本发明专利技术提供了一种离子风嘴，其包括主体部，所述主体部包括顶端，所述顶端设置有至少一个孔洞。本发明专利技术的有益效果在于：本发明专利技术的离子风嘴通过在其主体部顶端设置至少一个孔洞，不仅可以通过选择不同位置的孔洞，调整离子风嘴的位置，使用方便，而且还可以避免其与其他工作件发生干涉。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种风嘴，尤其涉及一种能消除静电的离子风嘴。
技术介绍
除静电离子风嘴是一种固定式消除静电的专用设备，其包括风嘴本体及设置在其中的电离器件。除静电离子风嘴可产生大量的正负离子，由高压气流吹出，可以将物体表面所带的电荷中和掉。当物体表面所带为负电时，它会吸引气流中的正离子；当物体表面所带为正电时，它会吸引气流中的负离子，从而使物体表面的静电被中和，达到消除静电的目的，高速的压缩气还可将物体表面的顽固积尘吹走。现有技术中的除静电离子风嘴，其主体部顶端只设置了一个螺孔。在安装时，只能将其固定于一个地方，这样不仅不能根据需要调整其位置，使用起来极度不方便，同时，在使用的过程中还会导致其与其他工作件发生干涉。有鉴于此，有必要对现有的除静电离子风嘴予以改进，使其不仅能够根据需要调整位置，而且还能避免与其他工作件发生干涉。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种离子风嘴，该离子风嘴可以根据需要调整其位置，使用方便，而且还能避免与其他工作件发生干涉。为实现上述专利技术目的，本专利技术的一种离子风嘴，其包括主体部，所述主体部包括顶端，其中所述顶端设置有至少一个孔洞。作为本专利技术的进一步改进，所述至少一个孔洞于所述顶端呈一字形排列。作为本专利技术的进一步改进，所述相邻两个孔洞之间的间距相等。作为本专利技术的进一步改进，所述主体部呈圆柱体状，所述孔洞包括螺孔。作为本专利技术的进一步改进，所述离子风嘴还包括与所述主体部相连接的风嘴。作为本专利技术的进一步改进，所述风嘴包括顶壁以及与顶壁对应设置的底壁。作为本专利技术的进一步改进，所述风嘴底壁上设置有若干孔洞。与现有技术相比，本专利技术的优势在于:本专利技术的离子风嘴通过在其主体部顶端设置至少一个孔洞，不仅可以通过选择不同位置的孔洞，调整离子风嘴的位置，使用方便，而且还可以避免其与其他工作件发生干涉。附图说明图1是本专利技术离子风嘴的立体图。图2是图1所示离子风嘴的俯视图。图3是固定图1所示离子风嘴的安装架的立体图。图4是与图1所示离子风嘴配合使用的底板的立体图。具体实施方式为了使本专利技术的目的、技术方案和优点更加清楚，下面结合附图和具体实施例对本专利技术进行详细描述。如图1所示，本专利技术的离子风嘴100包括主体部10以及与主体部10相连接的风嘴20，所述主体部10呈圆柱体状。所述风嘴20包括顶壁以及与顶壁对应设置的底壁，所述风嘴20底壁上设置有若干孔洞。本实施方式中，风嘴20底壁上的若干孔洞均匀排布，使得风嘴20的结构为花洒型。如图2所示，所述主体部10包括收容腔，所述收容腔内收容有大量正负电荷。所述主体部10包括顶端11，所述顶端11设置有至少一个孔洞12，所述孔洞12包括螺孔121。本实施方式中，主体部10的顶端11设置有4个螺孔121，所述4个螺孔121于所述顶端11呈一字形排列且相邻两个螺孔121之间的间距相等。所述收容腔与所述风嘴20是连通的，所述连通方式包括全连通和部分连通，所述部分连通包括呈圆环状连通。本实施方式中的收容腔与风嘴20是呈圆环状连通的，通过所述收容腔与所述风嘴20的连通，所述收容腔内的正负电荷可通过底壁上的若干孔洞释放出来，达到消除静电的目的。本专利技术的离子风嘴100通过在其主体部10顶端11设置4个螺孔121，不仅可以通过选择不同位置的螺孔121，调整离子风嘴100的位置，使用方便，而且还可以避免与其他工作件发生干涉；同时，本专利技术的离子风嘴100通过在其风嘴20底壁上设置若干孔洞，从而释放收容腔内的大量正负电荷，由于上述若干孔洞是均匀分布的，使得风嘴20的结构为花洒型，不仅增大了风嘴20与物体的接触面积，增强了消除静电的效果，还有助于美观，且节约成本。