本发明专利技术涉及一种微带线-共面带状线的宽带过渡结构，包括微带线导带、共面带状线、微带线地板、电路基板，其中微带线导带位于电路基板的正面，共面带状线和微带线地板一体成型位于电路基板的反面；共面带状线和微带线导带立体垂直交叉，形成立体垂直交叉处；微带线导带包括顺次设置的微带线输入输出端口、微带线导带传输段、有限地微带线导带过渡段、立体垂直交叉处、有限地微带线导带开路端；微带线地板设有限地微带线地板过渡段和有限地微带线地板；共面带状线的一端是共面带状线输入输出端口，另一端为共面带状线短路端。微带线共面带状线的宽带过渡结构具有尺寸小、电路结构紧凑、高频插入损耗小的优点。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及微波无源器件
，特别是一种微带线共面带状线的宽带过渡结构。
技术介绍
天线领域中，偶极子天线属于平衡型天线，而偶极子天线需要平衡传输线如共面带状线来馈电。共面带状线是一种平衡的单面传输线，具有尺寸小，易于集成等优点。而目前微波集成电路设计中最常用的信号传输线是微带线，这是一种非平衡传输线，因此我们在设计集成电路系统时必须要进行平衡-不平衡传输线之间的转换。基于这一背景，我们需要设计一种损耗低、尺寸小、微带线共面带状线的宽带过渡结构。已有文献报道了微带线到共面带状线的过渡结构文献I (Y.Qian and T.1toh, A broadband uniplanar microstrip-to-CPStransition, 1997Asia Pacific Microwave Conf. Dig. , 1997 :609-612)运用 T 形节功分器及180度移相器实现了微带线到共面带状线的过渡结构。文献 2(Y._H.Suh and K. Chang, A wideband cop lanar stripline to microstriptransition, IEEE Microwave Wireless Compon. Lett. ,2001(11) :28-29)中微带线到共面带状线的过渡结构是基于场匹配原理实现的。文献3 (W.-H. Tu and K. Chang,ffide-band microstrip-to-coplanar stripline/s lot linetrans it ions, IEEE Trans. Microw. Theory Tech. , 2006 (54) 1084-1089)是运用切比雪夫变换器和四分之一波长扇形匹配短截线实现微带线到共面带状线的过渡结构。(I)文献1， 2，3中提出的三种微带线到共面带状线的过渡结构在高频处的插入损耗较大。(2)文献2，3中微带线到共面带状线的过渡结构由于使用了场匹配段和阻抗匹配段，具有尺寸大的缺点。
技术实现思路
本专利技术的目的是提供一种尺寸小、电路结构紧凑、高频插入损耗小的微带线-共面带状线的宽带过渡结构。实现本专利技术的技术解决方案为一种微带线共面带状线的宽带过渡结构，于包括微带线导带、共面带状线、微带线地板、电路基板，微带线导带和微带线地板形成微带线，其中微带线导带位于电路基板的正面，共面带状线和微带线地板一体成型位于电路基板的反面；共面带状线和微带线导带立体垂直交叉，共面带状线的槽与微带线导带形成立体垂直交叉处。本专利技术微带线共面带状线的宽带过渡结构，所述的微带线导带包括顺次设置的微带线输入输出端口、微带线导带传输段、有限地微带线导带过渡段、立体垂直交叉处、有限地微带线导带开路端；其中微带线导带传输段一端与微带线输入输出端口相连，另一端与有限地微带线导带过渡段相连，宽度与微带线输入输出端口一致；有限地微带线导带过渡段从与微带线导带传输段相连的一端到立体垂直交叉处，且由宽到窄均匀渐变；有限地微带线导带开路端从立体垂直交叉处开始到微带线导带的末端。本专利技术微带线共面带状线的宽带过渡结构，所述的共面带状线位于有限地微带线地板过渡段和有限地微带线地板的中间，并垂直于有限地微带线地板过渡段和有限地微带线地板，共面带状线的一端是共面带状线输入输出端口，经过立体垂直交叉处后的另一端为共面带状线短路端。本专利技术微带线共面带状线的宽带过渡结构，所述的微带线地板在电路基板的反面且沿与微带线导带相同的方向其中微带线地板与有限地微带线导带过渡段垂直对应的部分设为有限地微带线地板过渡段，微带线地板与有限地微带线导带开路端垂直对应的部分设为有限地微带线地板。本专利技术微带线-共面带状线的宽带过渡结构，所述的有限地微带线导带过渡段从微带线导带传输段到立体垂直交叉处由宽到窄均匀渐变，相应的有限地微带线地板过渡段也由宽到窄均匀渐变。本专利技术微带线共面带状线的宽带过渡结构，所述有限地微带线导带开路端及其垂直对应的有限地微带线地板都为矩形，且有限地微带线地板向立体垂直交叉处反方向直线延伸至电路基板的边缘。本专利技术与现有技术相比，其显著优点 (I)本专利技术的交叉区域具有模式转换和阻抗转换的作用，无需使用场匹配段及阻抗匹配段；(2)可以减小结构尺寸，使得电路简洁紧凑；(3)具有闻频插入损耗低的优点。