【技术实现步骤摘要】
一种富集硫中微痕量杂质的装置
本技术涉及一种富集硫中微痕量杂质的装置。
技术介绍
随着电子技术的发展,科研用试剂对硫纯度的要求越来越高。目前,市场上出售的 高纯硫的纯度通常在99. 99% 99. 999%范围内,对高纯硫中杂质元素分析的检测也就成 为了关键技术。目前,对高纯硫中杂质元素的检测多采用电感耦合等离子体-质谱(ICP-MS)法 测定,样品用HClO4溶解后挥发硫基体,使样品中杂质元素得到富集,该方法能够满足纯度 为99. 999% 99. 9999%的高纯硫样品中杂质测定的需要。但由于整个溶解挥发的过程 处于敞开环境,因此需要在超净间完成操作,否则容易带来污染。国家科技支撑计划项目 (2006BAF07802)要求对纯度大于99. 9999%的高纯硫中杂质元素进行分析检测。由于仪器 检出限的限制,在完成这一任务的过程中面临的最大难题就是痕量杂质的浓缩富集。故此, 解决此问题已成为关键。
技术实现思路
本技术的目的是提供一种使用方便且效果好的富集硫中微痕量杂质的装置。为实现上述目的,本技术采取以下设计方案—种富集硫中微痕量杂质的装置,包括一上开口的圆柱形玻璃容器,在上开口处 封有上盖;其特征在于在玻璃容器内置有盛装硫产品及富集载体的敞口容器;玻璃容器 的底部开有侧向燃烧口。所述富集硫中微痕量杂质的装置中,在玻璃容器底部内壁上开有平凹槽;该平凹 槽设在玻璃容器底部内壁上的中间区域。所述富集硫中微痕量杂质的装置的上盖为磨口盖。所述富集硫中微痕量杂质的装置的玻璃容器为石英玻璃容器。本技术该通过分离硫基体、高倍浓缩杂质元素,从而为后续的分析检测 提 ...
【技术保护点】
一种富集硫中微痕量杂质的装置,包括一上开口的圆柱形玻璃容器,在上开口处封有上盖;其特征在于:在玻璃容器内置有盛装硫产品及富集载体的敞口容器;玻璃容器的底部开有侧向燃烧口。
【技术特征摘要】
1.一种富集硫中微痕量杂质的装置,包括一上开口的圆柱形玻璃容器,在上开口处封有上盖;其特征在于在玻璃容器内置有盛装硫产品及富集载体的敞口容器;玻璃容器的底部开有侧向燃烧口。2.根据权利要求1所述的富集硫中微痕量杂质的装置,其特征在于在玻璃容器底壁上开有平凹槽。3.根...
【专利技术属性】
技术研发人员:墨淑敏,孙泽明,刘英,张志刚,李继东,潘元海,王长华,
申请(专利权)人:北京有色金属研究总院,
类型:实用新型
国别省市:
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