一种芍药切花槽式无土栽培方法技术

技术编号:8555522 阅读:256 留言:0更新日期:2013-04-10 11:51
本发明专利技术公开了一种芍药切花槽式无土栽培方法,其改变了以往芍药大田地栽的生产模式,采用槽式无土栽培,并提供了配套的环境调控和施肥方法。采用该栽培方法进行切花生产,芍药品种‘紫凤羽’开花率达80%以上,花枝长度达75cm,开花5-6朵/株。其中开花率比盆栽提高80%,花枝长度比盆栽增加25.2%,切花产量和品质均得到提高。此外,芍药品种‘紫凤羽’在该栽培模式下病虫害及杂草相比大田地栽明显减少,开花率比大田地栽提高7.9%,花期比大田地栽提前15-22天。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于植物栽培领域,涉及。
技术介绍
芍药(Paeonia lactiflora Pal1.)为我国传统名花,栽培历史悠久,其花型丰富, 色泽艳丽,不仅深受我国消费者的喜爱,同时在世界商品花卉领域里也占有一席之地。目前芍药栽培多以露地为主,花期集中于5-6月,难以满足其他季节用花需求,此外,大田地栽容易引发芍药土传病害,其切花品质易受影响。采用园土盆栽的方式也有研究,该模式因盆器容积有限,故芍药根系生长空间受到限制,从而导致芍药根系生长不良, 进而影响植株生长,最终导致开花率严重降低。因此,为实现芍药切花产业化生产,其栽培丰吴式有待进一步探索和研究。槽式无土栽培模式在其他花卉生产及农作物栽培领域中已有应用,目前常见的种植槽主要可分为三类一类是开挖简易地下土槽,内铺聚乙烯塑料布,将土壤和基质隔离; 一类是采用砖砌槽,内铺聚乙烯塑料布;另一类是采用PVC或泡沫板等材质进一步加工制造而成的种植槽。简易地下土槽和砖砌槽都采用聚乙烯塑料布隔离基质和土壤,此种植槽不利于基质和土壤之间进行气体和水分交换,基质的透气性和浙水性难以保证,而芍药为肉质根、怕积水,采用塑料布隔离基质和土壤的方法并不适合于芍药栽培。砖砌槽不仅增加成本,且一般为地上垒槽,无需使用时依然占用一定的空间和场地。采用PVC或泡沫板等其他材质加工而成的种植槽,底部一般需要机器打孔,板材之间需要粘合剂加工,做工更加精细,故而成本价格更高,并且此类材质不利于基质的透气、浙水,因此,此类种植槽也不适合芍药切花栽培生产。另外,目前为止,还没有芍药切花槽式栽培相配套的环境调控和施肥方法。
技术实现思路
为了解决上述问题,本专利技术提供一种建造简便易行、成本低廉的针对芍药切花生产的槽式无土栽培方法。本专利技术提供的芍药切花槽式无土栽培方法,包括如下步骤大棚内 开挖下凹式土槽作为种植槽,对槽底及侧面进行消毒处理,槽底与侧面铺无纺布,槽底无纺布上铺陶粒作为浙水层,槽内装填无土栽培基质;2)秋季槽内单行种植切花芍药,使其在自然环境下接受低温,待平均日气温降至 (TC以下的1-2月,用草帘覆盖植株,以免植株受冻害;室外平均气温达到0°C -5°c,用薄膜覆盖温室,进行日光加温;覆膜后5-7天,撤去覆盖草帘;之后每隔3-4天早晚通风,将温室温度控制在22°C -25°C ;至室外平均气温达到10°C _15°C,每日进行通风处理;待室外温度达到22-25°C时,拆除温室薄膜;3)配套施肥方法于芍药萌芽开始,施用N、P、K质量百分比分别为20% 20% 20% 的的水溶性复合肥,每隔7-10天施用一次,施肥浓度为1. 