本发明专利技术提供不含氧化铅和碱金属氧化物、玻璃化转变温度为530℃以下且具备耐酸性的特性的玻璃组合物及使用该玻璃组合物的光提取构件。本发明专利技术涉及一种无碱保护玻璃组合物，其实质上不含氧化铅和碱金属氧化物，折射率(nd)为1.7以上且2.3以下，玻璃化转变温度为530℃以下，并且通过酸浸渍重量减少测定法测定的溶解深度小于1.3μm，以基于氧化物的摩尔%计含有8~25%的Nb2O5。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及不含氧化铅和碱金属氧化物、折射率高、玻璃化转变温度为530°C以下且具备耐酸性的特性的玻璃组合物及使用该玻璃组合物的光提取构件。
技术介绍
以往，专利文献I中记载的玻璃组成需要含有以基于氧化物重量计为13 21%的 Ge02。专利文献2中记载的玻璃组成需要含有碱金属氧化物。现有技术文献专利文献专利文献1:日本特开2007-119343号公报专利文献2 :国际公开号2009/017035号
技术实现思路
专利技术所要解决的问题但是,专利文献I和2的玻璃由于含有碱金属，因此存在会引起碱金属迁移的问题。但是，专利文献I中记载的玻璃组成需要含有GeO2, GeO2为稀有材料，存在资源枯竭的问题和成本的问题。另一方面，专利文献2中记载的玻璃材料含有碱金属氧化物。在通过将这种材料烧结到玻璃板上的方法来制作煅烧膜的情况下，在烧结的过程中，煅烧膜玻璃软化，因此，玻璃基板中含有的碱金属与煅烧膜玻璃中含有的碱金属之间容易相互扩散，从而发生所谓的离子交换反应。发生该离子交换反应时，由于碱金属元素的原子半径的差异而在冷却过程中使煅烧膜和玻璃基板产生残留应力。另外，煅烧膜玻璃和基板玻璃的反应后的部分变质成热膨胀不同的玻璃，在冷却过程中，在未反应的部分与反应后的部分之间产生残留应力。由此，使基板发生翘曲，从而可能引起无法得到平坦的基板表面的问题。即，尚不存在不含氧化铅和碱金属氧化物、折射率高(d线的折射率为1. 7以上且2. 3 以下)、玻璃化转变温度为530°C以下且具备耐酸性的特性的玻璃组合物及使用该玻璃组合物的光提取构件(以下称为玻璃组合物等)。本专利技术提供不含氧化铅和碱金属氧化物、玻璃化转变温度为530°C以下且具备耐酸性的特性、而且折射率(rid)为1. 7以上且2. 3以下的玻璃组合物及使用该玻璃组合物的光提取构件。用于解决问题的手段本专利技术提供如下的无碱保护玻璃组合物及使用该玻璃组合物的光提取构件。(I) 一种无碱保护玻璃组合物，其特征在于，实质上不含氧化铅和碱金属氧化物， 折射率(nd)为1.7以上且2. 3以下，玻璃化转变温度为530°C以下，并且通过酸浸溃重量减少测定法测定并计算的溶解深度小于1. 3 μ m，以基于氧化物的摩尔％计含有8 25%的 Nb2O5。(2) 一种无碱保护玻璃组合物，其特征在于，以基于氧化物的摩尔％计含有Zn04 32%、Bi2035 35%、P20510 30%、Nb2058 25%、Ba0(T5%, 在Bi2O3的含量为30摩尔％以上时含有I 5%的ZrO2,用Bi2O3的含量与BaO的含量的总和除以Nb2O5的含量而得到的值为O. 3^2. 5，并且实质上不含氧化铅和碱金属氧化物。(3)如(2)所述的无碱保护玻璃组合物，其特征在于，以基于氧化物的摩尔％计含有B2030 17%、Zr02(T5%、Mg0(T5%、Ca00 5%、Ba0(T5%、Sr00 5%、Ti020 5%、V2050 5%、Mo03(T5%、冊30 20%。(4) 一种光提取构件，其特征在于，具备基板；具有光散射性且设置在所述基板上的光散射层；和设置在所述光散射层上且由玻璃组合物构成的无碱保护玻璃层，所述玻璃组合物实质上不含氧化铅和碱金属氧化物，折射率(rid)为1. 7以上且2. 3以下，玻璃化转变温度为 5300C以下，并且通过酸浸溃重量减少测定法测定的溶解深度小于1. 3 μ m，以基于氧化物的摩尔％计含有8 25%的Nb205。专利技术效果根据本专利技术，通过采用特定组成的玻璃组合物，能够提供不含氧化铅和碱金属氧化物、折射率高、玻璃化转变温度为530°C以下且具备耐酸性的特性的玻璃组合物及使用该玻璃组合物的光提取构件。特别是根据本专利技术，能够提供适合于使有机LED光提取得到提高的散射层的保护层的玻璃粉。本专利技术的玻璃实质上不含碱金属，因此，不会给有机LED元件带来由碱金属迁移引起的不利影响。