附图说明图1是本专利技术微带线共面带状线的宽带过渡结构的结构示意图。图2是本专利技术微带线共面带状线的宽带过渡结构的实施例1的结构尺寸示意图。图3是本专利技术微带线共面带状线的宽带过渡结构的实施例1的S参数仿真图。具体实施例方式下面结合附图对本专利技术作进一步详细描述。结合图1，电路基板的正面在图中为斜线阴影填充部分，电路基板的反面为点状阴影填充部分。该微带线-共面带状线的宽带过渡结构，包括微带线导带1、共面带状线2、微带线地板3、电路基板4，微带线导带I和微带线地板3形成微带线，其中微带线导带I位于电路基板4的正面，共面带状线2和微带线地板3 —体成型位于电路基板4的反面；共面带状线2和微带线导带I立体垂直交叉，共面带状线2的槽21与微带线导带I形成立体垂直交叉处5。本专利技术微带线共面带状线的宽带过渡结构，所述的微带线导带I包括顺次设置的微带线输入输出端口 10、微带线导带传输段11、有限地微带线导带过渡段12、立体垂直交叉处5、有限地微带线导带开路端13 ;其中微带线导带传输段11 一端与微带线输入输出端口 10相连，另一端与有限地微带线导带过渡段12相连，宽度与微带线输入输出端口 10 —致；有限地微带线导带过渡段12从与微带线导带传输段11相连的一端到立体垂直交叉处5，且由宽到窄均匀渐变；有限地微带线导带开路端13从立体垂直交叉处5开始到微带线导带I的末端。本专利技术微带线共面带状线的宽带过渡结构，所述的共面带状线2位于有限地微带线地板过渡段32和有限地微带线地板33的中间，并垂直于有限地微带线地板过渡段32和有限地微带线地板33，共面带状线2的一端是共面带状线输入输出端口 22，经过立体垂直交叉处5后的另一端为共面带状线短路端23。本专利技术微带线共面带状线的宽带过渡结构，所述的微带线地板3在电路基板4的反面且沿与微带线导带I相同的方向其中微带线地板3与有限地微带线导带过渡段12垂直对应的部分设为有限地微带线地板过渡段32，微带线地板3与有限地微带线导带开路端13垂直对应的部分设为有限地微带线地板33。本专利技术微带线共面带状线的宽带过渡结构，所述的有限地微带线导带过渡段12从微带线导带传输段11到立体垂直交叉处5由宽到窄均匀渐变，相应的有限地微带线地板过渡段32也由宽到窄均匀渐变。本专利技术微带线共面带状线的宽带过渡结构，所述有限地微带线导带开路端13及其垂直对应的有限地微带线地板33都 为矩形，且有限地微带线地板33向立体垂直交叉处5反方向直线延伸至电路基板4的边缘。立体垂直交叉处5靠近微带线导带I的有限地微带线导带开路端13，并靠近共面带状线2的共面带状线短路端23。本专利技术微带线-共面带状线的宽带过渡结构的工作过程如下电磁信号从微带线输入输出端口 10进入微带线1，经过微带线导带传输段11、有限地微带线导带过渡段12到达立体垂直交叉处5，耦合到共面带状线2上，沿着共面带状本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种微带线?共面带状线的宽带过渡结构，其特征在于包括微带线导带(1)、共面带状线(2)、微带线地板(3)、电路基板(4)，微带线导带(1)和微带线地板(3)形成微带线，其中微带线导带(1)位于电路基板(4)的正面，共面带状线(2)和微带线地板(3)一体成型位于电路基板(4)的反面；共面带状线(2)和微带线导带(1)立体垂直交叉，共面带状线(2)的槽(21)与微带线导带(1)形成立体垂直交叉处(5)。
【技术特征摘要】
1.一种微带线-共面带状线的宽带过渡结构，其特征在于包括微带线导带(I)、共面带状线(2)、微带线地板(3)、电路基板(4)，微带线导带(I)和微带线地板(3)形成微带线，其中微带线导带(I)位于电路基板(4)的正面，共面带状线(2)和微带线地板(3) —体成型位于电路基板(4)的反面；共面带状线(2)和微带线导带(I)立体垂直交叉，共面带状线(2)的槽(21)与微带线导带(I)形成立体垂直交叉处(5)。2.根据权利要求1所述的微带线-共面带状线的宽带过渡结构，其特征在于所述的微带线导带(I)包括顺次设置的微带线输入输出端ロ(10)、微带线导带传输段(11)、有限地微带线导带过渡段(12)、立体垂直交叉处(5)、有限地微带线导带开路端(13);其中微带线导带传输段(11) 一端与微带线输入输出端ロ(10)相连，另一端与有限地微带线导带过渡段(12)相连，宽度与微带线输入输出端ロ(10) —致；有限地微带线导带过渡段(12)从与微带线导带传输段(11)相连的一端到立体垂直交叉处(5)，且由宽到窄均匀渐变；有限地微带线导带开路端(13)从立体垂直交叉处(5)开始到微带线导带(I)的末端。3.根据权利要求1所述的微带线-共面带状线的宽带过渡结构，其特征在于所述...
【专利技术属性】
技术研发人员：王建朋，陶子文，赵俊顶，窦艳，徐鑫，
申请(专利权)人：南京理工大学，
类型：发明
国别省市：
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