5g/L,施肥量为IL/株·次;芍药花期过后,每隔I个月施用一次,施肥浓度为3. Og/L,施肥量为IL/株·次,施用3次。在本专利技术的一个实施方案中,对种植槽底部及侧面进行消毒处理,具体步骤为用 70%的代森锰锌800-1000倍喷洒2遍,晾干后再次喷洒I遍。在本专利技术另一个实施方案中,种植槽底部及侧面铺100g/m2的无纺布,将土壤和基质隔开。在本专利技术另一个实施方案中,在底部铺5-8cm厚的陶粒作为浙水层,陶粒粒径为1.0-3. 5cm。在本专利技术另一个实施方案中,草炭蛭石珍珠岩体积比3 1 1混合作为无土栽培基质,基质中混合鸡粪,基质与鸡粪的体积比为9:1,装填基质的厚度为35-38cm。其中,所述薄膜为厚O. 1_、透光率为95%的PEP利得膜。本专利技术的切花芍药栽培方法非常适合‘紫凤羽’的切花生产。本专利技术设计的种植槽建造简便易行、成本低廉,种植槽尺寸及间距设计符合芍药的根系和冠幅的常规大小。种植槽经过消毒处理,能明显减少病虫害的发生。采用无纺布代替聚乙烯塑料布,既能隔离基质和土壤,又能保证基质和土壤之间进行气体和水分交换。 种植槽底部铺5-8cm厚的陶粒作为浙水层,能有效防止积水,预防烂根现象的发生。本专利技术提供的环境控制以及施肥方法,非常适于芍药的切花生产。采用该栽培模式进行切花生产,芍药品种‘紫凤羽’开花率达80%以上,花枝长度达75cm,开花5-6朵/株。 其中开花率比盆栽提高80%,花枝长度比盆栽增加25. 2%,切花产量和品质均得到提高。此外,芍药品种‘紫凤羽’在该栽培模式下病虫害及杂草相比大田地栽明显减少,开花率比大田地栽提高7. 9%,花期比大田地栽提前15-22天。附图说明图1所示为本专利技术种植槽剖面图。其中,I为无纺布;2为无土栽培基质;3为土壤; 4为浙水层。具体实施方式以下实施例用于说明本专利技术,但不用来限制本专利技术的范围。实施例12011年9月28日,选取3年生芍药品种‘紫凤羽’栽植于种植槽中,要求大小一致、生长健壮、无病虫害,芽数为6-8个/株。1、种植槽处理方式如下I)种植槽采用开挖长、宽、高分别为15m,50cm,45cm的下凹式土槽,槽底及侧面均需要消毒处理,底部与侧面铺无纺布,下铺5cm厚的陶粒作为浙水层,内装35cm高的基质。 槽间距50cm。槽内单行种植芍药,株距50cm,示意图见图1。2)种植槽内装基质配比按照草炭蛭石珍珠岩体积比3:1:1混合作为无土栽培基质。基质中混合鸡粪,基质与鸡粪的体积比为9:1。3)对种植槽底部及侧面进行消毒处理,具体步骤为用70%的代森锰锌800-1000 倍喷洒2遍,晾干后再次喷洒I遍。4)种植槽底部及侧面铺100g/m2的绿化无纺布,将土壤和基质隔开,在底部铺5cm厚的陶粒作为浙水层,陶粒粒径为1. 0-3. 5cm。2、环境控制秋季芍药栽植置于无覆盖的温室大棚种植槽内,使其在自然环境下接受低温,待平均日气温降至(TC以下的1-2月,用草帘覆盖植株,以免植株受冻害。于2月上旬,室外平均气温达到0°C _5°C,采用厚O. 1mm、透光率为95%的PEP利得膜覆盖温室,进行日光加温。覆膜后5-7天,撤去覆盖草帘。之后每隔3-4天,于上午9:00-10:00至下午 15:00-16:00打开通风口通风,将温度控制在22°C _25°C。随着日平均气温逐渐升高,通风频率逐渐增大,于4月初开始,室外平均气温达到10°C _15°C,需每日进行通风处理。待室外温度达到22-25°C时,拆除温室薄膜。