成膜装置及靶装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种成膜装置及靶装置，可提高对基板的成膜的生产率。成膜装置(1)具备作为成膜材料的靶(25)和与该靶(25)接触并进行冷却的板状冷却板(22)，靶(25)和冷却板(22)通过夹具(27)固定，冷却板(22)的第2面(22b)与第1面(22a)相比暴露于高压的气氛中，并且第1面(22b)的中央部(22c)向靶(25)侧位移而按压靶(25)，该第1面(22a)是与靶(25)对置的面，该第2面(22b)是第1面(22a)的相反侧的面。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种成膜装置及靶装置。
技术介绍
已广泛地公开有，利用当使高速度的原子或离子冲撞靶表面时构成靶的原子被放出至空间的现象而在基板的表面上形成薄膜的溅射装置。溅射装置将由膜的原材料构成的靶作为阴极，将基板或真空容器壁作为阳极，在这两个电极之间施加电压来产生放电，由此使产生的等离子体中的离子朝向该靶加速。而且，使通过该离子冲撞靶而被弹出的靶构成原子等附着或堆积于基板上，由此形成薄膜。在这种成膜装置中，靶由于在溅射时从离子受到冲击而变得高温，因此有可能会熔解或破损。并且，在溅射装置中，为了得到高生产率，加快成膜速度是不可缺少的，因此需要加大投入到靶中的功率。但是，若加大投入功率则靶会变得高温。因此，一般进行在靶的背面以与靶接触的方式配置冷却板而对靶进行冷却。例如，专利文献1中公开有如下有关成膜装置的技术：在冷却板(靶架)的上表面载置靶，冷却板和靶被弹性夹子式的固定工具固定。专利文献1：日本特开2004-193083号公报然而，在如专利文献1所示那样的通过制动工具固定冷却板和靶的方法中，在由制动工具固定的周边部能够确保粘附性而有效地对靶进行冷却，但在中央部很难确保粘附性，不能有效地对靶进行冷却。因此，投入到靶中的功率被限制，有可能降低在基板上成膜时的生产率。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种可提高在基板上成膜时的生产率的成膜装置及靶装置。为了解决上述课题，本专利技术的成膜装置，其具备作为成膜材料的靶和与该靶接触并进行冷却的板状的冷却板，该成膜装置的特征在于，靶和冷却板通过夹具固定，冷却板的第2面与第1面相比暴露于高压的气氛中，并且第1面的中央部向靶侧位移而按压靶，该第1面是与靶对置的面，该第2面是第1面的相反侧的面，。在这种成膜装置中，通过对作用于冷却板上的第1面及第2面中的每个面的压力赋予差，从而使冷却板向低压侧即第1面侧位移。进而，通过使第1面的中央部向靶侧位移，从而使冷却板按压靶的中央部。由此，即使在当通过夹具固定靶和冷却板时难以确保靶与冷却板的粘附性的靶的中央部中，也变得能够确保其粘附性，因此能够将靶中产生的热有效地传热至冷却板。其结果，能够提高投入到靶中的功率，并能够提高在基板上成膜时的生产率。并且，冷却板可以在第1面及第2面中的至少一方具有槽部。由此，能够提高对靶的加压力，并且能够使对靶的加压力均匀化。并且，冷却板可以具有环绕第1面的中央部及第2面的中央部中的至少一方的环状的槽部。由此，能够更有效地提高对靶的加压力，并且能够使对靶的加压力均匀化。并且，可以是，冷却板的第2面暴露于大气压气氛中，第1面暴露于真空气氛中。由此，冷却板因真空气氛与大气压气氛的气压差而向气压较低的第1面侧位移。在基板上形成薄膜时，靶的一面通常配置于真空气氛中，因此通过将第1面的相反侧的面即第2面暴露于大气压中，由此能够在第1面与第2面之间产生压力差，该第1面是与靶对置的面。其结果，能够以简单的结构使冷却板向靶侧位移。并且，在靶与冷却板之间，可以配置有与靶和冷却板的相互对置的面相接触的热传导性薄膜部件。在该靶装置中，即使在靶及冷却板相互对置的对置面上有凹凸时，导电性薄膜部件也会填埋由该凹凸形成的空隙，因此能够充分地确保靶与冷却板的接触面积。其结果，可获得良好的靶与冷却板之间的热传导性。