一种液体净化装置包括一个竖直的壳体,多个安置在壳体内的斜板形成曲折的通路,开在斜板上的第一通路使轻于液体的杂质通过此通路上浮,而开在斜板上的第二通路使重于液体的杂质通过此通路下沉,该装置还包括各自开在壳体上的一个供液孔,一个净化液体出口孔,一个第一排放孔,通过该孔排出比液体重的杂质;一个第二排放孔,通过该孔排出比液体轻的杂质。(*该技术在2017年保护过期,可自由使用*)
【技术实现步骤摘要】
本专利技术与含固体和/或液体杂质的液体的净化装置有关。可溶的冷却和/或清洁水用在机加工位。就会产生像混有油的液体从前一个装有一工件的工位送到一瞬间加工位的问题或在加工时,瞬间工位所产生的切屑与液体混在一起的问题,这些外来物质必须除去而且可用各种装置来净化液体。更具体地说,日本专利公报平成-4-122463公开了一种用来净化含杂质液体的旋流分离器,该旋流器能使液体内所含的切屑下沉同时使净化液体上浮。然而,常规的旋流分离器有下列问题第一,在液体所含杂质中含油的情况下,油就不能从液体内除去;第二,为了从液体内去除油,除了旋流分离器外还需设置一个油分离器,结果构成的装置体积过大第三,在旋流型分离器中,从液体中分离和去除杂质的效率并不高,为了从液体中更完全地去除杂质,最好用一种过滤型分离器,但是过滤型分离器需要周期性更换滤芯。本专利技术的目的是通过一个单个装置,提供一个能去除切屑和油的液体净化装置。本专利技术的净化含杂质液体的装置包括由一个底壁、顶壁、垂直侧壁组成的竖直空心壳体,在壳体内,设置多个与水平呈倾斜的板以便相至隔开,斜板包括至少一个从壳体侧壁下倾延伸的第一板和至少一个从壳体侧壁上斜延伸的第二板。至少一个第一板的各板有一个限定第一通道的上端以使轻于液体的杂质经此通道上端上浮;至少一个第二板的各板有一个限定第二通道的下端以便使重于液体的杂质经此通道下端下沉。液体净化装置还包括一个穿过开在壳体上的供应孔把含杂质的液体送到壳体内的液体供应装置,一个在第二通道上方,开在壳体顶壁上的净化液体出口孔,一个在第二通道下方,开在壳体底壁上的第一排液孔和一个在第一通道上方,开在壳体顶壁上的第二排液孔。在本专利技术的液体净化装置中,当液体在斜板之间流动时,比液体轻的杂质穿过第一通道,上升到壳体的顶壁并通过第二排液孔排出,而同时比液体重的杂质穿过第二通道,下沉到壳体底壁并通过第一排液孔排出,净化液体通过净化液体出口孔而流出。在此实例中,比液体轻的杂质和比液体重的杂质是用同一个液体净化装置从液体中加以去除。结合附图并从下文中对本专利技术的最佳实施例进行详细叙述就会对本专利技术的上述的专利技术目的,特点和优点更容易理解并且变得更明显。其中附图说明图1是一个本专利技术第一实施例的净化装置的剖视图。如图1所示,一个净化含杂质液体的装置包括一个竖直的中空壳体或容器1,图1所示的壳体为柱形,但是该壳体也可以矩形或其它形状,壳体9有一个上壁1a,一个底壁1b以及由上壁1a和底壁1b之间的柱体所限定的垂直侧壁1c。在壳体1内安置有多个与水平呈倾斜且相互隔开的斜板2,斜板2包括(a)至少一个从壳体1的侧壁1c下倾伸的第一板2ab)至少一个设置于两相邻第一板之间并向壳体1的侧壁1c上斜延伸的第二板2b并且在第二板2b上端与壳体1的侧壁1c之间留有间隙,通过此结构,斜板2就限定了一个在壳体1内曲折拐弯的通路3。曲折通路3包括至少一个倾斜上升通路部分3a降至少一个倾斜下降通路3b,上升通路部分3a和下降通路部分3b通过一个靠近第二板2b的上端处的第一通道换向部分3c相连,还通过一个靠近第一板2a的下端外的第二通道换向部分3d而相连。用来使比液体轻的杂质通过其上浮的第一通路4开在第一换向部分3c上方处的至少一个第一板2a上。以比液体轻的杂质是油为实例,第一通路4就是油通路。第一通路4可以是(a)当第一板2a用点焊固定到壳体1的侧壁1c上时,在侧壁1c和第一板2a的上端之间形成的约1-3毫米大小的间隙(b)多个开在第一板2a上的小孔。用来使比液体重的杂质通过其重力下沉的第二通路5开在第二换向部分3d下方处的至少一个第二板2b上,以比液体重的杂质是切屑为实例,第二通路5就是切屑通路。第二通路5设有一个包括一个阀6的第二通路的开关装置,该第二通路开关装置包括一个与阀6相连的杆7和垂直方向驱动杆7的驱动装置8,驱动装置8可以是一个气缸或一个电动机,通过驱动阀6和杆7使第二通路5开启或关闭。