一种分体式座便器主体的施釉系统技术方案

本发明专利技术公开了的分体式座便器主体的施釉系统，其包括：机架；旋转机构，其包括承载台，一旋转驱动机构连接至所述旋转机构，驱动所述旋转机构旋转；固定机构；转动接口，其包括有内层管体和外层管体，所述内层管体以可相对所述外层管体转动的方式设置在所述外层管体的内部；釉药容置装置，其通过一泵连通至所述内层管体的另一端部；液位检测器；控制装置控制所述旋转驱动机构驱动所述旋转机构以设定速度旋转设定时间。本发明专利技术所述的分体式座便器主体的施釉系统具有良好的施釉效果，座便器主体处于旋转状态，以及在施釉过程中，将主体上方的开口都封闭，使得座便器主体的釉层厚度均匀，且通过调整釉药在座便器主体内停留的时间，可以控制釉层的厚度。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种分体式座便器主体的施釉系统。
技术介绍
座便器具有一体式和分体式两种结构，其中一体式座便器指的是座便器主体部分与水箱为一整体，为一次成型，分体式座便器则指的是座便器主体部分与水箱为分别成型后，组装为一整体。座便器主体的施釉过程中，座便器主体的通水路部分极容易施釉不均匀，或者釉层厚度达不到要求，影响座便器的排污排水效果，从而影响座便器的使用质量。
技术实现思路
针对上述技术问题，本专利技术提供了一种分体式座便器主体的施釉系统，可以实现对分体式座便器主体的均匀施釉，尤其是实现通水路部分的釉层厚度均匀，且厚度可控。本专利技术提供的技术方案为一种分体式座便器主体的施釉系统，包括机架,其包括一对立柱以及一横梁，所述一对立柱位于所述横梁的下方，支撑所述横梁；旋转机构，其包括一对竖直支撑件、一水平支撑件以及一承载台，所述一对竖直支撑件之间设置在所述水平支撑件的下方，支撑所述水平支撑件，承载台连接至所述一对竖直支撑件，位于所述水平支撑件的下方，座便器主体放置在所述承载台上，所述水平支撑件以可相对横梁旋转的方式设置，一旋转驱动机构连接至所述旋转机构，驱动所述旋转机构旋转； 固定机构，其包括两个上压气缸以及两个夹持气缸，各上压气缸固定在所述水平支撑件上，其第一活塞杆连接至一密封盖体，各密封盖体的外缘设置一橡胶圈，该橡胶圈延伸至该密封盖体的下方，厚度为3 4厘米，宽度为O. 2 O. 3厘米，内表面呈弧形，其中一个密封盖体位于座便器本体的空腔的开口位置的上方，另一个密封盖体位于座便器本体的进水口的上方，所述两个夹持气缸分别固定在一对竖直支撑件上，位于所述座便器主体的由上至下的高度的三分之一处，且各夹持气缸输出驱动力，各夹持气缸的第二活塞杆向所述旋转机构的中部延伸，向且各第二活塞杆的端部具有一缓冲垫，该缓冲垫的表面的截面呈弧形，厚度为5 8厘米，长度为8 10厘米，在所述其中一个密封盖体上设置有一气孔，气孔上设置有可拆卸的第一密封件；转动接口，其包括有内层管体和外层管体，所述内层管体以可相对所述外层管体转动的方式设置在所述外层管体的内部，所述内层管体与所述外层管体为同轴设置，所述外层管体与所述内层管体之间设置有两个第二密封件，所述承载台在对应所述座便器主体的出水口的位置开设有一个第二开口，所述外层管体的一个端部固定在所述第二开口的内壁上，所述内层管体的一个端部与所述座便器本体的出水口相衔接，所述内层管体的另一端部延伸出所述外层管体的另一端部，在所述内层管体的另一端部上设置一阀门；釉药容置装置，其通过一泵连通至所述内层管体的另一端部；液位检测器，其设置在位于座便器的空腔的开口位置的密封盖体上；控制装置，其连接至所述液位检测器，以及连接至所述旋转驱动机构、所述泵、所述两个上压气缸、所述两个夹持气缸以及所述阀门，所述控制装置控制所述两个夹持气缸工作，同时控制连接至所述其中一个密封盖体的上压气缸动作，使座便器主体的空腔的开口部位进入至所述其中一个密封盖体的内部，所述其中一个密封盖体密封所述座便器本体的空腔的开口，再控制所述阀门处于开启状态，所述泵工作，向所述座便器本体内通入釉药，当液位检测器的检测到座便器本体的液位达到液位预定值，所述控制装置控制所述泵停止工作，所述阀门关闭，连接至所述另一个密封盖体的上压气缸动作，使所述座便器本体的进水口部位进入至所述另一个密封盖体的内部，所述另一个密封盖体密封所述座便器本 体的进水口，所述控制装置再控制所述旋转驱动机构驱动所述旋转机构以设定速度旋转设定时间。