一种抽真空系统装置制造方法及图纸

技术编号:8771799 阅读:188 留言:0更新日期:2013-06-08 06:24
本实用新型专利技术涉及一种抽真空系统装置。所述抽真空系统装置包括机械泵1、分子泵2、接口法兰3、法兰后阀4、保护阀5、分子泵前阀6及支管阀7。机械泵1、分子泵2及接口法兰3是由塑钢结构的硬管连接在一起,法兰后阀4、保护阀5、分子泵前阀6及支管阀7分别位于不同位置的硬管上。法兰后阀4起保护烘烤炉真空度作用。保护阀5起保护泵的作用。本实用新型专利技术能及时抽走生产磷化铟的器皿及生长材料烘烤过程中释放出来的杂质,使磷化铟生长材料质量得到保证,而且结构简单,易于实现,制作成本低。(*该技术在2022年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种压力控制装置,更具体地说,本技术涉及一种磷化铟生长材料烘烤过程中的抽真空系统装置
技术介绍
磷化铟材料的一系列优越特性使其在光通信、微波、毫米波器件、抗辐射太阳能电池等许多高
有广泛应用,具有不可替代性,其战略意义不言而喻。为了能够提高磷化铟材料的质量,改善其电学性质,研究和控制磷化铟单晶生长和热处理过程所产生的缺陷是一条重要的途径。近几年来,高温退火处理方法被用于降低磷化铟单晶中的残留热应力、改善晶片的电学均匀性和制备半绝缘磷化铟材料。在通常的磷化铟生长材料的烘烤过程中,需要在高真空下对生产磷化铟的器皿及其生产材料进行高温烘烤,以去除杂质,否则会对磷化铟生长材料质量产生影响。根据磷化铟功能需求,需要专门设计抽真空系统装置以满足所需的真空度及精度要求,以获得高质量的磷化铟生长材料。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种抽真空系统装置,能够及时抽走生产磷化铟的器皿及生长材料烘烤过程中释放出来的杂质,获得高真空状态,保证磷化铟生长材料质量。本技术的目的是通过以下技术方案来实现的:提供一种抽真空系统装置,其包括机械泵、分子泵、接口法兰、法兰后阀、保护阀、分子泵前阀及支管阀。其特征是机械泵、分子泵及接口法兰是由塑钢结构的硬管连接在一起,所述的法兰后阀、保护阀、分子泵前阀及支管阀分别位于不同位置的硬管上。本技术的抽真空系统装置能及时抽走生产磷化铟的器皿及生长材料烘烤过程中释放出来的杂质,使磷化铟生长材料质量得到保证,而且整个抽真空系统装置结构简单,易于实现,制作成本低。附图说明图1是本技术抽真空系统装置的结构示意图。图中:机械泵1,分子泵2,接口法兰3,法兰后阀4,保护阀5,分子泵前阀6,支管阀具体实施方式如图1所示,本技术抽真空系统装置包括机械泵1、分子泵2、接口法兰3、法兰后阀4、保护阀5、分子泵前阀6及支管阀7。其特征是机械泵1、分子泵2及接口法兰3是由塑钢结构的硬管连接在一起,所述的法兰后阀4、保护阀5、分子泵前阀6及支管阀7分别位于不同位置的硬管上。所述的法兰后阀4是在烘烤炉真空度达到时,关闭阀门,起保护烘烤炉真空度作用。所述的保护阀5打开时与大气连接,在烘烤炉真空度达到时,起保护泵的作用。工作原理如下:将烘烤炉与的接口法兰3连接后,保护阀5及分子泵前阀6处于关闭状态,法兰后阀4及支管阀7处于打开状态,开动机械泵I,把较大颗粒的粉尘及杂质抽走,防止对分子泵2的堵塞,然后将分子泵前阀6处于打开状态,开动分子泵2后,将支管阀7处于关闭状态。在达到设定条件后将法兰后阀4处于关闭状态,然后将保护阀5处于打开状态,与大气连通,再关机械泵1、分子泵2即可。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种抽真空系统装置,其特征在于:所述的抽真空系统装置包括机械泵、分子泵、接口法兰、法兰后阀、保护阀、分子泵前阀及支管阀,机械泵、分子泵及接口法兰是由塑钢结构的硬管连接在一起,法兰后阀、保护阀、分子泵前阀及支管阀分别位于不同位置的硬管上。

【技术特征摘要】
1.一种抽真空系统装置,其特征在于:所述的抽真空系统装置包括机械泵、分子泵、接口法兰、法兰后阀、保护阀、分子泵前阀及支管...

【专利技术属性】
技术研发人员:关活明
申请(专利权)人:台山市华兴光电科技有限公司
类型:实用新型
国别省市:

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