3、施肥方式如下于芍药萌芽开始,施用N、P、K质量百分比分别为20% 20% 20%的的水溶性复合肥,每隔7-10天施用一次,施肥浓度为1. 5g/L,施肥量为IL/株·次。芍药花期过后,每隔 I个月施用一次,施肥浓度为3. Og/L,施肥量为IL/株·次,总共施3次。4、对照组 I)盆栽对照,上口径35cm,下口径24cm,高30cm的塑料盆,内装普通园土,高25cm。盆栽对照与槽栽模式均置于相同生长环境下,采用相同的施肥方法。2)大田地栽对照,土壤为砂质壤土,pH为7. O。通过采用槽式无土栽培模式进行切花生产,芍药品种‘紫凤羽’开花率达80%以上,花枝长度达75cm,开花5-6朵/株。其中开花率比盆栽提高80%,花枝长度比盆栽增加 25. 2%,切花产量和品质均得到提高。此外,采用槽式无土栽培模式进行切花生产,芍药品种 ‘紫凤羽’病虫害及杂草相比大田地栽明显减少,开花率比大田地栽提高7. 9%,花期比大田地栽提前15-22天。 以上所述仅是本专利技术的优选实施方式,应当指出,对于本
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【技术保护点】
一种芍药切花槽式无土栽培方法,其特征在于:1)大棚内开挖下凹式土槽作为种植槽,对槽底及侧面进行消毒处理,槽底与侧面铺无纺布,槽底无纺布上铺陶粒作为沥水层,槽内装填无土栽培基质;2)秋季槽内单行种植切花芍药,使其在自然环境下接受低温,待平均日气温降至0℃以下的1?2月,用草帘覆盖植株,以免植株受冻害;室外平均气温达到0℃?5℃,用薄膜覆盖温室,进行日光加温;覆膜后5?7天,撤去覆盖草帘;之后每隔3?4天早晚通风,将温室温度控制在22℃?25℃;至室外平均气温达到10℃?15℃,每日进行通风处理;待室外温度达到22?25℃时,拆除温室薄膜;3)配套施肥方法:于芍药萌芽开始,施用N、P、K质量百分比分别为20%:20%:20%的的水溶性复合肥,每隔7?10天施用一次,施肥浓度为1.5g/L,施肥量为1L/株·次;芍药花期过后,每隔1个月施用一次,施肥浓度为3.0g/L,施肥量为1L/株·次,施用3次。

【技术特征摘要】
1.一种芍药切花槽式无土栽培方法,其特征在于 1)大棚内开挖下凹式土槽作为种植槽,对槽底及侧面进行消毒处理,槽底与侧面铺无纺布,槽底无纺布上铺陶粒作为浙水层,槽内装填无土栽培基质; 2)秋季槽内单行种植切花芍药,使其在自然环境下接受低温,待平均日气温降至0°C以下的1-2月,用草帘覆盖植株,以免植株受冻害;室外平均气温达到0°C _5°C,用薄膜覆盖温室,进行日光加温;覆膜后5-7天,撤去覆盖草帘;之后每隔3-4天早晚通风,将温室温度控制在22°C -25°C ;至室外平均气温达到10°C _15°C,每日进行通风处理;待室外温度达到22-25 °C时,拆除温室薄膜; 3)配套施肥方法于芍药萌芽开始,施用N、P、K质量百分比分别为20%20% 20%的的水溶性复合肥,每隔7-10天施用一次,施肥浓度为1. 5g/L,施肥量为IL/株·次;芍药花期过后,每隔I个月施用一次,施肥浓度为3. Og/L...

【专利技术属性】
技术研发人员:刘燕贾清华韩婧刘利刚黄国京甄宏宇
申请(专利权)人:北京林业大学
类型:发明
国别省市:

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