液体净化装置还包括一个向壳体1内输送含杂质液体用在机加工中的清洗液或冷却液的液体供应装置,液体供应装置包括一个开在壳体1上的送液孔9,穿过送液孔9,含杂质液体输送到壳体1内,送液孔9位于曲折通路3的上游处。杂质至少包括固体杂质和液体杂质中之一种,固体杂质可包括切屑19而液体杂质可包括油18。液体净化装置包括一个位于曲折通路3的下游处并开在壳体1顶壁1a上的净化液体出口孔11。一个通过其把沉淀物包括切屑排出的第一排液孔13开在第二通道5下方处的壳体底壁1b上,底壁1b呈锥形,其直径往下递减而第一排液孔13开在销形底壁1b的中心,第一排液孔13设有一个用于开关排液孔13的阀14。一个通过其把包括油之类杂质排出的第二排液孔12开在第一通路4上方的壳体顶壁1a上,壳体1的顶壁1a呈锥形,其直径向下递减。净化液体出口孔11开在锥形壁1a的中心而第二排液孔12则开在与净化液体出口孔11隔开位于顶壁的径向外缘部分上。液体供应装置还包括一个贮有液体的贮罐15和一个浮在贮罐15内液面上的浮动装置16,浮动装置16有选择地使油和杂质流到壳体1内,含杂质的液体由一个泵17(也可用一真空装置来代替)驱动而送入到壳体9内,液体也可用放置在比壳体1更高位置的贮罐内液面的自身重力来驱动而送到壳体1内。现在来说明净化操作。因为油和小颗粒固体杂质往往会浮在贮罐15的液面上,这些杂质被浮动装置16所浮选,并穿过送液孔9送到壳体1的内部。通过设置浮动装置16,净化液体装置的净化效率大大地提高。含杂质的液体10送到壳体1内,随后就流过曲折通路3,在曲折通路3的流动中,油18在第一通路的换向部分3c聚集并沿着壳体1侧壁1c的内面,通过第一通路4而上升。当油18沿着侧壁1c上升时,油滴的颗粒就增大,当油18到达侧壁1a时,油18就通过第二排液孔(排油孔)12排出。另一方面,比液体重的杂质包括切屑19集积在第二通路部分3d处,当阀6打开第二通路5时,包括切屑19的杂质穿过第二通路5下沉到壳体1的底壁1b上。当阀14打开时,包括切屑19的杂质通过第一液体出口孔13而取出。综上所述,斜板2和曲折通路3运作而从液体中去除油18和切屑19,去除杂质是由单个装置来进行。在此实例中,由于充当比液体重的杂质收集地的第二换向部分3d位于下降通路部分3的下端,聚集在第二通路换向部分3d处的比液体重的杂质不可能再与液体一起流走。由于其曲折形状,故而曲折通路3是很长的,甚至在壳体内的一个很小空间也有很大分开和去除杂质的能力。再由于液体净化装置没有一个过滤器,具有不需再换过滤器的优点,另外,本净化液体装置并不采用旋流分离器和离心力,而不需在液流中产生高流速,尽管本专利技术装置采用低流速,其分离的效率仍然很高。本专利技术具有下列技术上的优点因为本专利技术装置包括具有使轻于液体的杂质通过其上浮的第一通路和使重于液体的杂质通过其下沉的第二通路的斜板,这两种比液体轻或重的杂质都能从装置内去除。由于去除杂质是在单一的净化液体装置内进行所以不会伴有装置体积增大的问题。虽然本专利技术已参照了具体的实施例进行了说明,本领域的普通技术人员可以明白,只要对具体实施例的修改不偏离本专利技术的主题和优点,那么应该理解,所有这些修改都包括在由权利要求书所限定的本专利技术的精神和范围内。权利要求1.一本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种净化含杂质液体的装置有:一个竖直中空的壳体,它有一个底壁、一个顶壁和至少一个大体上垂直侧壁。多个相互隔开并与水平呈倾斜的斜板安置在上述壳体内,上述多个斜板包括至少一个从上述侧壁下倾延伸的第一板和至少一个向上述侧壁上斜延伸的第二板 ,上述至少一个第一板的各板有一个上端,该上端限定出使比液体轻的杂质通过其而上浮的第一通路,上述至少一个第二板的各板有一个下端,该下端限定出使比液体重的杂质通过其而下沉的第二通路;一个液体供应装置用于把上述含杂质的液体送入上述壳体内,上述 液体供应装置包括一个开在上述壳体上的供液孔;一个净化液体出口孔开在上述第二通路上方处的上述壳体顶壁上;一个第一排放孔开在上述第二通路下方处的上述壳体的底壁上;和一个第二排放孔开在第一通路上方处的上述壳体的顶壁上。
【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员:三轮弘行,山本修三,佐藤严一,
申请(专利权)人:丰田自动车株式会社,佐藤严一,
类型:发明
国别省市:JP[日本]
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