端透镜之间的偏置>j-U ρ α装直。38.如权利要求21所述的源组件,还包括将所述末端透镜配置为用来起透镜的作用并使所述源部件与所述末端透镜对准的单一透镜。39.如权利要求21所述的源组件,还包括用于将所述源组件固定在设备中的装置。40.如权利要求39所述的源组件,其中用于固定所述源组件的所述装置被配置成能够移除所述源组件而不使用插入/移除工具。41.一种质谱仪,包括: 壳室,其被配置成接纳源部件并包括第一整体对准特征件; 末端透镜,其耦接到所述壳室并被构造和布置成提供射束,所述末端透镜包括第二整体对准特征件,所述末端透镜被构造和布置成当所述第一整体对准特征件耦接到所述第二整体对准特征件时耦接到所述壳室,以使所述末端透镜与所述壳室中的所述源部件对准并将所述源部件保持在所述壳室中以提供源组件;以及质量分析仪,其耦接到所述末端透镜。42.如权利要求41所述的质谱仪,其中所述第一整体对准特征件和第二整体对准特征件中的一个包括销,而另一个整体对准特征件包括槽。43.如权利要求41所述的质谱仪,其中所述第一整体对准特征件和第二整体对准特征件中的一个包括销,而另一个整体对准特征件包括孔。44.如权利要求41所述的质谱仪,其中所述第一整体对准特征件和第二整体对准特征件中的一个包括钩,而另一个整体对准特征件包括销。45.如权利要求41所述的质谱仪,其中所述第一整体对准特征件和第二整体对准特征件中的一个包括销,而另一个整体对准特征件包括L形槽。46.如权利要求41所述的质谱仪,其中所述第一整体对准特征件和第二整体对准特征件中的至少一个是内部的。47.如权利要求41所述的质谱仪,其中所述第一整体对准特征件和第二整体对准特征件中的至少一个是外部的。48.如权利要求41所述的质谱仪,还包括所述壳室中的离子源。49.如权利要求41所述的质谱仪,还包括所述壳室中的电子源。50.如权利要求41所述的质谱仪,其中所述第一整体对准特征件被配置成仅在单一方向上耦接到所述第二整体对准特征件,以使所述末端透镜与所述源部件对准并将所述源部件保持在所述壳室中。51.如权利要 求41所述的质谱仪,其中所述第一整体对准特征件包括以基本上相等的圆周间隔定位在所述壳室上的第一接合销钉、第二接合销钉和第三接合销钉,而所述第二整体对准特征件包括第一 L形槽、第二 L形槽和第三L形槽,每个L形槽被配置成接纳所述壳室的所述第一接合销钉、第二接合销钉和第三接合销钉中的相应的一个。52.如权利要求41所述的质谱仪,其中所述源组件被配置成从所述质谱仪移除,而不使用插入/移除工具。53.如权利要求41所述的质谱仪,其中所述源组件还包括在所述壳室中的丝极。54.如权利要求53所述的质谱仪,还包括流体地耦接到所述质量分析仪的探测器。55.如权利要求54所述的质谱仪,其中所述源组件包括在所述丝极和所述末端透镜之间的另外的透镜。56.如权利要求55所述的质谱仪,其中所述源组件包括: 耦接到推斥板绝缘体的源块; 耦接到所述推斥板绝缘体的推斥板; 耦接到所述推斥板的离子容积绝缘体; 耦接到所述推斥板的阱绝缘体; 耦接到所述阱绝缘体的捕集器; 包括所述丝极和第一透镜的离子容积,其中所述离子容积耦接到所述捕集器; 耦接到所述离子容积的第二透镜和第三透镜;以及 所述末端透镜耦接到所述第二透镜和第三透镜。57.如权利要求56所述的质谱仪,还包括在所述第三透镜和所述末端透镜之间的偏置>j-U ρ α装直。58.如权利要求41所述的质谱仪,还包括将所述末端透镜配置为用来起透镜的作用并将所述源部件保持在所述壳室中的单一透镜。59.如权利要求41所述的质谱仪,还包括用于将所述源组件固定在设备中的装置。60.如权利要求59所述的质谱仪,其中用于固定所述源组件的所述装置被配置成能够移除所述源组件而不使用插入/移除工具。61.—种质谱仪,包括: 壳室,其被配置成接纳源部件并包括第一组整体对准特征件; 末端透镜,其耦接到所述壳室并被构造和布置成提供射束,所述末端透镜包括第二组整体对准特征件,所述末端透镜被构造和布置成当所述第一组整体对准特征件耦接到所述第二组整体对准特征件时耦接到所述壳室,以使所述末端透镜与所述壳室中的所述源部件对准并将所述源部件保持在所述壳室中以提供源组件;以及质量分析仪,其耦接到所述末端透镜。62.如权利要求61所述的质谱仪,其中所述第一组整体对准特征件和第二组整体对准特征件中的一组包括销,而另一组整体对准特征件包括槽。63.如权利要求61所述的质谱仪,其中所述第一组整体对准特征件和第二组整体对准特征件中的一组包括销,而另一组整体对准特征件包括孔。64.如权利要求31所述的质谱仪,其中所述第一组整体对准特征件和第二组整体对准特征件中的一组包括钩,而另一组整体对准特征件包括销。65.如权利要求61所述的质谱仪,其中所述第一组整体对准特征件和第二整体对准特征件中的一组包括销,而另一组整体对准特征件包括L形槽。66.如权利要求61所述的质谱仪,其中所述第一组整体对准特征件包括不同的对准特征件。67.如权利要求61所述的质谱仪,其中所述第二组整体对准特征件包括不同的对准特征件。68.如权利要求61所述的质谱仪,还包括所述壳室中的离子源。69.如权利要求61所述的质谱仪,还包括所述壳室中的电子源。70.如权利要求61所述的质谱仪,其中所述第一组整体对准特征件被配置成仅在单一方向上耦接到所述第二组整体对准特征件,以使所述末端透镜与所述源部件对准并将所述源部件保持在所述壳室中。71.如权利要求61所述的质谱仪,其中所述第一组整体对准特征件包括以基本上相等的圆周间隔定位在所述壳室上的第一接合销钉、第二接合销钉和第三接合销钉,而所述第二组整体对准特征件包括第一 L形槽、第二 L形槽和第三L形槽,每个L形槽被配置成接纳所述壳室的所述第一接合销钉、第二接合销钉和第三接合销钉中的相应的一个。72...
【专利技术属性】
技术研发人员:基思·费拉拉,大卫·巴库斯,亚当·巴特金,罗萨里奥·曼恩尼诺,丹尼尔·潘泰科,弗兰克·德洛雷佐,巴顿·拉斯穆森,
申请(专利权)人:珀金埃尔默健康科技有限公司,
类型:实用新型
国别省市:
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