本发明专利技术提供了一种掺杂石墨烯的制备方法,包括以下步骤:将金属材质的衬底清洗后烘干;将烘干后的衬底设置在反应室中,往反应室通入保护性气体,并保持1~60分钟;随后将反应室加热至750~1100℃,通入气流量为20~1000sccm的气态含碳物质以及气流量为10~200sccm的气态含氮物质进行反应,且C∶N原子比为2~20∶1,保持1~300分钟的反应后在衬底表面制得掺杂石墨烯。本发明专利技术无需额外制备催化剂,工艺和设备简单,操作简易可行,与其它掺氮方法相比,所制得的产品氧含量低、掺氮量易控制和掺杂均匀等优点。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及化学气相沉积法制备石墨烯的方法,特别是涉及。
技术介绍
石墨烯是2004年英国曼彻斯特大学的安德烈.K.海姆(Andre K.Geim)等发现的一种二维碳原子晶体,为单层或多层的极薄的碳材料。单层石墨烯拥有优良的导电、导热性能和低的热膨胀系数,并且其理论比表面积高达2630m2/g(A Peigney, Ch Laurent, etal.Carbon,2001,39,507),可用于效应晶体管、电极材料、复合材料、液晶显示材料、传感器等。石墨烯独特的结构和光电性质使其成为碳材料、纳米技术、凝聚态物理和功能材料等领域的研究热点。石墨烯的研究和应用对它的大批量、低成本制备提出了迫切要求。目前制备石墨稀的方法主要有石墨剥裂(Novoselov K S, Geim A K, et al.Science 2004, 306,666)、化学氧化还原法(D A Dikin, et al.Nature 2007,448,457 ;Sasha Stankovich, Dmitriy ADikin,Richard D Piner, et al.Carbon 2007,45,1558)、超声剥离法(Guohua Chen, WenguiWeng, Dajun Wu, et al.Carbon.2004,42, 753)等。然而,目前在通过化学氧化还原的方法大规模制备石墨烯的过程中,还原后制得的石墨烯还含有较少量的_0H、-C-O-C-和-C00H等含氧官能团,这些官能团会降低石墨烯的化学稳定性与电化学稳定性。化学气相沉积法已经实现了碳纳米管的批量生产,有望利用化学气相沉积法实现石墨烯的批量生产。所以人们开始利用等离子体增强化学气相沉积法制备掺氮石墨烯(Hyung Mo Jeong, et al.Nano Letters,2011,11,2472-2477)。公开号为 CN 101289181 A的中国专利申请公开了化学气相沉积法掺杂石墨烯的制备方法,但该方法需要另外添加催化剂,完成制备后还需去除催 化剂,增加工艺复杂性,且得到的样品氧含量过高。
技术实现思路
为解决上述问题,本专利技术旨在提供,该方法无需额外制备催化剂,工艺和设备简单,操作简易可行,与其它掺氮方法相比,所制得的产品氧含量低、掺氮量易控制和掺杂均匀等优点。本专利技术提供的,包括以下步骤:(I)将金属材质的衬底清洗后烘干;(2)将烘干后的衬底设置在反应室中,往反应室通入气流量为10 IOOOsccm的保护性气体,并保持I 60分钟;(3)随后将反应室加热至750 1100°C,通入气流量为20 IOOOsccm的气态含碳物质以及气流量为10 200sccm的气态含氮物质进行反应,且C: N原子比为2 20: 1,保持I 300分钟的反应后在衬底表面制得掺杂石墨烯。所述掺杂石墨烯的制备方法中,所述步骤(I)中:优选地,衬底为铜箔、铁箔、镍箔或钴箔;优选地,所述衬底的清洗过程包括:依次用去离子水、乙醇和丙酮分别对所述衬底进行超声清洗。所述掺杂石墨烯的制备方法中,步骤(2)中:优选地,保护性气体为氢气、氮气和氩气中的一种或其任意组合;优选地,往反应室通入保护性气体后保持20 30分钟。所述掺杂石墨烯的制备方法中,步骤(3)中:优选地,反应室的加热温度为900 1050°C ;优选地,气态含碳物质为甲烷、乙烷和乙炔中的一种或其任意组合;优选地,气态含氮物质为氨气、甲胺和乙胺中的一种或其任意组合;优选地,往反应室通入气态含碳物质和气态含氮物质后保持30 60分钟的通气时间;优选地,C: N原子比为5 10: I。本专利技术提供的利用化学气相沉积法掺杂石墨烯的制备方法,无需额外制备催化齐U,工艺和设备简单,操作简易可行,与其它掺氮方法相比,所制得的产品氧含量低、掺氮量易控制和掺杂均匀等优点。附图说明图1为本专利技术的掺杂石墨烯制备工艺流程图;图2为本专利技术实施例一所制备的掺杂石墨烯的SEM电镜图;图3为本专利技术实施例一所制备的掺杂石墨烯的XPS图谱。具体实施例方式以下所述是本专利技术的优选实施方式,应当指出,对于本
