本发明专利技术提供了一种防止晶圆中心部分下垂的晶舟,包括:由前侧壁、后侧壁、左侧壁和右侧壁形成的主体,所述主体界定出内部间隔区域,所述内部间隔区域中,所述左侧壁的内侧面包括由多个左内侧翼限定出的多个左放置槽,所述右侧壁的内侧面包括由多个右内侧翼限定出的多个右放置槽,所述左放置槽与所述右放置槽一一对应;其中,所述左内侧翼有一段伸出所述左侧壁的内侧面,或者所述右内侧翼有一段伸出所述右侧壁的内侧面,或者所述左内侧翼有一段伸出所述左侧壁的内侧面同时所述右内侧翼有一段伸出所述右侧壁的内侧面。本发明专利技术所提供的晶舟从而能够防止放置在其中的晶圆中心部分下垂。
【技术实现步骤摘要】
防止晶圆中心部分下垂的晶舟
本专利技术涉及一种用来承载晶圆的装置,特别涉及一种防止晶圆中心部分下垂的晶舟。
技术介绍
晶舟是用来存放和运送晶圆的装置,通常晶舟含有多个晶圆放置槽(slot),每个晶圆放置槽可以放置一个晶圆。请参考图1和图2,图1为现有晶舟构造的立体结构,图2为现有晶舟俯视图。从图1中可以看到,现有晶舟1主要包括一个前侧壁10,一个后侧壁11,一个左侧壁12和一个右侧壁13。该四个侧壁共同界定出一个可以将晶圆互相平行放置在其中的空间。在现有晶舟的左侧壁12和右侧壁13还分别有一个脚架(分别为左脚架122和右脚架132),两个脚架相互平行。从图2中可以看到,现有晶舟1还进一步包括有位于前侧壁上的把手101。现有晶舟,如2012年2月15日授权公告的中国专利CN101834154B所示,存在着一个缺陷,那就是放置在现有晶舟1内的晶圆会呈现中心部分下垂的现象。可参考图2,水平放置在现有晶舟1内的晶圆(未图示)只在左右两侧受到现有晶舟1左放置槽121和右放置槽131的支撑,而晶圆的中心部分则为悬空的状态,在地心引力的影响下,晶圆中心部位就自然往下垂,并且此下垂的情况会随着晶圆的尺寸加大、厚度变薄而愈加严重。晶圆的中心下垂会造成整个晶圆产生形变。这种晶圆的形变会造成后续制程的困难,例如影响磨机及自动黏晶片机等机台载入晶圆及取出晶圆的准确度,在比较严重的情况下,甚至会使晶圆整片报废,造成生产成本提高、良率下降的负面结果。
技术实现思路
本专利技术要解决的技术问题是晶圆放置在现有的晶舟内会呈现中心部分下垂的现象,造成整个晶圆产生形变的问题。为解决上述问题,本专利技术提供了一种晶舟,包括:由前侧壁、后侧壁、左侧壁和右侧壁形成的主体,所述主体界定出内部间隔区域,所述内部间隔区域中,所述左侧壁的内侧面包括由多个左内侧翼限定出的多个左放置槽,所述右侧壁的内侧面包括由多个右内侧翼限定出的多个右放置槽,所述左放置槽与所述右放置槽一一对应,使得一个所述左放置槽和一个所述右放置槽能够对应用于放置一个晶圆;其中,所述左内侧翼有一段伸出所述左侧壁的内侧面,或者所述右内侧翼有一段伸出所述右侧壁的内侧面,或者所述左内侧翼有一段伸出所述左侧壁的内侧面同时所述右内侧翼有一段伸出所述右侧壁的内侧面。可选的,所述左内侧翼有一段伸出所述左侧壁的内侧面同时所述右内侧翼有一段伸出所述右侧壁的内侧面,并且每一对对应的所述左内侧翼和所述右内侧翼连接成为一个整体的内侧翼。可选的,所述本体还包括分别位于所述左侧壁和所述右侧壁底部用于支持整个晶舟的两个平行脚架。可选的,所述脚架下底边上还包括有缺口,所述缺口用于卡置在相应的凸起上以防止晶舟移动。可选的,所述前侧壁的外表面还包括有把手。可选的,所述后侧壁包括两个平行的平板。与现有技术相比,本专利技术具有以下优点:本专利技术所提供的晶舟中,左内侧翼和右内侧翼至少有一个内侧翼进行了延长,从而使得左内侧槽和右内侧槽的总体长度增加,也就增加了放置在晶舟中的晶圆与侧槽的接触边长,从而能够防止放置在其中的晶圆中心部分下垂及形变的问题,可以提高晶圆的良率。本专利技术所提供的晶舟在其底部的平行脚架上包括有缺口,该缺口与相应的凸起卡合,能防止晶舟移动,避免了放置在晶舟中的晶圆发生晃动,从而消除晶圆之间或者晶圆与晶舟侧槽之间发生相互碰撞的危险。本专利技术所提供的晶舟符合行业规格标准,适于大量生产,具有广阔的市场前景。附图说明图1为现有晶舟立体示意图;图2为现有晶舟俯视图;图3为本专利技术实施一防止晶圆中心部分下垂的晶舟立体示意图;图4为本专利技术实施一防止晶圆中心部分下垂的晶舟俯视图;图5为本专利技术实施二防止晶圆中心部分下垂的晶舟俯视图。具体实施方式如
技术介绍
