一种化学气相沉积固态前驱体连续供给系统技术方案

本发明专利技术公开了一种化学气相沉积固态前驱体连续供给系统，由真空室、真空机组、化学尾气吸附器、化学尾气处理器组成；真空隔离室位于真空室的上部,坩埚与发热体嵌入在真空室内,真空室外壁有进气口与可控固态前驱体挥发装置相连通，真空室下端有抽真空口与化学尾气吸附器连通,化学尾气吸附器通过真空机组和化学尾气处理器连通。该系统可实现固态前驱体的持续供给，通过伺服机构调整装料在炉中的位置达到精确控制固态前驱体挥发温度，进而精确控制前驱体流量；供给系统结构简单，易与常用的化学气相沉积设备兼容；有效地提高了固态前驱体在化学气相沉积过程中的可控挥发性、连续性和均一性，保证实现难熔金属碳化物涂层或基体的沉积。

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种化学气相沉积固态前驱体连续供给系统，包括真空室、真空机组、化学尾气吸附器、化学尾气处理器、坩埚、发热体、保温层、保温隔离层、真空隔离室、上加料真空阀门、下加料真空阀门，其特征在于:还包括固态前驱体装料室和可控固态前驱体挥发装置；真空隔离室位于真空室内保温隔离层的上部,坩埚固定安装在真空室内,发热体环绕于坩埚的外侧,坩埚与发热体嵌入在保温层内,保温层顶端部设有保温隔离层,真空室上部外壁开有进气口与可控固态前驱体挥发装置上部圆孔相连通，真空室与保温层下端部设有抽真空口，且与化学尾气吸附器相连通,化学尾气吸附器通过真空机组和化学尾气处理器相连通；所述固态前驱体装料室呈漏斗状，位于真空隔离室内,真空隔离室顶部设有上加料真空阀门，底部设有下加料真空阀门，上、下加料真空阀门平行对称安装；所述可控固态前驱体挥发装置位于真空隔离室下方，固定在坩埚上部的保温隔离层中间；可控固态前驱体挥发装置为圆柱状筒体，在筒体一端的外壁上开有圆孔与进气口相通，筒体内轴向设有热电偶保护套管固定安装测温热电偶，筒体端盖周向有多个小孔，筒体端盖内料盘上设有若干个小孔。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：成来飞，王一光，张立同，刘小瀛，涂建勇，朱艳，
申请(专利权)人：西北工业大学，
类型：发明
国别省市：