本专利技术的靶装置具备作为成膜材料的靶和与该靶接触并进行冷却的板状的冷却板，该靶装置的特征在于，靶和冷却板通过夹具固定，冷却板在与靶对置的面即第1面及第1面的相反侧的面即第2面的至少一方具有槽部。在这种靶装置中，通过对作用于冷却板上的第1面及第2面中的每个面的压力赋予差，从而使冷却板向低压侧即第1面侧位移。进而，通过使第1面的中央部向靶侧位移，从而使冷却板按压靶的中央部。由此，即使在当通过夹具固定靶和冷却板时难以确保靶与冷却板的粘附性的靶的中央部，也变得能够确保其粘附性，因此能够将靶中产生的热有效地传热至冷却板。其结果，能够提高投入到靶中的功率，并能够提高在基板上成膜时的生产率。另外，在本专利技术的靶装置中，由于在第1面及第2面中的至少一方具有槽部，因此能够提高对靶的加压力，并且能够使对靶的加压力均匀化。并且，冷却板可以具有环绕第1面的中央部及第2面的中央部的中的至少一方的环状的槽部。由此，能够更有效地提高对靶的加压力，并且能够使对靶的加压力均匀化。专利技术效果根据本专利技术的成膜装置及靶装置，能够提高在基板上成膜时的生产率。附图说明图1是表示本实施方式所涉及的成膜装置的结构的侧面剖视图。图2是表示图1所示的靶装置的侧面剖视图。图3是表示图2所示的冷却板的俯视图。图4是表示图2所示的冷却板的侧面剖视图。图5是表示图1所示的对真空容器内进行减压时的冷却板的形状的侧面剖视图。图6是表示试验片1及试验片2的侧面剖视图。图7是表示对试验片1进行加压时的在X轴方向及Y轴方向上的Z轴方向的翘曲量的图。图8是表示对试验片2进行加压时的在X轴方向及Y轴方向上的Z轴方向的翘曲量的图。图9是表示另一实施方式所涉及的冷却板的俯视图。图10是表示另一实施方式所涉及的冷却板的侧面剖视图。符号说明1成膜装置，2靶装置，3基板架，10真空容器，11电源，12排气机构，13气体导入机构，21绝缘体，22冷却板，22b第2面，22a第1面，22c中央部，22d按压面，22e周边部，22f、41、42槽部，22g配管，23凸缘，24石墨片，25靶，27夹具，31基板，d位移量。具体实施方式参考附图对本专利技术所涉及的靶装置及成膜装置的优选实施方式进行说明。另外，在说明中对相同要件或具有相同功能的要件使用相同符号，并省略重复说明。图1是表示本实施方式所涉及的成膜装置的结构的侧面剖视图。图2是表示图1所示的靶装置的侧面剖视图。图1～图5中示出XYZ直角坐标系，Z轴方向对应上下方向。本实施方式所涉及的靶装置2能够应用于基于所谓的溅射法进行成膜的装置。如图1所示，这种成膜装置1主要具有真空容器10、电源11、排气机构12、气体导入机构13、基板架3及靶装置2。真空容器10由导电性材料形成，通过后述的电源11被施加正电压。电源11对真空容器10施加正电压，并对靶25施加负电压。排气机构12包括未图示的真空泵和阀，并配置于真空容器10的外侧。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种成膜装置，具备作为成膜材料的靶和与该靶接触并进行冷却的板状的冷却板，该成膜装置的特征在于，所述靶和所述冷却板通过夹具固定，所述冷却板的第2面与第1面相比暴露于高压的气氛中，并且所述第1面的中央部向所述靶侧位移而按压所述靶，该第1面是与所述靶对置的面，该第2面是所述第1面的相反侧的面。

【技术特征摘要】
1.一种成膜装置，具备作为成膜材料的靶和与该靶接触并进行冷却的
板状的冷却板，该成膜装置的特征在于，
所述靶和所述冷却板通过夹具固定，
所述冷却板的第2面与第1面相比暴露于高压的气氛中，并且所述第1
面的中央部向所述靶侧位移而按压所述靶，该第1面是与所述靶对置的面，
该第2面是所述第1面的相反侧的面。
2.如权利要求1所述的成膜装置，其特征在于，
所述冷却板在所述第1面及第2面中的至少一方具有槽部。
3.如权利要求1所述的成膜装置，其特征在于，
所述冷却板具有环绕所述第1面的中央部及所述第2面的中央部中的
至少一方的环状的槽部。
4.如权利要求1～3中任一项所述的成膜装置，其特征在于，
所述冷...

【专利技术属性】
技术研发人员：岩田宽，
申请(专利权)人：住友重机械工业株式会社，
类型：发明
国别省市：