优选的是，所述的分体式座便器主体的施釉系统中，所述设定速度为10 15转/分钟，所述设定时间为2 3小时。优选的是，所述的分体式座便器主体的施釉系统中，所述液位预定值为到达所述座便器本体的空腔的上端面。优选的是，所述的分体式座便器主体的施釉系统中，在所述其中一个密封盖体上设置有一个气室，该气室位于所述空腔的上端面的上方，与所述空腔气体连通，该气室内设置有压力检测器，所述气孔也位于所述气室上，所述控制装置连接至所述压力检测器的压力信号，当所述压力检测器检测到座便器本体的空腔内的气体压力达到压力预定值，所述控制装置报警，所述第一密封件从所述气孔上除去，所述气孔处于通气状态。优选的是，所述的分体式座便器主体的施釉系统中，所述水平支撑件通过一旋转轴连接至所述横梁。本专利技术所述的分体式座便器主体的施釉系统具有良好的施釉效果，座便器主体处于旋转状态，以及在施釉过程中，将主体上方的开口都封闭，使得座便器主体的釉层厚度均匀，且通过调整釉药在座便器主体内停留的时间，可以控制釉层的厚度。附图说明图1为本专利技术所述的分体式座便器主体的施釉系统的结构示意图；图2为本专利技术所述的转动接口的结构示意具体实施例方式下面结合附图对本专利技术做进一步的详细说明，以令本领域技术人员参照说明书文字能够据以实施。如图1所示，本专利技术提供一种分体式座便器主体的施釉系统，包括机架1，其包括一对立柱以及一横梁，所述一对立柱位于所述横梁的下方，支撑所述横梁；旋转机构2,其包括一对竖直支撑件、一水平支撑件以及一承载台6，所述一对竖直支撑件之间设置在所述水平支撑件的下方，支撑所述水平支撑件，承载台连接至所述一对竖直支撑件，位于所述水平支撑件的下方，座便器主体放置在所述承载台上，所述水平支撑件以可相对横梁旋转的方式设置，一旋转驱动机构连接至所述旋转机构，驱动所述旋转机构旋转。水平支撑件通过一旋转轴连接至横梁，一电机连接至该旋转轴。本专利技术还包括固定机构，其包括两个上压气缸以及两个夹持气缸3，各上压气缸固定在所述水平支撑件上，其第一活塞杆连接至一密封盖体，各密封盖体的外缘设置一橡胶圈，该橡胶圈延伸至该密封盖体的下方，厚度为3 4厘米，宽度为O. 2 O. 3厘米，内表面呈弧形，其中一个密封盖体8位于座便器本体的空腔5的开口位置的上方,另一个密封盖体10位于座便器本体的进水口的上方，所述两个夹持气缸分别固定在一对竖直支撑件上，位于所述座便器主体的由上至下的高度的三分之一处，且各夹持气缸输出驱动力，各夹持气缸的第二活塞杆向所述旋转机构的中部延伸，向且各第二活塞杆的端部具有一缓冲垫，该缓冲垫的表面的截面呈弧形，厚度为5 8厘米，长度为8 10厘米，在所述其中一个密封盖体上设置有一气孔，气孔上设置有可拆卸的第一密封件。现有技术中，一般是通过一定的方法实现对通水路部分4的施釉后，再对主体空 腔部分进行施釉，这就是两次施釉的效果很难一致，导致最终产品的釉层厚度不均匀，且生产效率低，本专利技术中，固定机构不仅对座便器主体具有固定效果，还利用密封盖体完全封闭主体的空腔开口以及进水口，使得釉药的液面可以达到空腔的上端面的位置，整个空腔以及通水路部分仅经过一次施釉。本专利技术的两个密封盖体可以达到良好的封闭效果，同时也可对座便器主体起到保护作用，由于上压气缸施加的压力很容易对座便器造成损伤，密封盖体的底部可以采用橡胶层，起到缓冲作用。夹持气缸是从侧面固定座便器主体，保证座便器主体在旋转过程中的稳定性，避免影响施釉均匀性。为防止损伤座便器主体，夹持气缸的活塞杆上设置缓冲垫，缓冲垫需要与座便器主体牢固的、不易脱离的接触，因此采用橡胶材质，表面截面设计成弧形。本专利技术通过一个转动接口 11连接釉药容置装置和座便器主体。