轻剥离型增印保护膜制造技术

本实用新型专利技术公开一种轻剥离型增印保护膜，包括一基材层，此基材层上面涂覆一用于印刷油墨的增印涂层，此基材层下表面通过有机硅压敏胶与一离型膜粘合连接；所述离型膜包括上表面和下表面分别淋膜有PE膜和PET膜的原纸层，原纸层的PET膜另一表面涂覆有雾面防静电涂层，此雾面防静电涂层另一表面涂覆有离型剂涂层；所述雾面防静电涂层与离型剂涂层接触的表面的粗糙度为2.83um～3.32um，此离型剂涂层另一表面具有若干个凸起部。本实用新型专利技术轻剥离型增印保护膜解决了现有保护膜不能印刷文字、图案和离型纸的淋膜层与离型剂涂层结合力不高的问题。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种增印保护膜，尤其涉及一种轻剥离型增印保护膜。
技术介绍
手机触摸按键，薄膜开关等产品在搬运和使用过程中，其表面容易受到接触性污染或磨痕划伤，通常采用保护膜覆盖在其表面使之免受损伤和污染。保护膜一般由基材层和涂覆在该基材层上的胶粘剂层构成。当保护膜用来保护各种薄膜面板例如手机触摸按键，薄膜开关等产品的表面时，需要在保护膜上印刷文字、图案等。传统的保护膜一般都没有经过耐磨增印处理，因此很难在保护膜上进行印刷作业，其次，现有增印保护膜中原纸或淋膜以后的纸的凹凸形状的不均匀，使得有机感压胶胶面的雾度不均匀，有反光发亮的现象。
技术实现思路
本技术提供一种轻剥离型增印保护膜，此轻剥离型增印保护膜解决了现有保护膜不能印刷文字、图案和离型纸的淋膜层与离型剂涂层结合力不高的问题。为达到上述目的，本技术采用的技术方案是:一种轻剥离型增印保护膜，包括一基材层，此基材层上面涂覆一用于印刷油墨的增印涂层，此基材层下表面通过有机硅压敏胶与一离型膜粘合连接；所述离型膜包括上表面和下表面分别淋膜有PE膜和PET膜的原纸层，原纸层的PET膜另一表面涂覆有雾面防静电涂层，此雾面防静电涂层另一表面涂覆有离型剂涂层；所述雾面防静电涂层与离型剂涂层接触的表面的粗糙度为2.83um 3.32um,此离型剂涂层另一表面具有若干个凸起部。上述技术方案中进一步改进的技术方案如下:上述方案中，所述雾面防静电涂层与离型剂涂层接触的表面的粗糙度为2.88um或者 3.12um。由于上述技术方案运用，本技术与现有技术相比具有下列优点:本技术轻剥离型增印保护膜，其有利于油墨图案与保护膜粘接，满足了印刷文字、图案的需要；其次，其抗静电涂层与离型剂涂层接触的表面具有若干均匀凹凸结构，然后在此抗静电涂层表面涂布硅离型剂涂层，硅离型剂涂层的底面在液态下渗入所述抗静电涂层表面的凹缺处，硅离型剂涂层在凝固后通过凹缺与抗静电涂层固定相连，因此，结合力更加牢固、可靠，而且还可以通过调节抗静电涂层的凹槽深宽和密度，来自由调整硅离型剂涂层与离型纸原纸之间剥离力的大小。附图说明附图1为本技术轻剥离型增印保护膜结构示意图；附图2为本技术离型膜结构示意图。以上附图中:1、基材层；2、增印涂层；3、有机硅压敏胶；4、离型膜；41、PE膜；42、PET膜；43、原纸层；44、雾面防静电涂层；45、离型剂涂层；46、凸起部。具体实施方式以下结合附图及实施例对本技术作进一步描述:实施例1:一种轻剥离型增印保护膜，包括一基材层I，此基材层I上面涂覆一用于印刷油墨的增印涂层2，此基材层I下表面通过有机硅压敏胶3与一离型膜4粘合连接；所述离型膜4包括上表面和下表面分别淋膜有PE膜41和PET膜42的原纸层43，原纸层43的PET膜42另一表面涂覆有雾面防静电涂层44，此雾面防静电涂层44另一表面涂覆有离型剂涂层45 ;此离型剂涂层45另一表面具有若干个凸起部46。上述雾面防静电涂层44与离型剂涂层45接触的表面的粗糙度为2.88um。