本发明专利技术公开一种高透高隔热节能防爆膜及其制备工艺，包括一基材层，此基材层一表面磁控溅射有第一金属铟层，此第一金属铟层另一表面磁控溅射有作为隔热层的金属银层或金属铝层，此金属银层或金属铝层另一表面磁控溅射有第二金属铟层；制备一塑料基膜；在步骤一的塑料基膜上磁控溅射沉积作为防氧化保护的第一金属铟层；在第一金属铟层另一表面磁控溅射沉积一隔热层；然后在步骤三的隔热层另一表面磁控溅射沉积第二金属铟层。本发明专利技术防爆膜既有利于将反射和阻隔太阳光线中的红外线，隔热效果显著，又能更好的保护磁控溅射金属层，防止金属氧化，提高和保证了产品的性能和使用寿命，从而可适用于要求更高的场所；本发明专利技术同时提供上述高透高隔热节能防爆膜的制备工艺。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种高透高隔热节能防爆膜及其制备工艺，属于胶粘材料
技术介绍
磁控溅射镀膜玻璃自上世纪80年代进入国内建筑玻璃市场以来，已经有30多年了。国内引进镀膜玻璃生产线40多条自主设计、制造小型连续生产线多条。有很多科研院所和镀膜玻璃设备制造厂家，以及镀膜玻璃生产一线的技术人员，都从不同层次、不同角度、不同需求，对镀膜玻璃生产的工艺、技术、控制等等各方面不断地进行研究和探索。磁控溅射的工艺原理在充入少量工艺气体的真空室内，当极间电压很小时，只有少量离子和电子存在，电流密度在l(Tl5A/cm2数量级，当阴极(祀材)和阳极间电压增加时，带电离子在电场的作用下加速运动，能量增加，与电极或中性气体原子相碰撞，产生更多的带电离子，直至电流达到l(T6A/cm2数量级；当电压再增加时，则会产生负阻效应，即〃雪崩现象。此时离子轰击阴极，击出阴极原子和二次电子，二次电子与中性原子碰撞，产生更多离子，此离子再轰击阴极，又产生二次电子，周而复始。当电流密度达到O.OlA/cm2数量级左右时，电流将随电压的增加而增加，形成高密度等离子体的异常辉光放电，高能量的离子轰击阴极(靶材)产生溅射现象。溅射出来的高能量靶材粒子沉积到阳极(玻璃毛坯)上，从而达到镀膜的目的。在磁场的作用下，电子在向阳极运动的过程中，作螺旋运动，束缚和延长了电子的运动轨迹，从而提高了电子对工艺气体的电离几率，有效地利用了电子的能量，因而在形成高密度等离子体的异常辉光放电中，正离子对靶材轰击所引起的靶材溅射更加有效。同时受正交电磁场的束缚，电子只有在其能量消耗殆尽时才能落玻璃毛坯上，从而使磁控溅射具有高速、低温的优点。目前建筑物和一般场所使用的玻璃以及汽车车身上使用的玻璃一般都是单纯的玻璃，单纯的玻璃虽然具有透光度好，便于观察外界情况和便于驾驶员观察道路交通情况以及车内乘坐人员观察车外的情况，一方面，但玻璃外面的太阳光和其它光线往往会影响玻璃内面人员和汽车驾驶员的眼睛和视觉；另一方面，玻璃外面的阳光会透过玻璃晒热玻璃内面和汽车内部，使玻璃内面和汽车内部温度增高，更为严重的是当发生意外而导致玻璃破碎时，破碎的玻璃飞散会伤害周边人员，因此，玻璃后面和汽车内往往安装布帘，以遮挡阳光和隔热，目前则采用粘贴塑料薄膜的方法，但是在隔热性能上本领域技术人员未能给予足够的重视。因此，如何提高隔热效率，又能保证很高的可见光的透过率，以达到既节能又高透明是本领域技术人员努力的方向。同时，在柔性基材(塑料薄膜)磁控溅射生产高透明高隔热的防爆膜也是本领域技术人员努力的方向。
技术实现思路
