本发明专利技术提供了一种用于透射显微镜和扫描显微镜的镍箔网，所述镍箔网的厚度为0.01mm～0.05mm，网孔的孔数为1目～600目。本发明专利技术制作该镍箔网的方法包括绘图、镍箔处理、光刻胶、前烘烤、曝光、显影、漂洗、后烘烤、刻蚀和去胶。通过本发明专利技术的制作方法得到的电子显微镜镍箔网的网孔清晰、孔壁光滑。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种。
技术介绍
1975年以前所研制的用于透射显微镜和扫描显微镜的铜网已远远无法满足更多科学研究的需要。一方面在材料学研究领域中，在样品的制作过程中其温度高达2000度，要求表面要抗酸抗碱，而传统铜制载网不耐高温，硬度不够，表面易被侵蚀，导致无法进行分析。另一方面在科学研究领域，如生物化学研究领域中，由于表面活性剂溶液剂界面物理化学性质的研究纳米化学领域对纳米颗粒子碳纳米管结构的研究观察起到重要作用，因此需要更多样的载网适用于纳米颗粒子碳纳米管结构的研究。目前，中国专利申请(公开号:CN101866803A)公开了一种透射电镜微栅，是最接近的现有技术，其具体公开了所述微栅10包括载体110、碳纳米管支撑体120以及固定体，所述载体110(即镍箔网)材料可以是铜、镍、钥或陶瓷等材料，载体外径为3毫米，载体表面均匀分布尺寸为40微米-120微米的方形第一通孔(由此可以计算外径为3毫米、孔边长120微米时载体孔径介于I目到600目之间)，微栅10厚度为3微米 20微米的圆片装结构(结合图1可以确定载体110厚度应当在微米量级)。可见该专利申请没有公开权利要求I中的镍箔网的厚度为0.0lmm 0.05mm的技术特征。日本专利申请(JP2006-244742A)公开了一种用于电子显微镜的金属载网，并具体公开了所述金属载网(即镍箔网)包括支持环11和网12，材料为铜、钥、铝、钛或白金。可见该专利申请没有公开权利要求1中的镍箔网的厚度和孔径。中国专利申请(公开号:CN1589739A)公开了一种用于承载用电子束照射的样本承载器，并具体公开了所述样本承载器材料可以是铜、金、镍或塑料，厚度通常是5 50i!m。可见该专利申请没有公开权利要求1中的材料为镍，以及载网的厚度为0.0lmm 0.05mm的技术特征，网孔的孔数为I目 600目的技术特征。因此，迫切需要一种用于透射显微镜和扫描显微镜的耐高温、不易被污染，镍有磁性，不锈钢没有磁性的、网孔清晰、孔壁光滑的镍箔网和不锈钢网。
技术实现思路
本专利技术利用超级紫外线光刻技术，制作出一种用于透射显微镜和扫描显微镜的耐高温、有磁性，不易被腐蚀的镍箔网。所述镍箔网的厚度为0.0lmm 0.05mm,网孔的孔数为I目 600目。所述网孔形状为方形、圆形、蜂窝形或条形。所述镍箔网的外径为3_ 3.05mm,孔径可达0.5 y m或以上，线径可达20 y m或以上。其中，外径:载网总直径为外径；孔径:每个网孔(目)内为孔径；线径:每一个网孔与网孔之间的线为线径。本专利技术的另一目的在于提供一种所述镍箔网的制作方法，所述制作方法包括如下步骤:(1)绘图:将镍网制成图纸进行拍照并得到黑白底片；(2)镍箔处理:将镍箔的表面采用普通去油剂进行清洗、烘干；(3)涂胶:使用常规的紫外负型光刻胶和负胶稀释剂将烘干后的镍箔采用旋转涂布法进行涂 胶；(4)前烘烤:在温度为90 115度下通过对流烘箱对光刻胶后的镍箔进行前烘烤；(5)曝光:采用高压汞灯对前烘烤后的镍箔进行紫外线曝光30秒 60秒；(6)显影:使用常规的负胶显影剂对曝光后的镍箔进行显影；(7)漂洗:使用常规的负胶漂洗剂立即对显影后的镍箔进行漂洗；(8)后烘烤:在温度为150 180度下通过对流烘箱对漂洗后的镍箔进行后烘烤；(9)刻蚀:在电流密度为1-25A/平方厘米和电压为3-15V下使用腐蚀液对后烘烤后的镍箔进行注入刻蚀；和(10)去胶:使用负胶去膜剂对刻蚀后的镍箔进行去胶。优选地，在进行涂胶过程时，控制旋转转速在1000 4500rpm，以使得涂胶厚度不超过1.5微米。优选地，所述前烘烤的时间为5 20分钟，所述后烘烤的时间为5分钟。