珐琅彩瓷用发光釉料及其釉浆制备方法和应用技术

本发明专利技术公开了一种珐琅彩?瓷用发光釉料及其釉浆制备方法和应用，珐琅彩瓷用发光釉料包括珐琅彩瓷基础釉料和发光材料保护釉料，发光材料保护釉料由发光材料保护釉料用熔剂和发光材料混合后复烧制得，发光材料保护釉料用熔剂的组份和重量百分比如下：SiO2：42%~48%，SrO：3~7％，B2O3：15%~21%，Al2O3：0.2%~1.2%，Li2O：3%~7%，Na2O：2%~7%，K2O：1%~3%，金属氟化物：0.6%～3.8%，P2O5：2%~3.5%，Ta2O3：0~0.5%，Nb2O5：0～1%，ZrO2：0～0.5%，CeO2：0～3%，La2O3：0～0.5%，Y2O3：0~2%，ZnO：5%~10%，MgO：0~0.5%。本发明专利技术既能保证发光材料的热稳定性和发光特性从而提高制成的彩瓷经光照后的发光亮度和发光时间，又能保持传统的珐琅彩瓷的各种特征。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种珐琅彩瓷用发光釉料及其釉浆制备方法和应用，属于陶瓷材料

技术介绍
目前，有着悠久历史，被称为“彩瓷皇后”、“官窑中的官窑”的珐琅彩瓷，源于时尚浪漫王国法兰西，源于艺术世家罗丹家族，是康熙朝皇宫中一种独特的彩瓷工艺。它是受欧洲进口的铜胎画珐琅影响而新创的一种瓷器釉上彩装饰技法，是由景泰蓝演变而来，景泰蓝是在铜胎上珐琅釉而成，而珐琅彩瓷是在瓷胎上珐琅釉然后烧制而成，所以珐琅彩瓷又称“瓷胎画珐琅”，虽然珐琅彩有着瓷质细腻、彩料凝重、色泽鲜艳靓丽、画工精致等特点，是艺术陶瓷中最高制作水平的精品，但目前技术制作发光珐琅彩瓷工艺品，具有一定的难度；发光材料在高温时具有的不稳定性也即发光材料在陶瓷釉料使用中的氧化、分解及与釉料成分发生化学反应等而使其失去发光性能。
技术实现思路
本专利技术所要解决的技术问题是克服现有技术的缺陷，提供一种珐琅彩瓷用发光釉料，它既能保证发光材料的热稳定性和发光特性从而提高制成的彩瓷经光照后的发光亮度和发光时间，又能保持传统的珐琅彩瓷的各种特征。本专利技术解决上述技术问题所采取的技术方案是一种珐琅彩瓷用发光釉料，包括珐琅彩瓷基础釉料和发光材料保护釉料，发光材料保护釉料由发光材料保护釉料用熔剂和发光材料混合后复烧制得，其特征 在于，所述的珐琅彩瓷基础釉料的组份和重量百分比如下石英20% 40%，锂云母10% 20%，长石5% 10%，滑石2% 3%，硼砂10% 25%，硼酸6% 12%，碳酸锶3% 10%，氧化锌1% 3%，硅酸锆0 3%，氧化铈O. 1% 3%，三氧化二铝O. 5% 3%，萤石(Γ5%;所述的发光材料保护釉料用熔剂的组份和重量百分比如下=SiO2 :42% 48%，SrO 3% 7% ,B2O3 :15% 21%，Al2O3 0. 2% 1. 2%, Li2O :3% 7%，Na20 :2% 7%，K20 :1% 3%，金属氟化物0.6% 3. 8%, P2O5 :2% 3. 5%, Ta2O3 :0 0· 5%, Nb2O5 0 1%，ZrO2 :0 O. 5%, CeO2 0 3%,La2O3 0 O. 5%，Y2O3 :0 2%，ZnO :5% 10%，MgO :0 0. 5% ;所述的发光材料为碱土金属铝酸盐或碱土金属硫化物。进一步，所述的珐琅彩瓷基础釉料的组份和重量百分比如下石英28% 35%，锂云母15% 18%，长石6% 8%，滑石2. 2% 2. 5%,硼砂15% 21%，硼酸8% 10%，碳酸锶5% 8%，氧化锌1.8% 2. 2%,硅酸锆O. 5 1. 5%,氧化铈O. 8% 2. 6%,三氧化二铝1. 5% 2%，萤石2. 5 4% ;所述的发光材料保护釉料用熔剂的组份和重量百分比如下=SiO2 :43% 46%，SrO 3. 6 6. 2%,B2O3 :16% 20%，Al2O3 0. 4% O. 8%, Li2O :4% 6%，Na20 :3% 5%，K20 :2% 3%，金属氟化物0. 9%~ 2. 8%,P2O5 2%~ 3%,Ta2O3 0. 2% 0· 5%,Nb2O5 0. 6% 1%,ZrO2 O. 2% 0· 5%,CeO2 1. 2% 2. 2%, La2O3 0. 2% 0· 5%, Y2O3 0. 6% 1. 5%, ZnO 6%9% ,MgO 0. 