一种硅钢片涂膜绝缘电阻测试装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及硅钢片涂膜性能测试技术领域，尤其涉及一种测试装置。一种硅钢片涂膜绝缘电阻测试装置，包括一万用表，万用表连接一红表笔测试端、黑表笔测试端；还包括第一磁铁块、第二磁铁块，磁铁块的外部包覆有金属导电层并位于一被测硅钢片样本上，硅钢片样本的表面一设定区域内设有涂膜层，另一设定区域内无涂膜层，第一磁铁块位于设有涂膜层的区域上，第二磁铁块位于无涂膜层的区域上；第一磁铁块与万用表的一个测试端连接，第二磁铁块与万用表的另一测试端连接。本实用新型专利技术提供了一种易于使用、实现方便的硅钢片涂膜绝缘电阻测试装置，并且测试过程不会对涂膜层造成损坏，同时保证了测试有良好的重复性和再现性。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

一种硅钢片涂膜绝缘电阻测试装置
本技术涉及硅钢片涂膜性能测试
，尤其涉及一种测试装置。
技术介绍
硅钢片用于制造铁芯，铁芯的叠片之间需要相互绝缘，从而达到将涡流有效地限制在各叠片之内的目的。因此，硅钢片表面需要涂覆一层绝缘涂膜，绝缘涂膜的绝缘电阻的大小是硅钢片的一项重要质量指标。GB/T 2522-2007定义了硅钢片绝缘涂膜绝缘电阻的测试方法。但与这个方法对应的仪器价格昂贵，一台进口的绝缘电阻测试仪需要人民币五十万左右，一台国产的绝缘电阻仪也需要人民币二十几万。给硅钢片生产厂家配套的绝缘涂料生产厂家很少会配备如此昂贵的测试设备。因此，大部分绝缘涂料生产厂家都用万用表来测试硅钢片样本涂膜的绝缘电阻，从而达到判断所生产涂料的绝缘性能。然而用万用表来测试硅钢片涂膜的绝缘电阻存在以下两个问题I、硅钢片表面的涂膜厚度很薄，一般在O. 5-1. 5微米之间。测试时，万用表的测试端与硅钢片表面涂膜直接接触，万用表的测试端是两根带尖的金属针，很容易将涂膜破坏， 涂膜被破坏后，万用表就会错误地认为涂膜的绝缘电阻值为零。2、测试时，测试端与涂膜接触的紧密程度对最终的测试结果会有很大的影响，而测试端与涂膜的接触的紧密程度是靠人主观地施加的，这样造成测试的重复性和再现性都很差。而且，绝缘电阻测试仪需要硅钢片样本的尺寸至少达到200*300mm。然而要均匀涂覆如此大尺寸的硅钢片测试样本，这在涂料生产厂家的实验室中是很难实现。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种硅钢片涂膜绝缘电阻测试装置，以解决上述技术问题。本技术所解决的技术问题可以采用以下技术方案来实现一种硅钢片涂膜绝缘电阻测试装置，包括一万用表，所述万用表连接两个测试端， 其特征在于，还包括两个磁铁块，分别为第一磁铁块、第二磁铁块，所述第一磁铁块、第二磁铁块的外部分别包覆有金属导电层，所述万用表的一个测试端连接所述第一磁铁块，所述万用表的另一测试端连接所述第二磁铁块。本技术使用时，所述第一磁铁块、第二磁铁块位于一被测硅钢片样本上，所述硅钢片样本的表面一设定区域内设有涂膜层，另一设定区域内无涂膜层，所述第一磁铁块位于所述硅钢片样本上设有涂膜层的区域上，所述第二磁铁块位于所述硅钢片样本无涂膜层的区域上；所述万用表的测试端连接所述第一磁铁块、第二磁铁块，通过万用表的测试端与第一磁铁块、第二磁铁块的金属导电层接触，金属导电层与涂膜接触，实现万用表的的测试端与硅钢片样本的涂膜层不直接接触，磁铁块本身的绝缘电阻不会影响到涂膜的绝缘电阻，这样就能够方便地测出硅钢片单层涂膜的绝缘电阻的大小。本技术方案不会对涂膜层造成损坏。同时万用表的测试端是通过磁铁块的外壳与涂膜层接触而形成测试回路，接触的紧密度是靠磁铁块与测试硅钢板的之间的磁力来实现的，保证了测试方法有良好的重复性和再现性。满足硅钢片涂料生产厂家定量判定涂料成膜后的绝缘性能的要求。所述金属导电层采用黄铜层，所述金属导电层也可以采用不锈钢层或其他导电的金属合金层，所述金属导电层的厚度为l-3mm。所述磁铁块为圆柱形的磁铁块，所述磁铁块的剖面呈矩形。所述磁铁块的外部包覆有金属导电层后，所述磁铁块的外部直径为8-12mm,优选为10_。所述硅钢片样本的宽度为30-50mm，长度为80_120臟，优选所述硅钢片样本尺寸为40*100(±5)mm。相比现有技术，本技术测试所需的硅钢片样本的面积小，这在实验室中易于制作。所述万用表采用指针式万用表，也可以采用数字式万用表。所述万用表的两个测试端分别为红表笔测试端、黑表笔测试端，所述万用表采用指针式万用表时，所述红表笔测试端连接所述第一磁铁块；所述黑表笔测试端连接所述第二磁铁块。