优选地，所述腐蚀液为磷酸为700ml 1000ml,水为200ml 300ml。所述腐蚀液温度为10 70度。优选地，所述负胶去膜剂的浸泡温度为60 90度,浸泡时间为10 20分钟。 优选地，所述制作方法适用于不锈钢网。本专利技术的镍箔网，不锈钢网具有化学性质稳定，材料强度耐高温，有磁性，不易被污染，镍网有磁性，不锈钢网无磁性的特点，通过本专利技术的制作方法得到的电子显微镜镍箔网和不锈钢网的网孔清晰、孔壁光滑。附图说明图1为外径3mm,网孔孔数为600目，网孔形状为方孔的镍箔网示图；图2为外径3.05mm,网孔孔数为I目，网孔形状为圆孔的镍箔网示图；图3为外径3mm,网孔孔数为150目，网孔形状为蜂窝孔的镍箔网示图；图4为外径3mm，网孔孔数为400目，网孔形状为条形的镍箔网示图；图5为外径3mm,网孔孔数为600目，网孔形状为方孔的不锈钢箔网示图；图6为外径3.05mm,网孔孔数为I目，网孔形状为圆孔的不锈钢箔网示图；图7为外径3mm,网孔孔数为150目，网孔形状为蜂窝孔的不锈钢箔网示图；图8为外径3mm,网孔孔数为400目，网孔形状为条形的不锈钢箔网示图；图9为通过本专利技术的制作方法得到的电子显微镜镍箔网。图10为通过本专利技术的制作方法得到的电子显微镜不锈钢箔网。具体实施例方式为了能进一步了解本专利技术的结构、特征及其它目的，现结合所附较佳实施例详细说明如下，所说明的较佳实施例仅用于说明本专利技术的技术方案，并非限定本专利技术。实施例1选用厚度为0.0lmm的镍箔按照如下步骤进行制作，得到图1所示的外径为3mm，网孔孔数为600目，网孔为方孔的镍箔网。第(I)步骤为绘图:首先根据所需镍网的要求手工绘图，然后将手工绘图草图再转入电脑进行准确绘图，接着按1:1的比例打印出黑白底片；在底片上形成一张同实物镍网相反的图片，也叫正负片，作为制作实物的标的物。第(2)步骤为镍箔处理:将镍箔的表面采用普通厨房超强油烟净进行清洗、去油、烘干；该普通厨房油烟净购自北京绿伞化学股份有限公司，其型号为Q/HDLSH008。第(3)步骤为涂胶:使用紫外负型光刻胶和负胶稀释剂将烘干后的镍箔用旋转涂布法进行涂胶；该紫外负型光刻胶和负胶稀释剂购自北京科华微电子材料有限公司，其中，紫外负型光刻胶的型号为KMP-BN303-60，其技术要求为:粘度为60.0±2.0mpa.s ;水分^ 0.02% ;一次涂布膜厚为1.05 1.15 ii m ;分辨率为2.5 y m ;终极滤膜孔径为0.02 y m ;留膜率> 65% ;负胶稀释剂采用适用于KMP-BN系列产品稀释的负胶稀释剂，其技术要求(主要指标)为:水分< 0.05%，主要金属杂质(Fe-Na) ( lppm，产品经过0.2微米滤芯过滤。在进行涂胶过程时，控制旋转转速在lOOOrpm，以使得涂胶厚度不超过1.5微米。第(4)步骤为前烘烤:在温度为90度下通过对流烘箱对光刻胶后的镍箔进行前烘烤；所述前烘烤的时间为20分钟。第(5)步骤为曝光:将镍箔片放在黑白底片下夹好，再放入高压汞灯下进行紫外线曝光30秒。第(6)步骤为显影:曝光后的镍箔片放入负胶显影剂中将镍箔片中的图像显现出来；负胶显影剂购自北京科华微电子材料有限公司，采用适用于KMP-BN系列产品显影的显影剂；其技术要求为:水分彡0.02%;主要金属杂质(Fe.Na) ( 0.1ppm ;产品经过0.2微米滤芯过滤。第(7)步骤为漂洗:使用负胶漂洗剂立即对显影后的镍箔进行漂洗；该负胶漂洗剂购自北京科华微电子材料有限公本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种用于透射显微镜和扫描显微镜的镍箔网，其特征在于，所述镍箔网的厚度为0.01mm～0.05mm，网孔的孔数为1目～600目。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：张继明，田连建，
申请(专利权)人：北京新兴百瑞技术有限公司，
类型：发明
国别省市：北京;11
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