3% O. 5%。进一步，所述的珐琅彩瓷基础釉料和发光材料保护釉料的重量份比为1:1 4 ;发光材料保护釉料由发光材料保护釉料用熔剂和发光材料按照重量比为2I 5的比例混合后高温复烧制得，其中，复烧温度为700° (Γ900。C，高温保温时间30 150分钟。进一步，所述的珐琅彩瓷基础釉料和发光材料保护釉料的重量份比例为1: 2 3;所述的发光材料保护釉料用熔剂和发光材料的重量比例为2 2 3。进一步，所述的金属氟化物为LiF、SrF2、MgF2、CaF2、BaF2、NaF中的一种或多种。进一步，所述的发光材料为SrAl206、CaAl206、BaAl206、ZnS、CaS、CdS中的一种或多种。进一步，在100%的珐琅彩瓷用发光釉料中还加入O. 5°/Γ4%的添加剂，所述的添加剂为气相二氧化硅或超细沉淀二氧化硅或白炭黑或硅溶胶。添加剂的作用是对珐琅彩瓷用发光釉料釉浆进行改性，起到釉浆分散剂、稳定剂和触变剂的作用。本专利技术还提供了一种珐琅彩瓷用发光釉料的釉浆制备工艺，该工艺的步骤如下A :珐琅彩瓷基础釉料的制备(I)取325目或者更细的网筛过筛的石英20% 40%，锂云母10% 20%，长石5% 10%，滑石2% 3%，硼砂10% 25%，硼酸6% 12%，碳酸锶3% 10%，氧化锌1% 3%，硅酸锆0 3%，氧化铈O. 1% 3%，三氧化二铝O. 5% 3%，萤石0 5% ；(2)将上述原料按配方配料混合均匀后，在1250° (Tl380° C熔化，放入冷水中水淬制成珐琅彩瓷基础釉料熔块；(3)将珐琅彩瓷基础釉料熔块装入球磨机中，加水和高铝球石研磨成釉浆，然后经8(Tl00° C烘干，并制成粉末，过250目或更细的网筛得到珐琅彩瓷基础釉料；其中，水、高铝球、珐琅彩瓷基 础釉料熔块的重量比为O. 35 I 1，细度控制在万孔筛余小于O. 03%;B :发光材料保护釉料的制备(I)发光材料保护釉料用熔剂的制备取过325目或者更细的网筛的各物料使其釉料的成分组成为=SiO2 :42% 48%，SrO :3% 7%，B2O3 :15% 21%，Al2O3 0. 2% 1· 2%, Li2O 3% 7%，Na2O :2% 7%，K2O :1% 3%，金属氟化物0. 6% 3. 8%, P2O5 :2% 3. 5%, Ta2O3 :0 0· 5%,Nb2O5 0 1%，ZrO2 0 O. 5%, CeO2 0 3%, La2O3 0 O. 5%, Y2O3 :0 2%，ZnO :5% 10%，Mg0 (TO. 5% ;将上述原料混合均匀后，再在1220°C 1360°C高温熔化，经冷水水淬，烘干后制成发光材料保护釉料熔块；将发光材料保护釉料熔块装入球磨机中，加酒精和高铝球石研磨成釉浆，然后经烘干，并制成粉末，过250目或更细的网筛得到发光材料保护釉料用熔剂；其中，酒精、高铝球和发光材料保护釉料熔块的重量比为O. 30 I I;细度控制在万孔筛余小于O. 03% ；(2)将发光材料保护釉料用熔剂粉末和发光材料粉末按照重量比为2 2 3比例混合均匀后，装入小匣钵里送入推板窑或辊道窑中，在700° (Γ900。C温度下高温复烧30 150分钟，将复烧的物料粗碎后装入球磨机中，加酒精和高铝球石研磨成釉浆，然后经8(T100° C烘干，并制成粉末，过160目 200目的网筛得到发光材料保护釉料；球磨过程中，酒精、高铝球和复烧过的物料的重量比为O. 30 I I ；C :珐琅彩瓷用发光釉料的釉浆制备将A过程制作的珐琅彩瓷基础釉料粉末与B过程制作的发光材料保护釉料粉末按照重量比为1: 2 3的比例混合后制得珐琅彩瓷用发光釉料干粉混合物，将干粉混合物与水按照重量比为1: 2. 2 2. 6的比例混合，再添加比例为干粉混合物重量O. 59Γ4%本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种珐琅彩瓷用发光釉料，包括珐琅彩瓷基础釉料和发光材料保护釉料，发光材料保护釉料由发光材料保护釉料用熔剂和发光材料混合后复烧制得，其特征在于，所述的珐琅彩瓷基础釉料的组份和重量百分比如下：石英20%?~40%，锂云母10%~20%，长石5%~10%，滑石2%~3%，硼砂10%~25%，硼酸6%~12%，碳酸锶3%~10%，氧化锌1%~3%，硅酸锆0~3%，氧化铈0.1%~3%，三氧化二铝0.5%~3%，萤石0~5%；所述的发光材料保护釉料用熔剂的组份和重量百分比如下：SiO2：42%~48%，SrO：3%~7％，B2O3：15%~21%，Al2O3：0.2%~1.2%，Li2O：3%~7%，Na2O：2%~7%，K2O：1%~3%，金属氟化物：0.6%～3.8%，P2O5：2%~3.5%，Ta2O3：0~0.5%，Nb2O5：0～1%，ZrO2：0～0.5%，CeO2：0～3%，La2O3：0～0.5%，Y2O3：0~2%，ZnO：5%~10%，MgO：0~0.5%；所述的发光材料为碱土金属铝酸盐或碱土金属硫化物。

