带纹理结构的薄膜及其制造方法技术

本发明专利技术公开了一种薄膜，涉及一种带纹理结构的薄膜，主要由薄膜本体组成，在该薄膜本体的至少一个表面上设有纹理结构（2），所述薄膜本体包括高分子材料制成的复合结构层（1）。同时本发明专利技术还涉及一种带纹理结构的薄膜的制造方法，包括以下步骤：（1）制造带纹理结构的薄膜母模模板，同时制造薄膜子模；（2）将薄膜子模与薄膜母模模板同时放卷并同步卷入两个辊筒之间，在两个辊筒的相互挤压力下将薄膜母模模板上的纹理结构印制在薄膜子模上；（3）对薄膜子模定型后收卷。本发明专利技术的带纹理结构的薄膜的制备方法中的薄膜母模模板可以多次重复使用，从而提高了制作薄膜母模模板的模具的利用率，因此延长了模具的使用寿命，即可降低成本。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种薄膜，尤其涉及一种。
技术介绍
带纹理结构的薄膜因其独特的微结构和丰富的功能色彩，可用于制作产品的铭牌、装饰膜以及电子产品内部作特殊用途的各类带纹理结构并具有光学功能的薄膜等，因此其使用非常的广泛。如起导光用微结构、起扩散光用微结构、起反光用结构、起偏光用结构、起增亮结构、起聚光结构、起抗划伤结构、起耐磨结构、起砂粒结构、起拉丝效果结构、起立体结构、起突起雾化结构等。目前使用的带纹理结构的薄膜通常存在结构复杂，其结构转移复制完整性不好，结构复制精度及转移率未完全达到要求、生产效率低、生产工艺复杂、生产成本高昂等不足处。例如使用模板直接模压法和带纹理的辊筒在线转移法对模具污染严重，污染物不易清理，且模具磨损较快，从而随着在线生产时间的一定增长，制品对模板表面结构复制精度及转移率会严重下降，产品的优良率无法得以保证，因而导致生产成本昂贵，其使用范围受到了极大地限制；而使用激光或化学刻蚀法生产带纹理结构薄膜除了技术难度及成本高之外，还容易造成环境污染，也为带纹理结构薄膜的推广应用造成了极大地困难。随着各种带纹理结构薄膜的广泛应用，如何克服纹理结构转移复制精度及转移效率，如何满足长期连续生产需求，简化生产工艺，降低产品的生产成本，成为带纹理结构薄膜研究工作者致力解决的技术问题之一。
技术实现思路
本专利技术的目的在于克服目前使用的带纹理结构的薄膜结构复杂，生产成本高且质量差的缺陷，提供一种改进型的带纹理结构的薄膜，同时，还提供带纹理结构的薄膜的制造方法。本专利技术的目的通过下述技术方案实现带纹理结构的薄膜，主要由薄膜本体组成，在该薄膜本体的至少一个表面上设有纹理结构，所述薄膜本体包括高分子材料制成的复合结构层。为了便于保护复合结构层，所述薄膜本体还包括设置在复合结构层上的防护层。所述防护层为一层，且该防护层为增强层或透明复合层。进一步的，所述防护层为两层，所述两层防护层均为增强层或透明复合层，且该两层防护层分别设置在复合结构层的上、下两个表面上；或者，所述两层防护层分别为增强层和透明复合层。再进一步的，所述防护层为三层，且其中两层防护层设置在复合结构层的一个表面上，另一层防护层则设置在复合结构层的另一个表面上；同时，设置在复合结构层的同一个表面上的两层防护层分别为增强层和透明复合层。更进一步的，所述防护层为四层，且其中两层防护层设置在复合结构层的上表面上，另两层防护层则设置在复合结构层的下表面上；同时，设置在复合结构层的同一个表面上的两层防护层分别为增强层和透明复合层。为了更好地实现本专利技术，所述高分子材料为工程塑料。为了满足不同用户的使用需要，在所述高分子材料中还添加有添加剂，所述添加齐U为抗氧剂、抗紫外吸收剂、抗冲改性剂、阻燃剂、抗静电剂、功能剂、分散剂、着色料中的一种或几种。带纹理结构的薄膜的制造方法，包括以下步骤(I)制造带纹理结构的薄膜母模模板，同时制造薄膜子模；(2)将薄膜母模模板放卷入两个辊筒之间，并将薄膜子模也放卷入两个辊筒之间，在两个辊筒的相互挤压力下将薄膜母模模板上的纹理结构印制在薄膜子模上；(3)将印制有纹理结构的薄膜子模产品定型后收卷。为了确保效果，所述薄膜子模通过将高分子原材料充分干燥后经挤出机塑化挤出制成。本专利技术较现有技术相比，具有以下优点及有益效果(I)本专利技术的复合结构层上设有增强层，该增强层可以有效的保护复合结构层，以防止外界硬物对复合结构层造成损伤。(2)本专利技术的复合结构层上还设有透明复合层，该透明复合层不仅可以保护复合结构层不被外界硬物损伤，还便于设置纹理结构，同时还能增强本专利技术的整体美感。(3)本专利技术制备带纹理结构的薄膜的高分子材料中添加有添加剂，具体为抗氧剂、抗紫外吸收剂、抗冲改性剂、阻燃剂、抗静电剂、功能剂、分散剂、着色料中的一种，因此便于根据客户的使用需要添加不同的添加剂，从而制备出不同类型的产品，以便于满足不同客户的使用需要。(4)本专利技术的带纹理结构的薄膜的制备方法中的薄膜母模模板可以多次重复使用，从而提高了制作薄膜母模模板的的模具的利用率，因此延长了模具的使用寿命，即可降低成本。(5)本专利技术的制造方法是通过辊筒挤压将薄膜母模模板上的纹理结构印制在薄膜子模上，从而制得带纹理结构的薄膜，在制备过程中仅在制备薄膜母模模板时需要使用传统的制备方法制成纹理结构，而薄膜母模模板可以重复使用多次，因此可以在很大程度上避免使用传统的模板直接模压和带纹理的辊筒在线转移法等制备方法时造成的模具污染严重、模具磨损较快；而使用传统的激光或化学刻蚀法时技术难度较大且成本较高，还容易造成环境污染。本专利技术的制造方法在克服了传统的制造方法存在缺陷的同时，还提高了生产效率以及产品质量。附图说明图1为本专利技术的纹理结构设置在复合结构层的上表面上时的结构示意图。图2为本专利技术的纹理结构设置在复合结构层的下表面上时的结构示意图。图3为本专利技术的纹理结构设置在复合结构层的上、下两个表面上时的结构示意图。图4为本专利技术的薄膜本体包括从上至下依次为透明复合层、复合结构层时的结构示意图。图5为本专利技术的薄膜本体包括从上至下依次为复合结构层、透明复合层时的结构示意图。图6为本专利技术的薄膜本体包括从上至下依次为增强层、复合结构层时的结构示意图。图7为本专利技术的薄膜本体包括从上至下依次为复合结构层、增强层时的结构示意图。图8为本专利技术的薄膜本体包括从上至下依次为增强层、复合结构层、增强层时结构示意图。图9为本专利技术的薄膜本体包括从上至下依次为透明复合层、复合结构层、透明复合层时结构示意图。图10为本专利技术的薄膜本体包括从上至下依次为透明复合层、复合结构层、增强层时的结构示意图。图11为本专利技术的薄膜本体包括从上至下依次为增强层、复合结构层、透明复合层时的结构示意图。图12为本专利技术的薄膜本体包括从上至下依次为透明复合层、增强层、复合结构层时的结构示意图。图13为本专利技术的薄膜本体包括从上至下依次为增强层、透明复合层、复合结构层时的结构示意图。图14为本专利技术的薄膜本体包括从上至下依次为复合结构层、透明复合层、增强层时的结构示意图。图15为本专利技术的薄膜本体包括从上至下依次为复合结构层、增强层、透明复合层时的结构示意图。图16为本专利技术的薄膜本体包括从上至下依次为增强层、复合结构层、增强层、透明复合层时的结构示意图。图17为本专利技术的薄膜本体包括从上至下依次为增强层、复合结构层、透明复合层、增强层时的结构示意图。图18为本专利技术的薄膜本体包括从上至下依次为透明复合层、复合结构层、透明复合层、增强层时的结构示意图。图19为本专利技术的薄膜本体包括从上至下依次为透明复合层、复合结构层、增强层、透明复合层时的结构示意图。图20为本专利技术的薄膜本体包括从上至下依次为增强层、透明复合层、复合结构层、增强层时的结构示意图。图21为本专利技术的薄膜本体包括从上至下依次为透明复合层、增强层、复合结构层、增强层时的结构示意图。图22为本专利技术的薄膜本体包括从上至下依次为增强层、透明复合层、复合结构层、透明复合层时的结构示意图。图23为本专利技术的薄膜本体包括从上至下依次为透明复合层、增强层、复合结构层、透明复合层时的结构示意图。图24为本专利技术的薄膜本体包括从上至下依次为增强层、透明复合层、复合结构层、增强层、透明复合层时的结构示意图。图25为本专利技术的薄膜本体包括从上至下本文档来自技高网...

