包含多酰胺组分的光致抗蚀剂制造技术

包含多酰胺组分的光致抗蚀剂。提供了一种光致抗蚀剂组合物，所述组合物包括：(a)一种或多种树脂；(b)一种或多种光致产酸剂化合物；和(c)一种或多种下式所示的多酰胺化合物：其中R1、R2、R3和R4独立选自H、(C1-C30)烷基、和酰胺取代(C1-C30)烷基；R1和R2，或R1和R3或R3和R4可与连接其上的原子一起形成5到12元杂环；和L是在羰基之间提供3到8个原子间隔的连接基团；其中多酰胺化合物没有羟基。

【技术实现步骤摘要】

根据35U. S. C. § 119(e)，本申请要求提交于2011年9月9日的美国临时申请No. 61/533，128的优先权益，其内容在此全部以引用的方式全文插入于此。本专利技术涉及包括含两个或多个酰胺基团组分的光致抗蚀剂组合物。本专利技术优选的光致抗蚀剂可包括具有光酸不稳定基团的树脂；光致产酸剂化合物；和多酰胺组分，其能减少光生酸不需要地扩散出光致抗蚀剂涂层的未曝光区域。
技术介绍
光致抗蚀剂是将图像转移到基底的光敏薄膜。它们形成负性或正性图案。在基底上涂覆光致抗蚀剂之后，通过图案光掩膜将涂层曝光于激活能量源，如紫外光，在光致抗蚀 剂涂层中形成潜像。光掩膜具有对于激活辐射不透明和透明区域从而限定转移到下层基底的图案。已知的光致抗蚀剂可提供对许多现有的商业应用足够的分辨率和尺寸的功能部件(feature)。然而对于许多其它应用，需要能够提供小于四分之一微米(< O. 25 μ m)尺寸的高分辨率图案的新光致抗蚀剂。已经进行了各种尝试改变光致抗蚀剂组合物的组成以改善功能特性效果。其中，许多碱性化合物已经被报道用于光致抗蚀剂组合物中。参见如美国专利No. 6，607，870和7，379，548，以及日本公开专利申请JP61219951。
技术实现思路
本专利技术提供了光致抗蚀剂组合物，其包括树脂、光致产酸剂化合物(光致产酸剂或“PAG”)和包括以下式所示多酰胺(mult1-amide)组分的酸扩散控制剂权利要求1. 一种光致抗蚀剂组合物，所述组合物包括:(a)一种或多种树脂；(b)一种或多种光致产酸剂化合物；和(C) 一种或多种下式所示的多酰胺化合物2.根据权利要求1所述光致抗蚀剂组合物，其中所述一种或多种多酰胺化合物是非聚合的。3.根据权利要求1所述光致抗蚀剂组合物，其中所述一种或多种多酰胺化合物是聚合的。4.根据权利要求1所述光致抗蚀剂组合物，其中R1、R2>R3和R4独立选自氢、(C1-Cltl) 烷基和酰胺取代(C1-Cltl)烷基。5.根据权利要求1所述光致抗蚀剂组合物，其中L选自(C3-C12)亚烷基、((C1-C6)亚烷基-O) JC1-C6)亚烷基和6到8元杂环；其中η = 1-5。6.根据权利要求5所述光致抗蚀剂组合物，其中L选自(C3-C12)亚烷基。7.根据权利要求1所述光致抗蚀剂组合物，其中所述R1-R4的(C1-C3tl)烷基和酰胺取代 C1-C30烷基，和L的(C3-C12)亚烷基、((C「C6)亚烷基亚烷基和6到8元杂环被一个或多个选自羧基、羧基(C1-C3tl)烷基、(C1-C3tl)烷氧基、磺酰基、磺酸、磺酸酯、氰基、卤素和酮中的取代基所取代。8.根据权利要求1所述光致抗蚀剂组合物，其中所述一个或多个多酰胺化合物选自N， N，N'，N'-四丁基己二酰二胺；N，N' - 二丁基-N，N' -二甲基癸二酰胺；顺-N，N，N'， N'-四丁基环己烷-1，4-二甲酰胺；和反-N，N，N'，N'-四丁基环己烷-1，4-二甲酰胺。9.一种形成光致抗蚀剂浮雕图案的方法，包括(a)将权利要求1所述的光致抗蚀剂组合物涂层涂覆到基底上；(b)将光致抗蚀剂涂层曝光于图案化激活辐射并将曝光后的光致抗蚀剂层显影得到浮雕图案。10.根据权利要求9所述的方法，其中所述光致抗蚀剂涂层是浸没曝光的。全文摘要包含多酰胺组分的光致抗蚀剂。提供了一种光致抗蚀剂组合物，所述组合物包括(a)一种或多种树脂；(b)一种或多种光致产酸剂化合物；和(c)一种或多种下式所示的多酰胺化合物其中R1、R2、R3和R4独立选自H、(C1-C30)烷基、和酰胺取代(C1-C30)烷基；R1和R2，或R1和R3或R3和R4可与连接其上的原子一起形成5到12元杂环；和L是在羰基之间提供3到8个原子间隔的连接基团；其中多酰胺化合物没有羟基。文档编号G03F7/00GK102998904SQ20121047856公开日2013年3月27日 申请日期2012年9月10日 优先权日2011年9月9日专利技术者G·P·普罗科普维茨, G·珀勒斯, 刘聪, C·吴, C-B·徐, 吴俊锡 申请人:罗门哈斯电子材料有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光致抗蚀剂组合物，所述组合物包括：(a)一种或多种树脂；(b)一种或多种光致产酸剂化合物；和(c)一种或多种下式所示的多酰胺化合物：其中R1、R2、R3和R4独立选自H、(C1?C30)烷基、和酰胺取代(C1?C30)烷基；R1和R2，或R1和R3或R3和R4可与连接其上的原子一起形成5到12元杂环；和L是在羰基之间提供3到8个原子间隔的连接基团；其中多酰胺化合物没有羟基。FSA00000810013300011.tif

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：G·P·普罗科普维茨，G·珀勒斯，刘聪，C·吴，CB·徐，吴俊锡，
申请(专利权)人：罗门哈斯电子材料有限公司，
类型：发明
国别省市：