中所述,现有晶舟只能在左右两侧的侧槽提供支撑点用于支撑放置在其中的晶圆。本专利技术提供一种晶舟,它由前侧壁、后侧壁、左侧壁和右侧壁形成主体,该主体界定出内部间隔区域。该内部间隔区域中,左侧壁的内侧面包括有多个左内侧翼,这些左内侧翼限定出的有多个左放置槽,该右侧壁的内侧面包括有多个右内侧翼,该些右内侧翼限定出的多个右放置槽。这样,一个左放置槽与一个右放置槽相互对应,形成能够对应用于放置一个晶圆的间隔空间。在本专利技术所提供的晶舟中,其左内侧翼左放置槽有一段伸出该左侧壁的内侧面,或者右内侧翼右放置槽有一段伸出右侧壁的内侧面,或者该左内侧翼左放置槽有一段伸出该左侧壁的内侧面同时该右内侧翼右放置槽有一段伸出该右侧壁的内侧面。从而使得左内侧槽和右内侧槽的总体长度增加,也就增加了放置在晶舟中的晶圆与侧槽的接触边长,从而能够防止放置在其中的晶圆中心部分下垂及形变的问题。下面结合附图,通过具体实施例,对本专利技术的技术方案进行清楚、完整的描述,显然,所描述的实施例仅仅是本专利技术的可实施方式的一部分,而不是其全部。根据这些实施例,本领域的普通技术人员在无需创造性劳动的前提下可获得的所有其它实施方式,都属于本专利技术的保护范围。实施例一请参考图3,图3为本专利技术实施例所提供的晶舟2。该晶舟2由前侧壁20、后侧壁21、左侧壁22和右侧壁23形成主体。该主体界定出一个内部间隔区域。该内部间隔区域中,左侧壁22的内侧面包括有多个左内侧翼221,这些左内侧翼221限定出多个左放置槽220。同样的,该右侧壁23内侧面包括有多个右内侧翼231,该些右内侧翼231限定出多个右放置槽230。在本实施例中,左内侧翼221伸出该左侧壁22内侧面,同时右内侧翼231伸出该右侧壁23内侧面,并且相对应的左内侧翼221与相应的右内侧翼231连接形成一个整体的内侧翼,这样,相应的左放置槽220就能够对应与相应的右放置槽230连接成一个整体的侧槽。而多个左内侧翼221对应与多个右内侧翼231连接在一起,形成多个整体的侧槽,每个整体的侧槽可用于放置一个晶圆。具体的,如图3所示,由于左内侧翼221和右内侧翼231都延长并连接在一起,使得晶舟2多出了一段内侧翼,在图3中标注为底内侧翼25。该底内侧翼25使得左放置槽220和右放置槽230连接在一起形成一个呈现“U”型的侧槽。放置在该“U”型侧槽中的晶圆一半以上的周长都可以得到支撑,因而可以大幅度改善晶圆中心下垂的现象。在图3中可以看出,底内侧翼25呈直板形状,但是本专利技术并不限定底内侧翼25的形状,在其它实施例中,底内侧翼25可以是与左内侧翼221和右内侧翼231构成一段平滑圆弧的弧形。并且,底内侧翼25的制作材料可以与左内侧翼221和右内侧翼231的制作材料相同,但是也可以与它们的制作材料不同。而左内侧翼221和右内侧翼231的材质可以采用与晶舟2各侧壁一样的材质,例如塑料材质,亦可使用具有一定缓冲作用的其它材料,从而避免了放置其中的晶圆因与内侧翼发生碰撞而导致晶圆破碎。同时,本实施例中,侧槽的总数可以为25格,也可以是23格,优选为23格,因为较少的侧槽格数可以使得槽与槽之间的距离较大,从而使得晶圆与晶圆之间的距离增大,防止晶圆发生相互碰撞。如果晶舟2各部分制作材料相同,可以是通过模具注塑等成型工艺一体成型。请继续参考图3,在晶舟2左侧壁22的下部连接有一个左脚架222,右侧壁23下部连接有一个右脚架232,两个脚架相互平行。左脚架222和右脚架232用于支持整个晶舟2(无论晶舟2中是否有晶圆放置其中)立放在平面上。本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种防止晶圆中心部分下垂的晶舟,其特征在于,包括:由前侧壁、后侧壁、左侧壁和右侧壁形成的主体,所述主体界定出内部间隔区域,所述内部间隔区域中,所述左侧壁的内侧面包括由多个左内侧翼限定出的多个左放置槽,所述右侧壁的内侧面包括由多个右内侧翼限定出的多个右放置槽,所述左放置槽与所述右放置槽一一对应,使得一个所述左放置槽和一个所述右放置槽能够对应用于放置一个晶圆;其中,所述左内侧翼有一段伸出所述左侧壁的内侧面,或者所述右内侧翼有一段伸出所述右侧壁的内侧面,或者所述左内侧翼有一段伸出所述左侧壁的内侧面同时所述右内侧翼有一段伸出所述右侧壁的内侧面。
【技术特征摘要】
1.一种防止晶圆中心部分下垂的晶舟,其特征在于,包括:由前侧壁、后侧壁、左侧壁和右侧壁形成的主体,所述主体界定出内部间隔区域,所述内部间隔区域中,所述左侧壁的内侧面包括由多个左内侧翼限定出的多个左放置槽,所述右侧壁的内侧面包括由多个右内侧翼限定出的多个右放置槽,所述左放置槽与所述右放置槽一一对应,使得一个所述左放置槽和一个所述右放置槽能够对应用于放置一个晶圆;其中,所述左内侧翼有一段伸出所述左侧壁的内侧面,或者所述右内侧翼有一段伸出所述右侧壁的内侧面,或者所述左内侧翼有一段伸出...
【专利技术属性】
技术研发人员:傅荣颢,黄锦才,
申请(专利权)人:上海宏力半导体制造有限公司,
类型:发明
国别省市:
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