研磨用组合物以及使用其的研磨方法技术

本发明专利技术的第1方式的研磨用组合物含有含氮化合物和磨粒、pH为1～7。研磨用组合物中所含的含氮化合物优选具有通式(1)：R1-N(-R2)-R3(其中，R1、R2、R3分别表示烷基或者在烷基上附加特性基团得到的基团，R1～R3中的2个可构成杂环的一部分，R1～R3中的2个还可以相同并与剩余的1个一起构成杂环的一部分)所示的结构，或者为羧基甜菜碱型两性表面活性剂、磺基甜菜碱型两性表面活性剂、咪唑啉型两性表面活性剂、和氧化胺型两性表面活性剂中的任一种。本发明专利技术的第2方式的研磨用组合物含有水溶性高分子和磨粒，不含氧化剂，pH为1～8。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种研磨用组合物，其含有含氮化合物和磨粒，所述磨粒为二氧化硅，pH为1～7，上述含氮化合物具有通式：R1?N(?R2)?C(=O)?R4所示的结构，式中，R1、R2、R4分别表示烷基或者在烷基上附加特性基团得到的基团，R1或R2可以与R4一起构成杂环的一部分。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：水野敬广，井泽由裕，赤塚朝彦，
申请(专利权)人：福吉米株式会社，
类型：发明
国别省市：