使用了微透镜阵列的曝光装置及光学构件制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种能够防止异物进入到微透镜阵列与基板之间并且能够防止由于基板的异常接近和上述异物导致对微透镜造成伤痕的曝光装置和光学构件。在透明基板（1）的上方配置有形成了多个微透镜（3a）的微透镜阵列（3），该微透镜阵列（3）在其端面（6）与掩模（4）接合。在掩模（4），在微透镜阵列（3）的两侧接合有对准标记台（12），在该对准标记台（12）的与基板（1）的相向面形成有对准标记（11）。对准标记台（12）与基板（1）之间的间隔小于微透镜阵列（3）与基板（1）的间隔。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及使用了微透镜阵列(microlens array)的曝光装置及光学构件。
技术介绍
以往,使用了微透镜阵列的曝光装置作为激光退火(laser annealing)装置而使用，并且作为在抗蚀剂膜上对掩模图像进行投影曝光并利用之后的显影处理形成抗蚀剂图案的光刻用的曝光装置而使用，上述激光退火装置是对非晶硅膜照射激光，利用激光的热使非晶硅膜熔融、凝固，由此将非晶硅膜改性为多晶硅膜的装置。作为使用了该微透镜阵列的曝光装置，有专利文献I中所公开的曝光装置。在该专利文献I所公开的曝光装置中，如图4所示，在工作台100上载置有被曝光体101,在该被曝光体101的上方配置有光掩模(photomask)102和微透镜阵列106。而且，来自光源111的曝光光线被准直透镜110聚光并照射于光掩模102。光掩模102是在透明基板103的上表面形成了具有开口 105的遮光膜104的光掩模,在透明基板103的下表面形成有许多二维地进行配置的微透镜107，构成微透镜阵列106。在该遮光膜104的开口 105中透射了的曝光光线透射微透镜阵列106的微透镜107而被聚束，并成像在被曝光体101上。光掩模102和微透镜阵列106被掩模台108支承。图5是表示以往的另一使用了微透镜阵列的投影曝光型曝光装置的剖面图。在透明基板I上，例如，形成有光刻用的抗蚀剂膜2，将该基板I输送至微透镜曝光装置的下方。在以往的微透镜曝光装置中，设置有将许多微透镜3a 二维地配置而形成的微透镜阵列3，在该微透镜阵列3的上方配置有掩模4。微透镜阵列3由透明石英基板形成，在该微透镜阵列3的透明石英基板加工有微透镜3a。掩模4是在与微透镜阵列3相同材质的透明基板的下表面接合Cr膜5而构成的，在该Cr膜5形成有用于使激光通过的孔5a。该掩模4中的孔5a以外的部分被Cr膜5覆盖，成为阻止激光通过的遮光部分。微透镜阵列3的两端部以朝向掩模4延伸的方式折弯，该各端部的端面与其上方的掩模4接合。由此，微透镜阵列3和掩模4被固定。在像这样构成的以往的微透镜曝光装置中，当将曝光用的激光照射在掩模4上时，通过了掩模4的孔5a的激光入射至微透镜阵列3的各微透镜3a，由各微透镜3a聚束于基板I上的抗蚀剂膜2。再有，在该孔5a形成有要投影的图案，在激光在孔5a中透射并照射于抗蚀剂膜2时，上述图案被投影于抗蚀剂膜2。在以往的使用了微透镜阵列的投影曝光型曝光装置中，使用图6所示的调整用基板Ia来进行基板I与掩模4以及微透镜阵列3的位置对准。在掩模4的下表面的未配置有微透镜阵列3的两端部形成有对准标记(alignment mark) 11,在该对准标记11的下方、进而透明的调整用基板Ia的下方配置有摄像机10。而且，在调整用基板Ia上，在与该对准标记11相向的位置设置有透明的台30，在该透明台30上形成有标记31。而且，利用摄像机10进行掩模4和微透镜阵列3相对于调整用基板Ia的定位，以使掩模4的下表面的对准标记11与台30上的标记31在同一视场内一致。这样，在调整用基板Ia处，进行掩模4与基板Ia的位置对准，由此进行生产基板I与掩模4之间的位置调整。现有技术文献 专利文献 专利文献1:日本特开2009 - 277900号公报。
技术实现思路