【技术特征摘要】
1.一种珐琅彩瓷用发光釉料，包括珐琅彩瓷基础釉料和发光材料保护釉料，发光材料保护釉料由发光材料保护釉料用熔剂和发光材料混合后复烧制得，其特征在于，所述的珐琅彩瓷基础釉料的组份和重量百分比如下石英20% 40%，锂云母10% 20%，长石5% 10%， 滑石2% 3%，硼砂10% 25%，硼酸6% 12%，碳酸锶3% 10%，氧化锌1% 3%，硅酸锆0 3%，氧化铈O. 1% 3%，三氧化二铝O. 5% 3%，萤石(Γ5% ;所述的发光材料保护釉料用熔剂的组份和重量百分比如下Si02 :42% 48%，SrO :3% 7%，B2O3 :15% 21%，Al2O3 0. 2% 1. 2%, Li2O :3% 7%， Na2O :2% 7%，K20 :1% 3%，金属氟化物0. 6% 3. 8%, P2O5 :2% 3. 5%, Ta2O3 :0 0· 5%, Nb2O5 0 1%，ZrO2 0 O. 5%, CeO2 0 3%, La2O3 0 O. 5%, Y2O3 :0 2%，ZnO :5% 10%，MgO :0 0· 5% ； 所述的发光材料为碱土金属铝酸盐或碱土金属硫化物。2.根据权利要求1所述的珐琅彩瓷用发光釉料，其特征在于所述的珐琅彩瓷基础釉料的组份和重量百分比如下石英28% 35%，锂云母15% 18%，长石6% 8%，滑石2. 2% 2. 5%， 硼砂15% 21%，硼酸8% 10%，碳酸锶5% 8%，氧化锌1. 8% 2. 2%，硅酸锆O. 5% 1· 5%，氧化铈 O. 89Γ2. 6%，三氧化二铝1. 5°/Γ2%，萤石2. 5 4% ;所述的发光材料保护釉料用熔剂的组份和重量百分比如下=SiO2 :43% 46%, SrO 3. 6% 6. 2%，B2O3 :16% 20%, Al2O3 0. 4%~ O. 8%, Li2O :4% 6%，Na20 3%~ 5%, K2O 2%~ 3%，金属氟化物:0· 9% 2. 8%, P2O5 2%~ 3%, Ta2O3 0. 2% 0. 5%, Nb2O5 0. 6% 1%，ZrO2 O. 2% 0. 5%, CeO2 1. 2% 2. 2%, La2O3 O. 2% 0. 5%, Y2O3 0. 6% 1. 5%, ZnO 6% 9%，MgO 0. 3% O. 5%。3.根据权利要求1或2所述的珐琅彩瓷用发光釉料，其特征在于所述的珐琅彩瓷基础釉料和发光材料保护釉料的重量份比为1:1 4;发光材料保护釉料由发光材料保护釉料用熔剂和发光材料按照重量比为2 I 5的比例混合后高温复烧制得，其中，复烧温度为700° C 900° C，高温保温时间30 150分钟。4.根据权利要求3所述的珐琅彩瓷用发光釉料，其特征在于所述的珐琅彩瓷基础釉料和发光材料保护釉料的重量比例为1: 2 3 ;所述的发光材料保护釉料用熔剂和发光材料的重量比例为2 2^3ο5.根据权利要求1或2所述的珐琅彩瓷用发光釉料，其特征在于所述的金属氟化物为 LiF, SrF2、MgF2、CaF2、BaF2、NaF 中的一种或多种。6.根据权利要求1或2所述的珐琅彩瓷用发光釉料，其特征在于所述的发光材料为 SrAl2O6, CaAl2O6' BaAl2O6' ZnS, CaS, CdS 中的一种或多种。7.根据权利要求1或2所述的珐琅彩瓷用发光釉料，其特征在于在100%的珐琅彩瓷用发光釉料中还加入O. 59Γ4%的添加剂，所述的添加剂为气相二氧化硅或超细沉淀二氧化硅或白炭黑或硅溶胶。8.—种如权利要求1所述的珐琅彩瓷用发光釉料的釉浆制备工艺，其特征在于该工艺的步骤如下A :珐琅彩瓷基础釉料...

【专利技术属性】
技术研发人员：易查理，董保生，
申请(专利权)人：醴陵市红玉红瓷陶瓷研究中心，
类型：发明
国别省市：