转动接口包括本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种分体式座便器主体的施釉系统，其特征在于，包括：机架，其包括一对立柱以及一横梁，所述一对立柱位于所述横梁的下方，支撑所述横梁；旋转机构，其包括一对竖直支撑件、一水平支撑件以及一承载台，所述一对竖直支撑件之间设置在所述水平支撑件的下方，支撑所述水平支撑件，承载台连接至所述一对竖直支撑件，位于所述水平支撑件的下方，座便器主体放置在所述承载台上，所述水平支撑件以可相对横梁旋转的方式设置，一旋转驱动机构连接至所述旋转机构，驱动所述旋转机构旋转；固定机构，其包括两个上压气缸以及两个夹持气缸，各上压气缸固定在所述水平支撑件上，其第一活塞杆连接至一密封盖体，各密封盖体的外缘设置一橡胶圈，该橡胶圈延伸至该密封盖体的下方，厚度为3～4厘米，宽度为0.2～0.3厘米，内表面呈弧形，其中一个密封盖体位于座便器本体的空腔的开口位置的上方，另一个密封盖体位于座便器本体的进水口的上方，所述两个夹持气缸分别固定在一对竖直支撑件上，位于所述座便器主体的由上至下的高度的三分之一处，且各夹持气缸输出驱动力，各夹持气缸的第二活塞杆向所述旋转机构的中部延伸，向且各第二活塞杆的端部具有一缓冲垫，该缓冲垫的表面的截面呈弧形，厚度为5～8厘米，长度为8～10厘米，在所述其中一个密封盖体上设置有一气孔，气孔上设置有可拆卸的第一密封件；转动接口，其包括有内层管体和外层管体，所述内层管体以可相对所述外层管体转动的方式设置在所述外层管体的内部，所述内层管体与所述外层管体为同轴设置，所述外层管体与所述内层管体之间设置有两个第二密封件，所述承载台在对应所述座便器主体的出水口的位置开设有一个第二开口，所述外层管体的一个端部固定在所述第二开口的内壁上，所述内层管体的一个端部与所述座便器本体的出水口相衔接，所述内层管体的另一端部延伸出所述外层管体的另一端部，在所述内层管体的另一端部上设置一阀门；釉药容置装置，其通过一泵连通至所述内层管体的另一端部；液位检测器，其设置在位于座便器的空腔的开口位置的密封盖体上；控制装置，其连接至所述液位检测器，以及连接至所述旋转驱动机构、所述泵、所述两个上压气缸、所述两个夹持气缸以及所述阀门，所述控制装置控制所述两个夹持气缸工作，同时控制连接至所述其中一个密封盖体的上压气缸动作，使座便器主体的空腔的开口部位进入至所述其中一个密封盖体的内部，所述其中一个密封盖体密封所述座便器本体的空腔的开口，再控制所述阀门处于开启状态，所述泵工作，向所述座便器本体内通入釉药，当液位检测器的检测到座便器本体的液位达到液位预定值，所述控制装置控制所述泵停止工作，所述阀门关闭，连接至所述另一个密封盖体的上压气缸动作，使所述座便器本体的进水口部位进入至所述另一个密封盖体的内部，所述另一个密封盖体密封所述座便器本体的进水口，所述控制装置再控制所述旋转驱动机构驱动所述旋转机构以设定速度旋转设定时间。...

【技术特征摘要】
1.一种分体式座便器主体的施釉系统,其特征在于,包括机架，其包括一对立柱以及一横梁，所述一对立柱位于所述横梁的下方，支撑所述横梁；旋转机构，其包括一对竖直支撑件、一水平支撑件以及一承载台，所述一对竖直支撑件之间设置在所述水平支撑件的下方，支撑所述水平支撑件，承载台连接至所述一对竖直支撑件，位于所述水平支撑件的下方，座便器主体放置在所述承载台上，所述水平支撑件以可相对横梁旋转的方式设置，一旋转驱动机构连接至所述旋转机构，驱动所述旋转机构旋转;固定机构，其包括两个上压气缸以及两个夹持气缸，各上压气缸固定在所述水平支撑件上，其第一活塞杆连接至一密封盖体，各密封盖体的外缘设置一橡胶圈，该橡胶圈延伸至该密封盖体的下方，厚度为3 4厘米，宽度为O. 2 O. 3厘米，内表面呈弧形，其中一个密封盖体位于座便器本体的空腔的开口位置的上方，另一个密封盖体位于座便器本体的进水口的上方，所述两个夹持气缸分别固定在一对竖直支撑件上，位于所述座便器主体的由上至下的高度的三分之一处，且各夹持气缸输出驱动力，各夹持气缸的第二活塞杆向所述旋转机构的中部延伸，向且各第二活塞杆的端部具有一缓冲垫，该缓冲垫的表面的截面呈弧形，厚度为5 8厘米，长度为8 10厘米，在所述其中一个密封盖体上设置有一气孔，气孔上设置有可拆卸的第一密封件；转动接口，其包括有内层管体和外层管体，所述内层管体以可相对所述外层管体转动的方式设置在所述外层管体的内部，所述内层管体与所述外层管体为同轴设置，所述外层管体与所述内层管体之间设置有两个第二密封件，所述承载台在对应所述座便器主体的出水口的位置开设有一个第二开口，所述外层管体的一个端部固定在所述第二开口的内壁上，所述内层管体的一个端部与所述座便器本体的出水口相衔接，所述内层管体的另一端部延伸出所述外层管体的另一端部，在所述内层管体的另一端部上设置...

【专利技术属性】
技术研发人员：王明利，苏澎，
申请(专利权)人：东陶机器北京有限公司，
类型：发明
国别省市：