本专利技术的玻璃的耐酸性足够高，能够通过利用酸的蚀刻对形成在玻璃上的ITO薄膜进行图案化。另外，能够得到如下效果本专利技术的玻璃粉在玻璃基板(例如旭硝子公司制造的Η)200基板)上煅烧而使其软化后，不会给基板带来变形和无法容许的翘曲，也不会产生裂纹。附图说明图1是表示具备本专利技术的无碱保护玻璃的光提取构件的截面图。具体实施方式本专利技术的无碱保护玻璃组合物(以下称为玻璃组合物)实质上不含氧化铅和碱金属氧化物，折射率( )为1.7以上且2. 3以下，玻璃化转变温度为530°C以下，并且在使用由在40°C下在由波美度为45°的氯化铁(42重量％以上的FeCl3)与盐酸(35重量％HC1) 的等量混合液构成的所谓的ITO蚀刻液中浸溃10分钟时浸溃前后测定的重量减少与测定样品的比重和表面积计算出溶解深度的测定方法(以下称为酸浸溃重量减少测定法)的测定中溶解深度小于1. 3 μ m，Nb2O5的含量以基于氧化物的摩尔％计为8 25%。本专利技术的玻璃组合物实质上不含氧化铅和碱金属氧化物。在此，实质上不含是指不主动地含有，而不是指连来自于其他成分的杂质也不含有。本专利技术的玻璃组合物的折射率(nd)为1. 7以上且2. 3以下。折射率为该范围时， 在有机LED元件的散射层上使用的情况下对发射光进行提取的效果好。本专利技术的玻璃组合物的折射率(nd)更优选为1. 88以上且2. 2以下，特别优选为1. 95以上且2.1以下。需要说明的是，折射率(nd)表示d线(587. 56nm)下的折射率，可以通过将玻璃进行研磨后、使用力卟二二一公司制造的精密折射计KPR-2000利用V棱镜法进行测定来求出。本专利技术的玻璃组合物的玻璃化转变温度为530°C以下。玻璃化转变温 度为530°C 以下时，玻璃软化温度为620°C以下，能够形成无碱保护玻璃的煅烧温度为620°C以下，煅烧时能够抑制基材的高应变点玻璃基板(应变点为570°C以上)的热变形。本专利技术的玻璃组合物的玻璃化转变温度更优选为520°C以下，特别优选为515°C以下。另外，本专利技术的玻璃组合物的玻璃化转变温度为400°C以上。对于玻璃化转变温度低于400°C的玻璃而言，玻璃组成中需要含有大量Bi2O3，结果热膨胀系数变大，形成煅烧膜时产生残留应力而使基板产生翘曲。另外，如果玻璃化转变温度低于400°C，则使用于确保涂布性所需的树脂在煅烧中烧毁时，玻璃在低温下开始软化，容易使烧毁变得不充分。需要说明的是，玻璃化转变温度通过求出利用'J力' 々公司制造的差示量热分析装置TG8110测定得到的DTA图的第一拐点而得到。另外，玻璃软化温度通过求出使用相同装置测定得到的DTA图的第四拐点而得到。对于本专利技术的玻璃组合物的溶解深度而言，在使用上述的酸浸溃重量减少测定法的测定中小于1. 3 μ m。溶解深度小于1. 3 μ m时，适合于通过蚀刻对形成在无碱保护玻璃煅烧膜上的ITO膜进行图案化。更具体地来说明，对ITO进行图案化时，未被掩蔽的煅烧膜也同时溶解。但是，如前所述，溶解深度小于1. 3 μ m是指溶解深度小于ITO被侵蚀的深度的一半，如果为该程度，则能够避免在后续工序中形成的发光层或布线的处理时的问题。本专利技术的玻璃组合物的溶解深度更优选为1. O μ m以下，特别优选为O. 5 μ m以下。另外，溶解深度为本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2010.07.26 JP 2010-1670921.一种无碱保护玻璃组合物，其特征在于，实质上不含氧化铅和碱金属氧化物，折射率 (rid)为1. 7以上且2. 3以下，玻璃化转变温度为530°C以下，并且通过酸浸溃重量减少测定法测定并计算的溶解深度小于1. 3 μ m，以基于氧化物的摩尔％计含有8 25%的Nb205。2.一种无碱保护玻璃组合物，其特征在于，以基于氧化物的摩尔％计含有Zn04 32%、Bi2035 35%、P20510 30%、Nb2058 25%、BaO(T5%,在Bi2O3的含量为30摩尔％以上时含有I 5%的ZrO2,用Bi2O3的含量与BaO的含量的总和除以Nb2O5的含量而得到的值为O. ...
【专利技术属性】
技术研发人员：谷田正道，和田直哉，
申请(专利权)人：旭硝子株式会社，
类型：
国别省市：
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