【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种微晶玻璃的制备方法，具体为具有自洁功能的微晶玻璃镀膜方法，即。
技术介绍
目前常用的自洁玻璃主要是使用普通的玻璃进行表面镀膜处理达到自洁功能，但是普通玻璃本身材质的原因，限制自洁玻璃的应用范围，而微晶玻璃具有较低的热膨胀系数和较高的机械强度，使用领域较为广泛，但是不具有自洁功能。
技术实现思路
本专利技术针对上述技术问题，提供一种可以制作出具有自洁功能的微晶玻璃镀膜方 法，包括以下步骤 (1)按照重量比的配方配料，高炉渣与正长石比例为19T22 :1，原料经过粉碎成型后烧结，烧成温度为1100°C 1300，保温2小时； (2)将四乙氧基硅烷、无水乙醇和蒸馏水体积比按照48 1混合，用稀盐酸调节pH值3-4形成硅溶胶； 硅溶胶和聚四氟乙烯乳液按照体积比为1: l(Tl: 20混合，用稀盐酸调节pH值9-10，在室温下密闭陈化6-8小时，形成修饰液； (3)将整个洗净的基板浸入修饰液中，然后以精确控制的均匀速度将基板平稳地从修饰液中提拉出来，提拉速率l-2mm/s，镀膜后把样品放入烘箱中，高温干燥20分钟，重复多次； (4)在电炉内进行热处理，处理温度为360-400°C，时间为10-15分钟。本专利技术提供的，制备的微晶玻璃的主晶相是镁黄长石，聚四氟乙烯对硅溶胶有良好的修饰作用，自洁净微晶玻璃的接触角已达到120°，具有较强的疏水性。具体实施例方式结合具体实施方式说明本专利技术的技术方案，实施例为 (1)按照重量比的配方配料，高炉渣190kg，正长石20kg，原料分别经过球磨、干燥、干压成型工艺后，采用常压空气气氛下烧结，烧成温...
【技术保护点】
自洁微晶玻璃镀膜方法，其特征在于：包括以下步骤，（1）按照重量比的配方配料，高炉渣与正长石比例为19：1~22：1，原料经过粉碎成型后烧结，烧成温度为1200℃，保温2小时，制成基板；（2）将四乙氧基硅烷、无水乙醇和蒸馏水体积比按照4：8：1混合，用稀盐酸调节pH值3?4形成硅溶胶；硅溶胶和聚四氟乙烯乳液按照体积比为1:10~1:20混合，用稀盐酸调节pH值9?10，在室温下密闭陈化6?8小时，形成修饰液；（3）将整个洗净的基板浸入修饰液中，然后以精确控制的均匀速度将基板平稳地从修饰液中提拉出来，提拉速率l?2mm/s，镀膜后把样品放入烘箱中，高温干燥20分钟，重复多次；（4）在电炉内进行热处理，处理温度为360?400℃，时间为l0?15分钟。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：蒋达光，
申请(专利权)人：江苏宜达光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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