实施例2:—种轻剥离型增印保护膜，包括一基材层I，此基材层I上面涂覆一用于印刷油墨的增印涂层2，此基材层I下表面通过有机硅压敏胶3与一离型膜4粘合连接；所述离型膜4包括上表面和下表面分别淋膜有PE膜41和PET膜42的原纸层43，原纸层43的PET膜42另一表面涂覆有雾面防静电涂层44，此雾面防静电涂层44另一表面涂覆有离型剂涂层45 ;此离型剂涂层45另一表面具有若干个凸起部46。上述雾面防静电涂层44与离型剂涂层45接触的表面的粗糙度为者3.12um。采用上述轻剥离型增印保护膜时，其有利于油墨图案与保护膜粘接，满足了印刷文字、图案的需要；其次，其抗静电涂层与离型剂涂层接触的表面具有若干均匀凹凸结构，然后在此抗静电涂层表面涂布硅离型剂涂层，硅离型剂涂层的底面在液态下渗入所述抗静电涂层表面的凹缺处，硅离型剂涂层在凝固后通过凹缺与抗静电涂层固定相连，因此，结合力更加牢固、可靠，而且还可以通过调节抗静电涂层的凹槽深宽和密度，来自由调整硅离型剂涂层与离型纸原纸之间剥离力的大小。上述实施例只为说明本技术的技术构思及特点，其目的在于让熟悉此项技术的人士能够了解本技术的内容并据以实施，并不能以此限制本技术的保护范围。凡根据本技术精神实质所作的等效变化或修饰，都应涵盖在本技术的保护范围之内。权利要求1.一种轻剥离型增印保护膜，其特征在于:包括一基材层(1)，此基材层(I)上面涂覆一用于印刷油墨的增印涂层(2)，此基材层(I)下表面通过有机硅压敏胶(3)与一离型膜(4)粘合连接；所述离型膜(4)包括上表面和下表面分别淋膜有PE膜(41)和PET膜(42)的原纸层(43)，原纸层(43)的PET膜(42)另一表面涂覆有雾面防静电涂层(44)，此雾面防静电涂层(44)另一表面涂覆有离型剂涂层(45);所述雾面防静电涂层(44)与离型剂涂层(45)接触的表面的粗糙度为2.83um 3.32um，此离型剂涂层(45)另一表面具有若干个凸起部(46)。2.根据权利要求1所述的增印保护膜，其特征在于:所述雾面防静电涂层(44)与离型剂涂层(45)接触的表面的粗糙度为2.88um或者3.12um。专利摘要本技术公开一种轻剥离型增印保护膜，包括一基材层，此基材层上面涂覆一用于印刷油墨的增印涂层，此基材层下表面通过有机硅压敏胶与一离型膜粘合连接；所述离型膜包括上表面和下表面分别淋膜有PE膜和PET膜的原纸层，原纸层的PET膜另一表面涂覆有雾面防静电涂层，此雾面防静电涂层另一表面涂覆有离型剂涂层；所述雾面防静电涂层与离型剂涂层接触的表面的粗糙度为2.83um～3.32um，此离型剂涂层另一表面具有若干个凸起部。本技术轻剥离型增印保护膜解决了现有保护膜不能印刷文字、图案和离型纸的淋膜层与离型剂涂层结合力不高的问题。文档编号B65D65/42GK202935745SQ201220527569公开日2013年5月15日 申请日期2012年10月16日 优先权日2012年10月16日专利技术者金闯, 张庆杰 申请人:苏州斯迪克新材料科技股份有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种轻剥离型增印保护膜，其特征在于：包括一基材层（1），此基材层（1）上面涂覆一用于印刷油墨的增印涂层（2），此基材层（1）下表面通过有机硅压敏胶（3）与一离型膜（4）粘合连接；所述离型膜（4）包括上表面和下表面分别淋膜有PE膜（41）和PET膜（42）的原纸层（43），原纸层（43）的PET膜（42）另一表面涂覆有雾面防静电涂层（44），此雾面防静电涂层（44）另一表面涂覆有离型剂涂层（45）；所述雾面防静电涂层（44）与离型剂涂层（45）接触的表面的粗糙度为2.83um～3.32um，此离型剂涂层（45）另一表面具有若干个凸起部（46）。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：金闯，张庆杰，
申请(专利权)人：苏州斯迪克新材料科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏;32