包括多孔二氧化硅纳米微粒的光学涂层制造技术

技术编号:8687798 阅读:215 留言:0更新日期:2013-05-09 07:35
一种光学涂层,包括胶合剂和多个多孔二氧化硅纳米微粒,在二氧化硅纳米微粒中小孔被随机地取向;一种用于形成光学涂层的溶液,所述溶液包括溶剂和多个多孔二氧化硅纳米微粒,在二氧化硅纳米微粒中小孔被随机地取向;一种用于制造光学涂层的方法;以及在光学涂层的制造中多孔二氧化硅纳米微粒的使用,在二氧化硅纳米微粒中小孔被随机地取向。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】包括多孔二氧化硅纳米微粒的光学涂层 本专利技术涉及在适当的胶合剂中的包括多孔二氧化硅纳米微粒或从多孔二氧化硅纳米微粒得到的光学涂层,其优选地对可见光是透射的,并优选地提供抗反射特性,且可选地提供其它额外的功能。涂层特别地但不排他地适合于应用于眼科学和眼镜、光伏电池、显示器、窗户、发光二极管和太阳能集中器。眼镜、太阳能电池和显示器通常由暴露于由玻璃或聚合物片组成的环境的外部基片组成。这些基片一般具有1.5-1.7的折射率,并在每个表面上反射入射太阳光的大约4-5%——减小穿过基片的可见性或不再为太阳能电池所占有的能量。这些基片可被涂有将该反射减小到小于2%的抗反射涂层。附图说明图1示意性示出在基片2上的常规单层抗反射(AR)涂层I。AR涂层I的厚度是h。如果从AR涂层I的前表面和后表面反射的光布置成破坏性地干扰,则反射率减小。这(对于法向入射)在涂层I的厚度等于涂层的介质中的入射光的波长的四分之一的情况下实现,即:

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2010.08.20 GB 1014024.21.种光学涂层,包括胶合剂和多个多孔二氧化硅纳米微粒,在所述二氧化硅纳米微粒中小孔被随机地取向。2.种用于形成光学涂层的溶液,所述溶液包括溶剂和多个多孔二氧化硅纳米微粒,在所述二氧化硅纳米微粒中小孔被随机地取向。3.种用于制造光学涂层的方法,所述方法包括: 制备(i)用于形成光学涂层的溶液,所述溶液包括胶合剂、溶剂和多个多孔二氧化硅纳米微粒,在所述二氧化硅纳米微粒中小孔被随机地取向,或(i i )用于形成光学涂层的两种溶液,一种溶液包括胶合剂和溶剂,而一种溶液包括多个多孔二氧化硅纳米微粒和溶剂,在所述二氧化硅纳米微粒中小孔被随机地取向; 将一种或多种所述溶液涂到基片;以及 从一种或多种所述溶液移除溶剂以形成所述光学涂层。4.前述权利要求中的任一项所述的涂层、溶液或方法,其中所述小孔具有至少部分地包括疏水层的内表面。5.权利要求4所述的涂层或方法,其中所述胶合剂是亲水的。6.权利要求5所述的涂层、溶液或方法,其中所述胶合剂是四乙氧基硅烷或包括3-缩水甘油氧丙基三甲氧基硅烷的基于硅氧烷的...

【专利技术属性】
技术研发人员:加雷斯·韦克菲尔德马丁·加德纳萨沙·奥斯特洛夫斯基
申请(专利权)人:牛津能源科技有限公司
类型:
国别省市:

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