本专利技术目的是提供一种高透高隔热节能防爆膜，该防爆膜既有利于将反射和阻隔太阳光线中的红外线，隔热效果显著，又能更好的保护磁控溅射金属层，防止金属氧化，提高和保证了产品的性能和使用寿命，从而可适用于要求更高的场所；本专利技术同时提供上述高透高隔热节能防爆膜的制备工艺。为达到上述目的，本专利技术采用的第一种技术方案是一种高透高隔热节能防爆膜，包括一基材层，此基材层一表面磁控派射有第一金属铟层，此金属铟层另一表面磁控派射有作为隔热层的金属银层或金属铝层，此金属银层或金属铝层另一表面磁控溅射有第二金属铟层；所述第一金属铟层厚度为2 15nm，所述金属银层或金属铝层厚度为8 55nm，所述第二金属铟层5 20nm。上述技术方案中进一步改进的方案如下1、上述方案中，所述基材层磁控溅射前在15(T16(TC下进行预热收缩处理。2、上述方案中，所述塑料基膜和第一金属铟层之间涂覆有厚度为0.5飞μπι丙烯酸乳液层。3、上述方案中，所述基材层厚度为12 75 μ m。4、上述方案中，所述基材层为聚酯薄膜层或聚甲基丙烯酸甲酯薄膜层或聚丙烯薄膜层或聚酰胺薄膜层。为达到上述目的，本专利技术采用的第二种技术方案是一种上述高透高隔热节能防爆膜的制备工艺，包括以下步骤步骤一、制备一塑料基膜，为聚酯薄膜或者是聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)薄膜或聚丙烯(PP)薄膜或聚酰胺(PA)薄膜，厚度为12 75 μ m，所述塑料基膜为热稳定性塑料基膜；步骤二、在步骤一的塑料基膜上磁控溅射沉积作为防氧化保护的第一金属铟层，工艺条件为采用纯度为99. 99%的铟( n)的靶材，尺寸为都为1600X300X 100mm，，溅射气体为99. 999%的高纯氩气，腔 体内部的真空度为6.1 X 10_4Pa，工作压力设为O. 7 Pa，靶材距离固定在75 mm，氩气的流量为22 sccm ;铟(In)的溅射功率都是40W，溅射速率分别4. Onm/min,第一金属铟层厚度为2 nm到15nm ；步骤三、在第一金属铟层另一表面磁控溅射沉积一隔热层，此隔热层金属银层或金属铝层；工艺条件为银的靶材尺寸为1600X300X100 mm，纯度为99. 99%，溅射气体为99. 999%高纯氩气，腔体内部的真空度为6.1 X10_4Pa，工作压力设为O. 7 Pa，靶材距离固定在75 mm，氩气的流量为22SCCm，银靶材溅射功率是40W，溅射速率为6.4 nm/min，所述隔热层厚度为8到55nm ；步骤四、然后在步骤三的隔热层另一表面磁控溅射沉积第二金属铟层，工艺条件为靶材尺寸为都为1600 X 300 X 100 mm,纯度为99. 99%，溅射气体为99. 999%的高纯氩气，腔体内部的真空度为6. lX10_4Pa，工作压力设为O. 7 Pa，靶材距离固定在75mm，氩气的流量为22sCCm，铟的溅射功率都是40 W，溅射速率分别4. Onm/min,所述第二金属铟层厚度为5 20nmo上述技术方案中进一步改进的方案如下1、上述方案中，在所述步骤四中第二金属铟层溅射前，先对铟靶材进行5min的预溅射，以除去靶表面残留的氧化物和污染物。2、上述方案中，所述隔热层为金属铝层，此金属铝层厚度为2(T50nm。3、上述方案中，所述步骤一和步骤二之间在所述塑料基膜上预涂丙烯酸乳液层，此其厚度为O. 5 5. O μ m。4、上述方案中，所述步骤一的塑料基膜在15(T160°C下进行预热收缩处理。