多晶硅铸锭用的免烧结坩埚涂层结构及其制备方法技术

本发明专利技术公开一种多晶硅铸锭用的免烧结坩埚涂层结构，包括：置于坩埚基底上的第一涂层，和置于该第一涂层上的第二涂层；所述第一涂层通过涂覆第一涂层组合物形成，所述第一涂层组合物由基于第一涂层组合物总重量的70-80％的溶剂和20-30％的粘结剂组成；所述第二涂层通过涂覆第二涂层组合物形成，所述第二涂层组合物含有基于第二涂层组合物总重量的14-20％的氮化硅、60-70％的溶剂和14-20％的粘结剂，且所述溶剂选自水或醇；所述粘结剂选自聚乙烯醇、聚乙烯吡咯烷酮或硅溶胶。本发明专利技术也公开了该涂层结构的制备方法。该涂层结构在多晶硅的生产过程中，作为坩埚脱模涂层，可直接涂覆使用，免除涂层烧结热处理的步骤，减少生产环节，极大地降低了生产成本。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种多晶硅铸锭用的免烧结坩埚涂层结构，包括：置于坩埚基底上的第一涂层，和置于该第一涂层上的第二涂层；所述第一涂层通过涂覆第一涂层组合物形成，所述第一涂层组合物由基于第一涂层组合物总重量的70?80％的溶剂和20?30％的粘结剂组成；所述第二涂层通过涂覆第二涂层组合物形成，所述第二涂层组合物含有基于第二涂层组合物总重量的14?20％的氮化硅、60?70％的溶剂和14?20％的粘结剂，且所述溶剂选自水或醇；所述粘结剂选自聚乙烯醇、聚乙烯吡咯烷酮或硅溶胶。第二涂层组合物中氮化硅和粘结剂的下限高了

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：黄春来，薛抗美，游达，
申请(专利权)人：江苏协鑫硅材料科技发展有限公司，
类型：发明
国别省市：