一种利用气相沉积工艺制备纳米金的方法技术

技术编号:8757879 阅读:234 留言:0更新日期:2013-06-06 01:15
本发明专利技术属于纳米金属材料制备领域,涉及一种利用气相沉积工艺制备纳米金的方法。其特征在于:以纯度99.99%的金作为原料,直流溅射不同时间得到不同厚度纳米金薄膜,然后在一定温度和时间范围内进行退火,得到不同尺寸的纳米金颗粒。与目前纳米金的其它制备工艺相比较,本发明专利技术工艺简单、成本低廉,制备周期短,无环境污染。本发明专利技术制备的纳米金在光学元件、生物医学、太阳能电池、信息存储催化剂、纳米材料制备等很多领域有较广应用前景。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种利用气相沉积工艺制备纳米金的方法,其特征在于:以纯金作为原料,以载玻片为基底,溅射一定时间,然后在一定温度和时间范围内进行退火,得到不同尺寸的纳米金颗粒。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:宋西平窦娜娜王涵张蓓
申请(专利权)人:北京科技大学
类型:发明
国别省市:

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