由于上述技术方案运用，本专利技术与现有技术相比具有下列优点和效果1、本专利技术高透高隔热节能防爆膜，其基材层一表面磁控溅射有第一金属铟层，此金属铟层另一表面磁控溅射有作为隔热层的金属银层或金属铝层，此金属银层或金属铝层另一表面磁控溅射有第二金属铟层，所述第一金属铟层厚度为2 15nm，所述金属银层或金属铝层厚度为8 55nm，所述第二金属铟层5 20nm，既有利于将磁控溅射金属层可以反射和阻隔太阳光线中的红外线，隔热效果显著，又能更好的保护磁控溅射金属层，防止金属氧化，提高和保证了产品的性能和使用寿命，从而可适用于要求更高的场所。2、本专利技术塑料基膜在15(T160°C下进行预热收缩处理，提高了塑料基膜的分子取向，同时，提高塑料基膜结晶度和完善晶格结构，从而提高了塑料基膜热稳定性，具体数据，普通塑料基膜的热收缩一般是Γ3%，避免了塑料基膜在磁控溅射时热收缩和变形，大大提闻了广品的。3、本专利技术塑料基膜和第一金属铟层之间涂覆有丙烯酸乳液层，塑料基膜与磁控溅射的金属层具有更好的附着力，且产品具有更高的可见光透过率，具体数据如下普通塑料基膜的可见光透过率88、0% (在38(Γ7本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种高透高隔热节能防爆膜，其特征在于：包括一基材层（1），此基材层（1）一表面磁控溅射有第一金属铟层（2），此第一金属铟层（2）另一表面磁控溅射有作为隔热层的金属银层（31）或金属铝层（32），此金属银层（31）或金属铝层（32）另一表面磁控溅射有第二金属铟层（4）；所述第一金属铟层厚度为2~15nm，所述金属银层或金属铝层厚度为8~55nm，所述第二金属铟层5~20nm。
【技术特征摘要】
1.一种高透高隔热节能防爆膜，其特征在于包括一基材层(1)，此基材层(I)一表面磁控溅射有第一金属铟层(2)，此第一金属铟层(2)另一表面磁控溅射有作为隔热层的金属银层(31)或金属铝层(32)，此金属银层(31)或金属铝层(32)另一表面磁控溅射有第二金属铟层(4);所述第一金属铟层厚度为2 15nm，所述金属银层或金属铝层厚度为8 55nm，所述第二金属铟层5 20nm。2.根据权利要求1所述的高透高隔热节能防爆膜，其特征在于所述基材层磁控溅射前在15(Tl60°C下进行预热收缩处理。3.根据权利要求1所述的高透高隔热节能防爆膜，其特征在于所述塑料基膜和第一金属铟层之间涂覆有厚度为0. 5飞u m丙烯酸乳液层。4.根据权利要求1所述的高透高隔热节能防爆膜，其特征在于所述基材层厚度为12 75 u m05.根据权利要求1所述的高透高隔热节能防爆膜，其特征在于所述基材层为聚酯薄膜层或聚甲基丙烯酸甲酯薄膜层或聚丙烯薄膜层或聚酰胺薄膜层。6.—种权利要求1所述高透高隔热节能防爆膜的制备工艺，其特征在于包括以下步骤 步骤一、制备一塑料基膜，为聚酯薄膜或者是聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)薄膜或聚丙烯(PP)薄膜或聚酰胺(PA)薄膜，厚度为12 75 u m，所述塑料基膜为热稳定性塑料基膜； 步骤二、在步骤一的塑料基膜上磁控溅射沉积作为防氧化保护的第一金属铟层，工艺条件为采用纯度为99. 99%的铟(In)的靶材，尺寸为都为1600X300X 100mm，溅射气体为99. 999%的高纯氩气，腔体内部的真空度为6.1X 10_4Pa，工作压力设为0. 7 Pa，靶材距离固定在75mm，氩气的流量为22 sccm...
【专利技术属性】
技术研发人员：金闯，杨晓明，
申请(专利权)人：斯迪克新型材料江苏有限公司，
类型：发明
国别省市：
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