利用激光在低熔点的基底表面制备二氧化钛薄膜的方法技术

本发明专利技术公开了一种利用激光在低熔点的基底表面制备二氧化钛薄膜的方法。在15-20nm的二氧化钛纳米粉末中加入水，将其制备成溶胶状；清洗基底材料，然后将制备好的二氧化钛溶胶涂覆在已经清洗干净的基底上；再将该基底放在平台上，使涂有二氧化钛的一面在下；调整实验平台，使1064nm的激光焦点聚焦在薄片上。通过调整激光的扫描速度，扫描间隔，扫描功率等参数，将二氧化钛镀在基底上。之后利用乙醇和水对薄膜进行清洗，干燥，得到干净的具有二氧化钛薄膜的薄板。本发明专利技术可以在低熔点的基底上制备出二氧化钛薄膜，具有较好的应用前景。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种利用激光在低熔点的基底表面制备二氧化钛薄膜的方法，其特征在于，其步骤包括：（1）选取透过率大于百分之八十五的基底，且要求其熔点在120到265度之间，用超声波清洗仪清洗并吹干，确保基底表面没有灰尘；（2）在纳米二氧化钛粉末中滴入水，制成溶胶，并将它涂覆在基底上；（3）将涂覆了溶胶的基底放在实验平台上，使涂有二氧化钛的一面朝下；打开激光器调整实验平台高度，使激光束的焦点落在基底表面，其中激光器为1064nm的光纤激光器；（4）绘制出需要在基底上制备二氧化钛薄膜的形状，并调试激光频率为20HZ，扫描速度在750?1000mm/s之间，扫描间隔在0.003?0.007mm之间，扫描功率在3?4瓦间，制备出二氧化钛薄膜；（5）再利用超声波清洗仪将多余的溶胶清洗掉，得到干净的镀有二氧化钛薄膜的基底。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：刘富荣，韩欣欣，陈继民，
申请(专利权)人：北京工业大学，
类型：发明
国别省市：