的普通技术人员来说,在不脱离本专利技术原理的前提下,还可以做出若干改进和润饰,这些改进和润饰也视为本专利技术的保护范围。本实施例提供的,如图1所示,包括以下步骤:(I)将金属材质的衬底清洗后烘干;(2)将烘干后的衬底设置在反应室中,往反应室通入气流量为10 IOOOsccm的保护性气体,并保持I 60分钟;(3)随后将反应室加热至750 1100°C,通入气流量为20 IOOOsccm的气态含碳物质以及气流量为10 200sccm的气态含氮物质进行反应,且C: N原子比为2 20: 1,保持I 300分钟的反应;(4)反应完成后,停止通入气态含碳物质和气态含氮物质,以及停止对衬底进行加热,冷却至室温后停止通入保护性气体,在衬底表面制得掺杂石墨烯。所述掺杂石墨烯的制备方法中,所述步骤(I)中: 衬底为铜箔、铁箔、镍箔或钴箔;衬底的清洗过程包括:依次用去离子水、乙醇和丙酮分对衬底进行超声清洗10 35分钟。所述掺杂石墨烯的制备方法中,步骤(2)中:保护性气体为氢气、氮气和氩气中的一种或其任意组合,且往反应室通入保护性气体后保持20 30分钟。所述掺杂石墨烯的制备方法中,步骤(3)中:优选地,反应室的加热温度为900 1050°C ;优选地,气态含碳物质为甲烷、乙烷和乙炔中的一种或其任意组合;优选地,气态含氮物质为氨气、甲胺和乙胺中的一种或其任意组合;优选地,往反应室通入气态含碳物质和气态含氮物质后保持30 60分钟的通气时间;优选地,C: N原子比为5 10: I。本专利技术提供的利用化学气相沉积法掺杂石墨烯的制备方法,无需额外制备催化齐U,工艺和设备简单,操作简易可行,与其它掺氮方法相比,所制得的产品氧含量低、掺氮量易控制和掺杂均匀等优点。实施例一,包括以下步骤:(I)依次用去离子水、乙醇和丙酮对铁箔进行超声清洗后烘干;(2)将烘干后的 铁箔设置在反应室中,往反应室通入气流量为IOOccm的氢气,并保持50分钟;(3)随后将反应室加热至1100°C,通入气流量为20sccm的甲烷以及气流量为IOsccm的氨气进行反应,保持60分钟的通气时间;(4)反应完成后,停止通入甲烷和氨气,以及停止对铁箔进行加热,冷却至室温后停止通入氢气,在铁箔表面制得掺杂石墨烯。图2为实施例1制备的掺氮石墨烯的SEM图片,从图2中可以明显看出在铁箔表面已成功生长出掺杂石墨烯,厚度约为I 2nm,长度约为0.5 5um。图3为实施例1制备的掺氮石墨烯的XPS图谱,从图3中可以看出,氮已经掺到石墨烯里,含量为5.8%,在图谱中没有明显的含氧峰,所以氧含量基本为零,实现了较理解的掺杂效果。实施例2,包括以下步骤:(I)依次用去离子水、乙醇和丙酮对钴箔进行超声清洗后烘干;(2)将烘干后的钴箔设置在反应室中,往反应室通入气流量为IOOOsccm的氩气,并保持I分钟;(3)随后将反应室加热至900°C,通入气流量为200SCCm的乙炔以及气流量为40sccm的甲胺进行反应,保持30分钟的通气时间;(4)反应完成后,停止通入乙炔和甲胺,以及停止对钴箔进行加热,冷却至室温后停止通入氩气,在钴箔表面制得掺杂石墨烯本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种掺杂石墨烯的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:(1)将金属材质的衬底清洗后烘干;(2)将烘干后的衬底设置在反应室中,往反应室通入气流量为10~1000sccm的保护性气体,并保持1~60分钟;(3)随后将反应室加热至750~1100℃,通入气流量为20~1000sccm的气态含碳物质以及气流量为10~200sccm的气态含氮物质进行反应,且C∶N原子比为2~20∶1,保持1~300分钟的反应后在衬底表面制得掺杂石墨烯。
【技术特征摘要】
1.一种掺杂石墨烯的制备方法,其特征在于,包括以下步骤: (1)将金属材质的衬底清洗后烘干; (2)将烘干后的衬底设置在反应室中,往反应室通入气流量为10 lOOOsccm的保护性气体,并保持I 60分钟; (3)随后将反应室加热至750 1100°C,通入气流量为20 IOOOsccm的气态含碳物质以及气流量为10 200sccm的气态含氮物质进行反应,且C: N原子比为2 20: 1,保持I 300分钟的反应后在衬底表面制得掺杂石墨烯。2.按权利要求1所述的方法,其特征在于,步骤(I)中,所述衬底为铜箔、铁箔、镍箔或钴箔。3.按权利要求1所述的方法,其特征在于,步骤(I)中,所述衬底的清洗过程包括:依次用去离子水、乙醇和丙酮分别对所述衬底进行超声清洗。4.按权利要求1所述的方法,其特征...
【专利技术属性】
技术研发人员:周明杰,袁新生,王要兵,
申请(专利权)人:海洋王照明科技股份有限公司,深圳市海洋王照明技术有限公司,
类型:发明
国别省市:
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