【技术保护点】
带纹理结构的薄膜，主要由薄膜本体组成，在该薄膜本体的至少一个表面上设有纹理结构（2），其特征在于：所述薄膜本体包括高分子材料制成的复合结构层（1）。

【技术特征摘要】
1.带纹理结构的薄膜，主要由薄膜本体组成，在该薄膜本体的至少一个表面上设有纹理结构(2)，其特征在于所述薄膜本体包括高分子材料制成的复合结构层(I )。2.按照权利要求1所述的带纹理结构的薄膜，其特征在于所述薄膜本体还包括设置在复合结构层(I)上的防护层。3.按照权利要求2所述的带纹理结构的薄膜，其特征在于所述防护层为一层，且该防护层为增强层(3)或透明复合层(4)。4.按照权利要求2所述的带纹理结构的薄膜，其特征在于所述防护层为两层，所述两层防护层均为增强层(3)或透明复合层(4)，且该两层防护层分别设置在复合结构层(I)的上、下两个表面上；或者，所述两层防护层分别为增强层(3)和透明复合层(4)。5.按照权利要求2所述的带纹理结构的薄膜，其特征在于所述防护层为三层，且其中两层防护层设置在复合结构层(I)的一个表面上，另一层防护层则设置在复合结构层(I)的另一个表面上；同时，设置在复合结构层(I)的同一个表面上的两层防护层分别为增强层(3)和透明复合层(4)。6.按照权利要求2所述的带纹理结构的薄膜，其特征在...

【专利技术属性】
技术研发人员：刁锐敏，
申请(专利权)人：绵阳龙华薄膜有限公司，
类型：发明
国别省市：