专利技术要解决的课题 在上述以往的曝光装置中，由于均在掩模4接合有微透镜阵列3，所以微透镜阵列3的微透镜面最接近于基板I的表面。因此，在发生了间隙管理的异常的情况下，首先，微透镜面与基板表面接触，所以对微透镜造成伤痕的可能性极高。此外，微透镜阵列3与基板1(实际为抗蚀剂膜2)之间的距离为约200// m。这样，由于微透镜阵列3与基板I之间的间隔短，所以在利用微透镜阵列3对基板I进行曝光时异物进入到基板I上的情况下，存在由于异物导致对微透镜阵列3造成伤痕的可能性。该微透镜阵列3是微透镜阵列曝光装置中的极其昂贵的部件，此外，当对微透镜阵列3造成伤痕时，只有将其更换成新品的处理方法。因此，迫切需要用于防止异物进入到基板I与微透镜阵列3之间的对策。可是，在以往的曝光装置中，不能防止异物混入到该基板I与微透镜阵列3之间。此外，以往，通过使用调整用基板Ia来进行掩模4与调整用基板Ia的位置对准，从而间接地进行与生产基板I的位置对准，其操作繁杂。本专利技术是鉴于这样的问题而完成的，其目的在于提供一种能够防止异物进入到微透镜阵列与基板之间并能够防止由于基板的异常接近和上述异物导致对微透镜造成伤痕的使用了微透镜阵列的曝光装置和光学构件。用于解决课题的方案 本专利技术提供一种使用了微透镜阵列的曝光装置，其特征在于，具有:基板台，支承曝光对象的透明基板；微透镜阵列，配置在该基板台的上方，形成有多个微透镜；遮光掩模，配置在该微透镜阵列的上方，并被固定于所述微透镜阵列；曝光光源；光学系统，将从该曝光光源射出的曝光光线引导至所述遮光掩模，利用所述微透镜阵列将透射了所述遮光掩模的曝光光线成像于所述基板台上的基板；对准标记台，配置在所述掩模的与所述基板的相向面；对准标记，形成在该对准标记台的与所述基板的相向面；以及标记感测单元，配置在所述透明基板的下方，将透射了所述透明基板的光照射至所述对准标记，在同一视场内感测设置于所述透明基板的基板标记和所述对准标记，所述对准标记台与所述基板的间隔小于所述微透镜与所述基板的间隔。在该曝光装置中，能够构成为所述对准标记台在与所述基板的相向面形成有凹部或阶梯差，所述对准标记形成在所述凹部或阶梯差低的位置。进而，例如，所述微透镜阵列与所述透明基板能相对移动，所述对准标记成对地形成在所述掩模的与所述移动方向正交的方向的两端部。本专利技术提供一种光学构件，其特征在于，具有:微透镜阵列，使曝光光线成像于曝光对象的基板，对所述基板进行曝光；遮光掩模，与该微透镜阵列平行地被固定于所述微透镜阵列；对准标记台，配置在该掩模的配置了所述微透镜阵列的一侧的面的、与所述微透镜阵列相比的靠外侧；以及对准标记，形成于该对准标记台的顶端面，所述对准标记台的顶端面与所述掩模之间的距离大于所述微透镜阵列的顶端面与所述掩模之间的距离。在该光学构件中，能够构成为在所述对准标记台的顶端面形成有凹部或阶梯差，所述对准标记形成在所述凹部或阶梯差低的位置。专利技术效果 根据本专利技术，由于对准标记台最靠近于基板，所以即使发生了间隙管理的异常、或异物侵入基板上，基板或异物接触的也不是微透镜阵列，而是对准标记台。因此，防止由于与基板或异物的接触导致对微透镜阵列造成伤痕。此外，在本专利技术中，不需要在掩模与基板的位置对准中使用调整用基板，能够对生产基板在曝光处理中进行位置对准。附图说明图1是表示本专利技术实施方式的曝光装置的剖面图。图2是表示本专利技术另一实施方式的曝光装置的剖面图。图3是表示掩模的下表面的图。图4是表示以往的曝光装置的图。图5是表示以往的另一曝光装置的剖面图。图6是表示以往的位置对准方法的剖面图。具体实施例方式以下，参照附图对本专利技术的实施方式具体地进行说明。图1是表示本专利技术第一实施方式的使用了微透镜阵列的曝光装置的纵剖面图。透明基板I被输送到合适的基板台(未图示)上，并被该基板台支承。在透明基板I上，例如，形成有光刻用的抗蚀剂膜2，从本实施方式的微透镜曝光装置向该抗蚀剂膜2照射曝光光线本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2010.08.30 JP 2010-1928611.一种使用了微透镜阵列的曝光装置，其特征在于，具有:基板台，支承曝光对象的透明基板；微透镜阵列，配置在该基板台的上方，形成有多个微透镜；遮光掩模，配置在该微透镜阵列的上方，并被固定于所述微透镜阵列；曝光光源；光学系统，将从该曝光光源射出的曝光光线引导至所述遮光掩模，利用所述微透镜阵列将透射了所述遮光掩模的曝光光线成像于所述基板台上的基板；对准标记台，配置在所述掩模的与所述基板的相向面；对准标记，形成在该对准标记台的与所述基板的相向面；以及标记感测单元，配置在所述透明基板的下方，将透射了所述透明基板的光照射至所述对准标记，在同一视场内感测设置于所述透明基板的基板标记和所述对准标记，所述对准标记台与所述基板的间隔小于所述微透镜与所述基板的间隔。2.根据权利要求1所述的使用了微透镜阵列的曝光装...

【专利技术属性】
技术研发人员：水村通伸，新井敏成，
申请(专利权)人：株式会社V技术，
类型：
国别省市：