如图3所示，为用于安装并固定上述离子风嘴100的安装架30，所述安装架30包括对接部31以及自所述对接部31沿安装架30高度方向延伸的延伸部32，所述对接部31与所述延伸部32配合使得所述安装架30呈L型。所述对接部31与所述延伸部32上都设置有至少一个孔洞，所述至少一个孔洞包括螺孔。本实施方式中，所述对接部31上设置有2个用于与上述离子风嘴100的主体部10相固定的螺孔331，所述延伸部32上设置有2个用于与其他结构相固定的螺孔332，所述对接部31上的2个螺孔331沿对接部31的宽度方向排列，所述延伸部32上的2个螺孔332沿延伸部32的长度方向排列。本专利技术的呈L型的安装架30将离子风嘴100与其他结构相连接并固定，从而使得离子风嘴100能够稳定工作，且不会与其他工作件发生干涉。如图4所示，为与上述离子风嘴100及安装架30配合使用的底板40，所述底板40包括基部41以及自基部41沿底板40高度方向延伸而形成的抵挡部42。所述基部41与所述抵挡部42上设置有若干孔洞43，所述基部41上且靠近其与所述抵挡部42相连接处还开设有I个缺口 44。本实施方式中，所述基部41上设置了一个孔洞，所述孔洞可被上述安装架30穿过；所述抵挡部42上设置有5个孔洞43，所述5个孔洞43分为一组3个和一组2个，所述两组孔洞43都沿所述抵挡部42的长度方向排列。所述基部41与所述抵挡部42的表面为平坦面且所述基部41与所述抵挡部42相配合使得所述底板40呈L型。本专利技术的底板40通过在其基部41上且靠近其与抵挡部42相连接处开设有缺口 44，从而避免了其与上述离子风嘴100发生干涉，进一步提高了上述离子风嘴100消除静电的工作效率。以上实施例仅用以说明本专利技术的技术方案而非限制，尽管参照较佳实施例对本专利技术进行了详细说明，本领域的普通技术人员应当理解，可以对本专利技术的技术方案进行修改或者等同替换，而不脱离本专利技术技术方案的精神和范围。权利要求1.一种离子风嘴，其包括主体部，所述主体部包括顶端，其特征在于:所述顶端设置有至少一个孔洞。2.根据权利要求1所述的离子风嘴，其特征在于:所述至少一个孔洞于所述顶端呈一字形排列。3.根据权利要求2所述的离子风嘴，其特征在于:所述相邻两个孔洞之间的间距相等。4.根据权利要求1所述的离子风嘴，其特征在于:所述主体部呈圆柱体状，所述孔洞包括螺孔。5.根据权利要求1所述的离子风嘴，其特征在于:所述离子风嘴还包括与所述主体部相连接的风嘴。6.根据权利要求5所述的离子风嘴，其特征在于:所述风嘴包括顶壁以及与顶壁对应设置的底壁。7.根据权利要求6所述的离子风嘴，其特征在于:所述风嘴底壁上设置有若干孔洞。全文摘要本专利技术提供了一种离子风嘴，其包括主体部，所述主体部包括顶端，所述顶端设置有至少一个孔洞。本专利技术的有益效果在于本专利技术的离子风嘴通过在其主体部顶端设置至少一个孔洞，不仅可以通过选择不同位置的孔洞，调整离子风嘴的位置，使用方便，而且还可以避免其与其他工作件发生干涉。文档编号H05F3/06GK103140005SQ20111039393公开日2013年6月5日 申请日期2011年12月1日 优先权日2011年12月1日专利技术者沈皓然 申请人:苏州工业园区高登威科技有限公司本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种离子风嘴，其包括主体部，所述主体部包括顶端，其特征在于：所述顶端设置有至少一个孔洞。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：沈皓然，
申请(专利权)人：苏州工业园区高登威科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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