所述万用表采用数字式万用表时，所述黑表笔测试端连接所述第一磁铁块；所述红表笔测试端连接所述第二磁铁块。有益效果由于采用以上技术方案，本技术提供了一种易于使用、实现方便的硅钢片涂膜绝缘电阻测试装置，并且测试过程不会对涂膜层造成损坏，同时保证了测试有良好的重复性和再现性。附图说明图I为本技术的连接示意图；图2为本技术的磁铁块剖面示意图。具体实施方式为了使本技术实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合具体图示进一步阐述本技术。参照图1，一种硅钢片涂膜绝缘电阻测试装置，包括一万用表1，万用表I连接两个测试端，分别为红表笔测试端11、黑表笔测试端12 ;还包括两个磁铁块3，分别为第一磁铁块31、第二磁铁块32，第一磁铁块31、第二磁铁块32的外部分别包覆有金属导电层；万用表I的一个测试端连接第一磁铁块31,万用表I的另一测试端连接第二磁铁块32。本技术使用时，第一磁铁块31、第二磁铁块32位于一被测硅钢片样本上，硅钢片样本的表面一设定区域内设有涂膜层，另一设定区域内无涂膜层，第一磁铁块31位于硅钢片样本上设有涂膜层的区域上，第二磁铁块32位于硅钢片样本无涂膜层的区域上；第一磁铁块31与万用表I的一个测试端连接，第二磁铁块32与万用表I的另一测试端连接。万用表I的测试端连接第一磁铁块31、第二磁铁块32，通过万用表I的测试端与第一磁铁块31、第二磁铁块32的金属导电层接触，金属导电层与涂膜层接触，实现万用表I 的的测试端与硅钢片样本的涂膜层不直接接触，磁铁块本身的绝缘电阻不会影响到涂膜的绝缘电阻。这样就能够方便地测出硅钢片单层涂膜的绝缘电阻的大小。本技术方案不会对涂膜层造成损坏。同时万用表I的测试端是通过磁铁块的外壳与涂膜层接触而形成测试回路，接触的紧密度是靠磁铁块与测试硅钢板的之间的磁力来实现的，保证了测试方法有良好的重复性和再现性。满足硅钢片涂料生产厂家定量判定涂料成膜后的绝缘性能的要求。金属导电层采用黄铜层，金属导电层也可以采用不锈钢层或其他导电的金属合金层，金属导电层的厚度为l_3mm。参照图2，磁铁块3为圆柱形的磁铁块，磁铁块3的剖面呈矩形。磁铁块3的外部包覆有金属导电层后，磁铁块3的外部直径为8_12mm,优选为10_。硅钢片样本的宽度为30-50mm，长度为80_120mm，优选硅钢片样本尺寸为 40*100(±5)mm。相比现有技术，本技术测试所需的硅钢片样本的面积小，这在实验室中易于制作。万用表I采用指针式万用表，也可以采用数字式万用表。万用表I的两个测试端分别为红表笔测试端11、黑表笔测试端12，万用表I采用指针式万用表I时，红表笔测试端连接第一磁铁块31 ;黑表笔测试端连接第二磁铁块32 ;万用表I采用数字式万用表I时，黑表笔测试端连接第一磁铁块31 ;红表笔测试端连接第二磁铁块32。以上显示和描述了本技术的基本原理和主要特征和本技术的优点。本行业的技术人员应该了解，本技术不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本技术的原理，在不脱离本技术精神和范围的前提下，本技术还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本技术范围内。本技术要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种硅钢片涂膜绝缘电阻测试装置，包括一万用表，所述万用表连接两个测试端，其特征在于，还包括两个磁铁块，分别为第一磁铁块、第二磁铁块，所述第一磁铁块、第二磁铁块的外部分别包覆有金属导电层；所述万用表的一个测试端连接所述第一磁铁块，所述万用表的另一测试端连接所述第二磁铁块。

【技术特征摘要】
1.一种硅钢片涂膜绝缘电阻测试装置，包括一万用表，所述万用表连接两个测试端，其特征在于，还包括两个磁铁块，分别为第一磁铁块、第二磁铁块，所述第一磁铁块、第二磁铁块的外部分别包覆有金属导电层；所述万用表的一个测试端连接所述第一磁铁块，所述万用表的另一测试端连接所述第二磁铁块。2.根据权利要求I所述的一种硅钢片涂膜绝缘电阻测试装置，其特征在于，所述金属导电层采用黄铜层，所述金属导电层的厚度为l_3mm。3.根据权利要求I所述的一种硅钢片涂膜绝缘电阻测试装置，其特征在于，所述金属导电层采用不锈钢层，所述金属导电层的厚度为l_3mm。4.根据权利要求2或3所述的一种硅钢片涂膜绝缘电阻测试装置，其特征在于，所述磁铁块为圆柱形的...

【专利技术属性】
技术研发人员：马磊明，王讯华，马欢吉，王贵仁，
申请(专利权)人：上海振泰化工有限公司，上海振泰新材料科技有限公司，
类型：实用新型
国别省市：